Bagaimana cara mengatasi masalah caking pada powder coating?
Pelapis serbuk memiliki kecenderungan untuk menggumpal pada suhu tertentu, yang terutama disebabkan oleh pelunakan resin, zat perata, dan bahan lain dalam pelapis serbuk saat terkena panas.
Resin pelapis bubuk termoseting sebagai bahan pembentuk film utama adalah polimer organik dengan berat molekul rendah.
Resin ini memiliki sifat fisik, pada suhu yang lebih rendah, itu adalah keadaan kaca yang keras dan rapuh, ketika suhu naik ke tingkat tertentu, resin mulai berubah menjadi elastisitas tertentu dan menghasilkan keadaan adhesi, di bawah suhu ini, resin kembali ke keadaan kaca non-perekat, keadaan kaca resin dan keadaan viskoelastik dari suhu transformasi timbal balik disebut suhu transisi kaca resin.
Resin yang berbeda memiliki suhu transisi kaca yang berbeda, suhu transisi kaca resin epoksi dan resin poliester sekitar 50 derajat Celcius, suhu transisi kaca -zat perata cair di bawah nol derajat Celcius.
Semakin besar jumlah bahan bersuhu transisi kaca rendah yang ditambahkan ke formulasi pelapisan bubuk, semakin rendah suhu transisi kaca sistem. Suhu transisi kaca dari sistem bubuk diposisikan pada sekitar 40 derajat Celcius pada saat produksi, dan suhu ini ditetapkan sebagai suhu yang aman untuk aglomerasi lapisan bubuk.
Peningkatan suhu akan memudahkan produk powder coating menggumpal, jadi bagaimana cara kita mencegah penggumpalan powder coating dalam pekerjaan kita?
Pertama-tama, kita harus menetapkan konsep bahwa
Penggumpalan lapisan bubuk pada suhu tertentu adalah hukum alam. Untuk mencegah penggumpalan lapisan bubuk harus dalam seluruh proses produksi lapisan bubuk seperti penggilingan, pengemasan, penyimpanan dan transportasi, produk pelapis bubuk berada di bawah suhu transisi gelasnya.
Berdasarkan pandangan ini, solusi berikut ini tersedia.
1) Dalam produksi resin poliester, pilih beberapa alkohol atau asam yang dapat meningkatkan suhu transisi gelasnya, atau kurangi jumlah alkohol yang dapat menurunkan suhu transisi gelas resin untuk meningkatkan suhu transisi gelas resin poliester.
(2) Kurangi jumlah polimer suhu transisi kaca rendah yang digunakan dalam desain formulasi pelapisan bubuk, seperti zat perata dan zat pencerah, untuk memastikan bahwa suhu transisi kaca sistem pelapisan bubuk tidak akan berkurang.
(3) Dalam produksi, pecahan yang pecah dari sabuk baja harus didinginkan secukupnya sebelum memasuki proses penggilingan, dan kecepatan pengumpanan harus dikurangi, volume udara yang diinduksi harus ditingkatkan, dan udara masuk harus dilengkapi dengan pendingin udara dingin untuk mengontrol suhu penggilingan. Namun, jika penggilingan sebelum potongan-potongan material yang dihancurkan mendingin, cara yang terakhir tidak akan memainkan peran yang baik, pertimbangkan metode pendinginan paksa bahan puing-puing yang rusak untuk perlakuan suhu rendah, yang lebih efektif daripada penambahan AC.
Musim panas akan datang, dan pelapis bubuk sering kali memiliki kelompok bubuk dan bahkan gumpalan saat digunakan. Ini karena suhu dan kelembaban lingkungan yang tinggi selama produksi, penyimpanan, dan transportasi, dan suhu transisi kaca pelapis bubuk lebih dari 40 derajat. Untuk mencegah pelapisan bubuk dari penggumpalan dan aglomerasi selama proses aplikasi, aspek-aspek berikut harus diperhatikan.
1. Saat memilih resin, gunakan beberapa resin dengan suhu transisi kaca (TG) yang tinggi. Suhu transisi gelas resin epoksi konvensional dan resin poliester adalah sekitar 50 ℃, yang dapat memenuhi permintaan umum. Ketika persyaratan penyimpanan tinggi, resin sintetis dapat mengurangi penggunaan alkohol yang akan mengurangi suhu transisi gelas resin, menyembuhkan epoksi yang tersedia pengawetan amina alisiklik.
2. Dalam desain formulasi pelapisan bubuk untuk mengurangi penggunaan polimer suhu transisi kaca rendah, seperti agen perata, suhu transisi kaca sekitar 30, Anda dapat menambahkan sedikit lebih sedikit. Penambahan plasticizer akan mengurangi kelompok resin yang kaku dan menurunkan TG resin, dan penambahan TGIC yang berlebihan juga akan menurunkan TG resin.
3. Aditif tambahan termasuk zat pengalir bubuk kering dan zat anti penggumpalan tambahan, karbon hitam putih. Komponen utama agen aliran bubuk kering adalah beberapa bahan organik bubuk lilin untuk anti-adhesi. Agen anti-caking terutama milik kelas silikat zat anorganik, dan lembaran dihancurkan bersama dengan penggunaan saringan, dapat memainkan peran dalam mencegah penggumpalan adhesi bubuk. Menambahkan silika terutama berasap, berat jenis ringan, mudah menyerap kelembaban. Oleh karena itu, saat menggunakan untuk membubarkan dengan baik, hindari kelembaban, ditambah warna gelap tidak akan memiliki bintik-bintik putih.
4. Proses produksi terutama mengontrol ekstrusi dan penggilingan dua tautan. Saat mengekstrusi, jalur panjang dan pendinginan fisik kipas dapat secara efektif mengurangi suhu serpihan, dan saat serpihan didinginkan, kemudian digiling. Saat menggiling bubuk, kecepatan pengumpanan dapat dikurangi, dan jumlah udara yang diinduksi dapat ditingkatkan dengan tepat, dan pendingin dapat ditambahkan ke saluran masuk udara untuk mengurangi suhu di dalam pipa jika perlu. Bubuk gerinda, untuk didinginkan hingga di bawah suhu kamar sebelum dikemas. Beberapa pabrik bubuk akan menjadi sekotak bubuk dengan dua kantong dalam kemasan terpisah, tetapi juga untuk mencegah penumpukan bubuk, sampai batas tertentu untuk mencegah penggumpalan bubuk.
5. Bubuk harus disimpan di bengkel yang kedap cahaya dan kering, beberapa produk dengan kilau tinggi dan bunga mengambang yang mudah mengambang harus disimpan di gudang ber-AC, atau dibungkus dengan lapisan aluminium foil di sekitar insulasi produk. Pengangkutan harus menggunakan kendaraan ber-AC atau truk yang ditutupi dengan kain peneduh, bukan truk boks, dan harus menghindari penumpukan benda-benda berat.
Kesimpulan: bahan baku bubuk yang menghadapi suhu tinggi yang mudah menggumpal adalah proses alami, belum tentu merupakan indikator evaluasi bahan baku yang baik atau buruk. Selain anti-caking suhu tinggi, pencegahan kebakaran dan pencegahan bencana dengan menjadi penting, mirip dengan bengkel untuk berhenti merokok, melarang pengisian daya mobil listrik, kabel peralatan yang terpapar, dll., adalah kelalaian kecil yang disebabkan oleh masalah besar.
Cara untuk mengatasi lapisan bubuk yang mengeras.
1. Dalam produksi resin poliester, pilihlah alkohol atau asam yang dapat meningkatkan suhu transisi gelasnya, atau kurangi jumlah alkohol yang dapat mengurangi suhu transisi gelas resin untuk meningkatkan suhu transisi gelas resin poliester.
2. Dalam perencanaan formulasi pelapisan bubuk, kurangi jumlah polimer suhu transisi kaca rendah, seperti agen perata dan agen berwajah panjang, untuk memastikan bahwa suhu transisi kaca sistem pelapisan tidak turun.
3. Dalam hal produksi, pecahan yang pecah harus didinginkan secara memadai sebelum memasuki proses penggilingan, dan kecepatan penggilingan harus dikurangi dan volume udara harus ditingkatkan untuk mengontrol suhu penggilingan.
Bahan baku Tinta UV: Monomer UV Produk seri yang sama
Polythiol / Polymercaptan | ||
Lcnamer® DMES Monomer | Bis (2-merkaptoetil) sulfida | 3570-55-6 |
Lcnamer® DMPT Monomer | THIOCURE DMPT | 131538-00-6 |
Lcnamer® PETMP Monomer | PENTAERITRITOL TETRA (3-MERKAPTOPROPIONAT) | 7575-23-7 |
Lcnamer® PM839 Monomer | Polioksi (metil-1,2-etanadiil) | 72244-98-5 |
Monomer Monofungsional | ||
Lcnamer® HEMA Monomer | 2-hidroksietil metakrilat | 868-77-9 |
Lcnamer® HPMA Monomer | 2-Hidroksipropil metakrilat | 27813-02-1 |
Lcnamer® THFA Monomer | Tetrahidrofurfuril akrilat | 2399-48-6 |
Lcnamer® HDCPA Monomer | Diklopentenil akrilat terhidrogenasi | 79637-74-4 |
Lcnamer® DCPMA Monomer | Dihydrodicyclopentadienyl methacrylate | 30798-39-1 |
Lcnamer® DCPA Monomer | Dihydrodicyclopentadienyl Acrylate | 12542-30-2 |
Lcnamer® DCPEMA Monomer | Dicyclopentenyloxyethyl Methacrylate | 68586-19-6 |
Monomer Lcnamer® DCPEOA | Dicyclopentenyloxyethyl Acrylate | 65983-31-5 |
Monomer Lcnamer® NP-4EA | (4) nonilfenol teretoksilasi | 50974-47-5 |
Lcnamer® LA Monomer | Lauril akrilat / Dodesil akrilat | 2156-97-0 |
Monomer Lcnamer® THFMA Monomer | Metakrilat tetrahidrofurfuril | 2455-24-5 |
Lcnamer® PHEA Monomer | 2-FENOKSIETIL AKRILAT | 48145-04-6 |
Lcnamer® LMA Monomer | Lauril metakrilat | 142-90-5 |
Lcnamer® IDA Monomer | Isodecyl acrylate | 1330-61-6 |
Lcnamer® IBOMA Monomer | Isobornil metakrilat | 7534-94-3 |
Lcnamer® IBOA Monomer | Isobornil akrilat | 5888-33-5 |
Monomer Lcnamer® EOEOEA | 2- (2-Etoksietoksi) etil akrilat | 7328-17-8 |
Monomer multifungsi | ||
Lcnamer® DPHA Monomer | Dipentaeritritol heksaakrilat | 29570-58-9 |
Monomer Lcnamer® DI-TMPTA | DI (TRIMETILOLPROPANA) TETRAAKRILAT | 94108-97-1 |
Monomer akrilamida | ||
Lcnamer® ACMO Monomer | 4-akrilamorfolin | 5117-12-4 |
Monomer di-fungsional | ||
Monomer Lcnamer®PEGDMA | Poli (etilen glikol) dimetakrilat | 25852-47-5 |
Monomer Lcnamer® TPGDA Monomer | Tripropilen glikol diakrilat | 42978-66-5 |
Lcnamer® TEGDMA Monomer | Trietilen glikol dimetakrilat | 109-16-0 |
Monomer Lcnamer® PO2-NPGDA | Propoksilat neopentilen glikol diakrilat | 84170-74-1 |
Monomer Lcnamer® PEGDA Monomer | Polietilen Glikol Diakrilat | 26570-48-9 |
Lcnamer® PDDA Monomer | Ftalat dietilen glikol diakrilat | |
Monomer Lcnamer® NPGDA | Neopentil glikol diakrilat | 2223-82-7 |
Lcnamer® HDDA Monomer | Hexamethylene Diacrylate | 13048-33-4 |
Monomer Lcnamer® EO4-BPADA | TERETOKSILASI (4) BISPHENOL A DIAKRILAT | 64401-02-1 |
Monomer Lcnamer® EO10-BPADA | TERETOKSILASI (10) BISPHENOL A DIAKRILAT | 64401-02-1 |
Lcnamer® EGDMA Monomer | Etilen glikol dimetakrilat | 97-90-5 |
Lcnamer® DPGDA Monomer | Dipropilen Glikol Dienoat | 57472-68-1 |
Monomer Lcnamer® Bis-GMA | Bisphenol A Glisidil Metakrilat | 1565-94-2 |
Monomer Trifungsional | ||
Monomer Lcnamer® TMPTMA | Trimetilolpropana trimetakrilat | 3290-92-4 |
Monomer Lcnamer® TMPTA Monomer | Triakrilat trimetilolpropana | 15625-89-5 |
Lcnamer® PETA Monomer | Pentaeritritol triakrilat | 3524-68-3 |
Lcnamer® GPTA (G3POTA) Monomer | GLISERIL PROPOKSI TRIAKRILAT | 52408-84-1 |
Monomer Lcnamer® EO3-TMPTA | Triakrilat trimetilolpropana teretoksilasi | 28961-43-5 |
Monomer Fotoresis | ||
Lcnamer® IPAMA Monomer | 2-isopropil-2-adamantil metakrilat | 297156-50-4 |
Lcnamer® ECPMA Monomer | 1-Etilsiklopentil Metakrilat | 266308-58-1 |
Monomer Lcnamer® ADAMA | 1-Adamantil Metakrilat | 16887-36-8 |
Monomer metakrilat | ||
Monomer Lcnamer® TBAEMA | 2- (Tert-butilamino) etil metakrilat | 3775-90-4 |
Lcnamer® NBMA Monomer | n-Butil metakrilat | 97-88-1 |
Lcnamer® MEMA Monomer | 2-Metoksietil Metakrilat | 6976-93-8 |
Lcnamer® i-BMA Monomer | Isobutil metakrilat | 97-86-9 |
Lcnamer® EHMA Monomer | 2-Etilheksil metakrilat | 688-84-6 |
Monomer Lcnamer® EGDMP Monomer | Etilen glikol Bis (3-merkaptopropionat) | 22504-50-3 |
Lcnamer® EEMA Monomer | 2-etoksietil 2-metilprop-2-enoat | 2370-63-0 |
Lcnamer® DMAEMA Monomer | N, M-Dimetilaminoetil metakrilat | 2867-47-2 |
Lcnamer® DEAM Monomer | Dietilaminoetil metakrilat | 105-16-8 |
Lcnamer® CHMA Monomer | Sikloheksil metakrilat | 101-43-9 |
Lcnamer® BZMA Monomer | Benzil metakrilat | 2495-37-6 |
Lcnamer® BDDMP Monomer | 1,4-Butanediol Di (3-merkaptopropionat) | 92140-97-1 |
Lcnamer® BDDMA Monomer | 1,4-Butanedioldimetakrilat | 2082-81-7 |
Lcnamer® AMA Monomer | Alil metakrilat | 96-05-9 |
Lcnamer® AAEM Monomer | Asetilasetoksietil metakrilat | 21282-97-3 |
Monomer Akrilat | ||
Lcnamer® IBA Monomer | Isobutil akrilat | 106-63-8 |
Lcnamer® EMA Monomer | Etil metakrilat | 97-63-2 |
Lcnamer® DMAEA Monomer | Dimetilaminoetil akrilat | 2439-35-2 |
Lcnamer® DEAEA Monomer | 2- (dietilamino) etil prop-2-enoat | 2426-54-2 |
Lcnamer® CHA Monomer | sikloheksil prop-2-enoat | 3066-71-5 |
Lcnamer® BZA Monomer | benzil prop-2-enoat | 2495-35-4 |