물 없는 오프셋 플레이트 생산 원리 - 광개시제
워터리스 오프셋 플레이트의 제조는 플레이트의 감광층 구성에 따라 포지티브 타입(포지티브 그림으로 노출)과 네거티브 타입(네거티브 그림으로 노출)으로 나뉩니다. 네거티브 이미지 노출 후에는 현상 후 실리콘 고무의 노출된 부분이 떨어져 나와 프로 잉크층(그래픽)이 노출되고 실리콘 고무의 미노출 부분(블랭크)이 유지되며, 반대로 포지티브 이미지 노출 후에는 감광층의 노출된 부분이 실리콘 고무층과 교차 결합하여 반발성 잉크층이 되고 실리콘 고무층의 미노출 부분이 제거되어 프로 잉크층이 형성되는 것이 네거티브 이미지 노출의 특징이다. 그림 3-12는 워터리스 오프셋 플레이트 제작 과정을 설명하기 위한 예시로서 네거티브 이미지 노출을 보여줍니다.
워터리스 오프셋 인쇄를 위한 네거티브 이미지 플레이트 제작 공정의 개략도
워터리스 오프셋 인쇄는 주로 부가가치 포장, 플라스틱 카드, 자체 접착 라벨, 3D, 볼록 거울 모양 적용, CD/DVD, 목재 제품 플라스틱 밀봉 등과 같이 고품질, 소량 인쇄 및 짧은 배송 시간에 적합합니다. 특히 일부 극한의 인쇄 분야에 적용할 가치가 있습니다.
워터리스 오프셋 플레이트의 빈 부분은 수분층으로 보호되지 않고 실리콘 고무 층의 낮은 표면 장력에 의한 잉크 제거에 의존하기 때문에 워터리스 오프셋 잉크는 높은 응집력, 즉 플레이트가 오염되지 않도록 높은 점도가 필요합니다(플레이트의 빈 부분에 잉크가 묻지 않음).
워터리스 오프셋 인쇄에는 분수 용액이 필요하지 않으며 잉크 공정이 한 번만 필요합니다. 따라서 잉크 공정의 그래픽 부분이 잉크를 잘 흡수하고 블랭크 부분이 잉크를 튕겨내는 것이 필요합니다.
잉크의 표면 에너지 매개 변수에 따라 그래픽 부분의 표면 에너지가 잉크보다 높고 빈 부분의 표면 에너지가 잉크보다 낮은 한. 재료 선택에서 끈적 끈적한 부분의 잉크가 더러워지는 것을 방지하기 위해 일반적으로 표면 에너지의 빈 부분이 잉크의 표면 에너지보다 훨씬 낮습니다. 재료의 선택에서 끈적 끈적한 부분의 잉크가 더러워지는 것을 방지하기 위해 일반적으로 표면 에너지의 빈 부분이 잉크의 표면 에너지보다 훨씬 낮습니다. 요즘에는 빈 부분이 실리콘 고무로 구성된 보다 성숙한 레벨 프리 버전은 표면 에너지가 매우 낮습니다. 그래픽 부분은 친유성 잉크 전달 특성이 좋은 폴리에스테르에서 선택됩니다.
인쇄 공정에서 워터리스 오프셋 인쇄는 잉크 롤러 및 기타 부드러운 고무 롤러 (고무 재료) 히스테리시스 원이 존재하기 때문에 내부 소비로 인해 발생하는 열로 인해 잉크 온도가 상승하고 표면 에너지가 감소합니다. 표면 에너지가 어느 정도 감소하면 블랭크 부분과 잉크 사이의 정상적인 표면 에너지 관계를 파괴하여 블랭크 부분이 더러워질 수 있습니다. 따라서 인쇄기 구성에서 개선이 이루어져야 합니다. 잉크의 온도를 제어하기 위해 부드러운 고무 롤러 중공 금속 끈 잉크 롤러 사이에 공기 또는 물 및 기타 냉장 매체를 통해 금속 끈 잉크 롤러에 삽입 할 수 있습니다.
특수 잉크를 사용하는 워터리스 오프셋 인쇄, 기본 구성 및 전통적인 오프셋 인쇄 잉크는 색상 선택과 유사하며 주요 차이점은 재료 부품에 연결된 수지에 사용되는 잉크입니다. 물없는 오프셋 인쇄 잉크와 전통적인 오프셋 인쇄 잉크는 다음과 같은 특수 속성과 비교됩니다.
잉크와 실리콘 층 사이의 힘보다 클 정도로 상대적으로 큰 잉크 응집력을 제공하기 위해 기존의 오프셋 잉크보다 점도와 점도가 높아야 실리콘 층이 소유 성을 나타내므로 실리콘 고무 층의 잉크와 비 그래픽 부분이 반발하여 물없는 인쇄를 달성 할 수 있습니다.
물없는 오프셋 인쇄의 특수 유변학 적 특성에 적응해야합니다. 워터리스 오프셋 인쇄 잉크는 점도가 높기 때문에 잉크 롤러와 인쇄판 사이를 순환하기가 더 어렵 기 때문에 잉크가 더 나은 유변학 적 특성을 갖도록 특별한 디자인이 필요합니다.
워터리스 오프셋 인쇄는 온도의 특수한 영향 때문에 온도 적응 범위가 더 넓은 것이 바람직합니다.
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| 광개시제 TMO | CAS 270586-78-2 |
| 광개시제 PD-01 | CAS 579-07-7 |
| 광개시제 PBZ | CAS 2128-93-0 |
| 광개시제 OXE-02 | CAS 478556-66-0 |
| 광개시제 OMBB | CAS 606-28-0 |
| 광개시제 MPBZ(6012) | CAS 86428-83-3 |
| 포토 이니시에이터 MBP | CAS 134-84-9 |
| 광개시제 MBF | CAS 15206-55-0 |
| 광개시제 LAP | CAS 85073-19-4 |
| 광개시제 ITX | CAS 5495-84-1 |
| 광개시제 EMK | CAS 90-93-7 |
| 광개시제 EHA | CAS 21245-02-3 |
| 광개시제 EDB | CAS 10287-53-3 |
| 광개시제 DETX | CAS 82799-44-8 |
| 광개시제 CQ / 캄포퀴논 | CAS 10373-78-1 |
| 광개시제 CBP | CAS 134-85-0 |
| 광개시제 BP / 벤조페논 | CAS 119-61-9 |
| 광개시제 BMS | CAS 83846-85-9 |
| 포토이니시에이터 938 | CAS 61358-25-6 |
| 포토이니시에이터 937 | CAS 71786-70-4 |
| 포토이니시에이터 819 DW | CAS 162881-26-7 |
| 광개시제 819 | CAS 162881-26-7 |
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| 광개시제 754 | CAS 211510-16-6 442536-99-4 |
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| 포토이니시에이터 6976 | CAS 71449-78-0 89452-37-9 108-32-7 |
| 광개시제 379 | CAS 119344-86-4 |
| 광개시제 369 | CAS 119313-12-1 |
| 광개시제 160 | CAS 71868-15-0 |
| 광개시제 1206 | |
| 포토이니시에이터 1173 | CAS 7473-98-5 |