Quels sont les six additifs couramment utilisés dans les vernis UV ?
Les matériaux de base UV cationiques et UV libres sont très différents, mais leur composition globale est similaire. Le système cationique est principalement constitué de matériaux époxy, mais la vitesse de réaction de l'époxy bisphénol A ordinaire est lente, avec davantage d'applications de matériaux époxy / oxétane alicycliques ; la commercialisation du système radicalaire est maintenant très mature, avec des matériaux acrylates modifiés époxy / polyester / polyuréthane qui peuvent fournir un plus grand choix de solutions.
Les systèmes cationiques UV ont moins d'options de matières premières que les systèmes à radicaux libres, et les résines époxydes alicycliques à faible viscosité sont les principaux polymères. Prenons l'exemple des résines époxydes alicycliques.
Le TTA21, dont les spécifications de pureté varient, est le produit le plus courant dans l'industrie du vernis UV. Comme l'application des vernis UV cationiques continue à se développer de manière significative, il est prévu que la quantité de résines époxydes alicycliques représentée par le TTA21 augmente.
Dans les applications spécifiques des encres et des revêtements, outre le fait qu'ils ont tous deux besoin de la lumière UV pour fournir l'énergie de durcissement, les deux systèmes présentent des différences majeures en termes de performances et de caractéristiques de réaction.
1. Effet de blocage de l'oxygène
Le système cationique UV n'a pas d'effet de blocage de l'oxygène, mais craint davantage l'eau, l'humidité affectera l'efficacité du durcissement du système cationique ; les radicaux libres UV au contraire, par l'influence du blocage de l'oxygène.
2. Adhésion au substrat
En général, dans les cas où il est plus difficile d'adhérer à la surface du substrat, comme le verre, le métal ou le plastique haute densité, le cation UV est plus efficace que la base libre d'UV.
3. Taux de rétrécissement du volume
Le taux de rétrécissement de la formulation du système de radical libre UV est généralement supérieur à 10%, tandis que le système de cation UV peut contrôler le taux de rétrécissement de 1-3%, ce qui constitue une bonne solution pour résoudre le problème du rétrécissement du volume.
4. Caractéristiques de durcissement à l'obscurité
Le système de cation UV peut continuer à réagir à la couche interne après l'arrêt de l'irradiation de la source lumineuse, pour compléter le matériau après le durcissement, c'est la caractéristique de durcissement sombre, très appropriée pour les applications de revêtement épais, le chauffage du cation après la vitesse de durcissement est considérablement utile ; le radical libre UV est un système de réaction de type stop-and-go.
5. Sécurité des contacts
Le degré de réaction du système de cation UV est proche de 100%, la sécurité peut être certifiée par les tests REACH / FDA, et peut être utilisée dans l'emballage alimentaire et d'autres domaines connexes.
6. Vitesse de durcissement de la lumière
En général, la vitesse de durcissement du système radicalaire UV est supérieure à celle du système cationique, affecté par des produits bloquant l'oxygène, le séchage de la surface cationique sera plus rapide, mais la vitesse de séchage réelle n'est pas aussi rapide que celle du radical libre, vous pouvez promouvoir la réaction en chauffant, et finalement atteindre un très bon degré d'achèvement.
Notes de formulation
Le système de cation UV peut être mélangé au système de radical libre UV dans n'importe quelle proportion, appelé système hybride UV, ce qui peut améliorer la vitesse de durcissement relative du cation UV et le retrait du radical libre UV, affecté par la barrière à l'oxygène et d'autres défauts, la même épaisseur de film de la différence d'énergie de durcissement du système n'est pas grande.
Le système de cation UV repose sur l'initiateur généré par l'acide fort de Lewis pour réaliser le point actif de la réaction d'ouverture de cycle, la formule affectera généralement l'activité de l'initiateur du matériau, qui est principalement constitué de pigments organiques azoïques (pouvant être modifiés pour assurer la protection), et de radicaux libres mélangés à TPO/819/907 et à d'autres structures contenant des éléments P, S et autres de l'initiateur, et similaire à 115 amine à plusieurs niveaux.
L'humidité a une influence sur le durcissement du système cationique UV ; il convient de contrôler l'humidité ambiante dans les limites de 50%, tandis que le chauffage accélère la vitesse de réaction.
Photoinitiateur UV Produits de la même série
| Nom du produit | CAS NO. | Nom chimique |
| Sinocure® TPO | 75980-60-8 | Oxyde de diphényl(2,4,6-triméthylbenzoyl)phosphine |
| Sinocure® TPO-L | 84434-11-7 | Phénylphosphinate d'éthyle (2,4,6-triméthylbenzoyle) |
| Sinocure® 819/920 | 162881-26-7 | Oxyde de phénylbis(2,4,6-triméthylbenzoyl)phosphine |
| Sinocure® 819 DW | 162881-26-7 | Irgacure 819 DW |
| Sinocure® ITX | 5495-84-1 | 2-Isopropylthioxanthone |
| Sinocure® DETX | 82799-44-8 | 2,4-Diéthyl-9H-thioxanthen-9-one |
| Sinocure® BDK/651 | 24650-42-8 | 2,2-Diméthoxy-2-phénylacétophénone |
| Sinocure® 907 | 71868-10-5 | 2-Méthyl-4′-(méthylthio)-2-morpholinopropiophénone |
| Sinocure® 184 | 947-19-3 | 1-Hydroxycyclohexyl phénylcétone |
| Sinocure® MBF | 15206-55-0 | Benzoylformate de méthyle |
| Sinocure® 150 | 163702-01-0 | Benzène, (1-méthyléthényl)-, homopolymère, dérivés ar-(2-hydroxy-2-méthyl-1-oxopropyl) |
| Sinocure® 160 | 71868-15-0 | Alpha-hydroxy-cétone difonctionnelle |
| Sinocure® 1173 | 7473-98-5 | 2-Hydroxy-2-méthylpropiophénone |
| Sinocure® EMK | 90-93-7 | 4,4′-Bis(diéthylamino) benzophénone |
| Sinocure® PBZ | 2128-93-0 | 4-Benzoylbiphényle |
| Sinocure® OMBB/MBB | 606-28-0 | 2-benzoylbenzoate de méthyle |
| Sinocure® 784/FMT | 125051-32-3 | BIS(2,6-DIFLUORO-3-(1-HYDROPYRROL-1-YL)PHÉNYL)TITANOCÈNE |
| Sinocure® BP | 119-61-9 | Benzophénone |
| Sinocure® 754 | 211510-16-6 | Acide benzène-acétique, alpha-oxo-, Oxydi-2,1-éthanediyl ester |
| Sinocure® CBP | 134-85-0 | 4-Chlorobenzophénone |
| Sinocure® MBP | 134-84-9 | 4-Méthylbenzophénone |
| Sinocure® EHA | 21245-02-3 | 4-Diméthylaminobenzoate de 2 éthylhexyle |
| Sinocure® DMB | 2208-05-1 | Benzoate de 2-(Diméthylamino)éthyle |
| Sinocure® EDB | 10287-53-3 | 4-diméthylaminobenzoate d'éthyle |
| Sinocure® 250 | 344562-80-7 | (4-Méthylphényl) [4-(2-méthylpropyl)phényl] iodoniumhexafluorophosphate |
| Sinocure® 369 | 119313-12-1 | 2-Benzyl-2-(diméthylamino)-4′-morpholinobutyrophénone |
| Sinocure® 379 | 119344-86-4 | 1-Butanone, 2-(diméthylamino)-2-(4-méthylphényl)méthyl-1-4-(4-morpholinyl)phényl- |
| Sinocure® 938 | 61358-25-6 | Hexafluorophosphate de bis(4-tert-butylphényl)iodonium |
| Sinocure® 6992 MX | 75482-18-7 & 74227-35-3 | Photoinitiateur cationique UVI-6992 |
| Sinocure® 6992 | 68156-13-8 | Hexafluorophosphate de diphényl(4-phénylthio)phénylsufonium |
| Sinocure® 6993-S | 71449-78-0 & 89452-37-9 | Sels de triarylsulfonium hexafluoroantimonates de type mixte |
| Sinocure® 6993-P | 71449-78-0 | 4-Thiophényl phényl diphényl sulfonium hexafluoroantimonate |
| Sinocure® 1206 | Photoinitiateur APi-1206 |