자외선 경화 코팅에 알리사이클릭 에폭시 수지를 적용하는 방법은 무엇입니까?
UV 경화 기술은 크게 UV 자유 라디칼 및 UV 양이온 시스템으로 나뉘며 금속 캔, 압연 강판 및 연 포장 산업에서 우수한 가공 특성을 가진 UV 양이온 코팅이 널리 사용되며 주요 시장은 현재 유럽과 미국에서도 사용되고 있습니다.
자외선 양이온계와 자외선 자유 라디칼계는 매우 다르지만 전체적인 구성은 비슷합니다. 양이온 시스템은 에폭시 소재가 주를 이루지만 일반 비스페놀 A 타입 에폭시는 반응 속도가 느리고 알리사이클릭 에폭시/옥세탄 타입 소재가 더 많이 사용되고 있으며, 자유 라디칼 시스템은 현재 상업적으로 매우 성숙하여 에폭시/폴리에스테르/폴리우레탄 변성 아크릴레이트 소재가 더 다양한 솔루션을 제공하고 있습니다.
UV 양이온 시스템은 자유 라디칼 시스템에 비해 더 적은 종류의 원료를 선택할 수 있으며, 폴리머는 주로 저점도 알리사이클릭 에폭시 수지입니다. 알리사이클릭 에폭시 수지를 예로 들어보겠습니다.
다양한 순도 사양의 TTA21은 UV 코팅 업계에서 가장 지배적인 제품입니다. 양이온성 UV 코팅의 적용이 지속적으로 크게 증가함에 따라 TTA21로 대표되는 알리사이클릭 에폭시 수지의 사용량도 증가할 것으로 예상됩니다.
잉크/코팅의 특정 제품 적용에서 두 시스템 모두 경화 에너지를 제공하기 위해 자외선이 필요할 뿐만 아니라 성능과 반응 특성에서 큰 차이를 보입니다.
1. 산소 차단 효과
UV 양이온 시스템은 산소 차단 효과가 없지만 물을 더 두려워하고 수분이 양이온 시스템의 경화 효율에 영향을 미치며 UV 자유 라디칼은 그 반대이며 산소 차단에 더 많은 영향을받습니다.
2. 기판 접착력
일반적으로 유리/금속/고밀도 플라스틱과 같이 기판 표면에 접착하기 어려운 소재의 경우 UV 프리 베이스보다 UV 양이온이 접착 성능이 더 우수합니다.
3. 볼륨 축소율
UV 자유 라디칼 시스템 제형 경화 수축률은 일반적으로 10% 이상이며 UV 양이온 시스템은 1-3%의 수축률을 제어 할 수 있으며 체적 수축을 해결하는 데 좋은 솔루션입니다.
4. 다크 경화 특성
UV 양이온 시스템은 광원 조사를 중지 한 후에도 내부 층에 계속 반응하여 경화 후 재료를 완성 할 수 있으며, 이것은 어두운 경화 특성으로 두꺼운 코팅 응용 분야에 매우 적합하며 경화 속도 후 양이온을 가열하는 것이 크게 도움이되며 UV 자유 라디칼은 정지 및 이동 반응 시스템입니다.
5. 연락처 안전
UV 양이온 시스템 반응 정도는 100%에 가깝고 안전성은 REACH / FDA 테스트 인증이 가능하며 식품 포장 및 기타 관련 분야에서 사용할 수 있습니다.
6. 광 경화 속도
일반적으로 산소 차단 제품의 영향을받는 양이온 시스템보다 UV 자유 라디칼 시스템 경화 속도 양이온 표면 건조는 더 빠르지 만 실제 건조 속도는 자유 라디칼만큼 빠르지 않으며 가열로 반응을 촉진 할 수 있으며 결국 매우 좋은 완성도에 도달 할 수 있습니다.
공식화 참고 사항
UV 양이온 시스템은 UV 하이브리드 시스템이라고하는 UV 자유 라디칼 시스템과 임의의 비율로 혼합 할 수 있으며, 산소 장벽 및 기타 단점의 영향을받는 UV 양이온 및 UV 자유 라디칼 수축의 상대 경화 속도를 향상시킬 수 있으며, 시스템 경화 에너지 차이의 동일한 필름 두께는 크지 않습니다.
UV 양이온 시스템은 루이스 강산에 의해 생성 된 개시제에 의존하여 고리 개방 반응의 활성점을 수행하는 것이며, 공식은 일반적으로 물질의 개시제 활성에 영향을 미치는 것은 주로 아조 유기 안료 (보호를 위해 수정 가능) 및 TPO / 819 / 907 및 개시제의 P, S 및 기타 요소를 포함하는 기타 구조와 혼합 된 자유 라디칼이며 115 다단계 아민과 유사합니다.
습도는 UV 양이온 시스템 경화에 더 큰 영향을 미치므로 주변 습도를 50% 이내로 조절하는 것이 적절하며, 가열하면 반응 속도가 빨라집니다.
UV 광개시제 동일 시리즈 제품
| 광개시제 TPO | CAS 75980-60-8 |
| 광개시제 TMO | CAS 270586-78-2 |
| 광개시제 PD-01 | CAS 579-07-7 |
| 광개시제 PBZ | CAS 2128-93-0 |
| 광개시제 OXE-02 | CAS 478556-66-0 |
| 광개시제 OMBB | CAS 606-28-0 |
| 광개시제 MPBZ(6012) | CAS 86428-83-3 |
| 포토 이니시에이터 MBP | CAS 134-84-9 |
| 광개시제 MBF | CAS 15206-55-0 |
| 광개시제 LAP | CAS 85073-19-4 |
| 광개시제 ITX | CAS 5495-84-1 |
| 광개시제 EMK | CAS 90-93-7 |
| 광개시제 EHA | CAS 21245-02-3 |
| 광개시제 EDB | CAS 10287-53-3 |
| 광개시제 DETX | CAS 82799-44-8 |
| 광개시제 CQ / 캄포퀴논 | CAS 10373-78-1 |
| 광개시제 CBP | CAS 134-85-0 |
| 광개시제 BP / 벤조페논 | CAS 119-61-9 |
| 광개시제 BMS | CAS 83846-85-9 |
| 포토이니시에이터 938 | CAS 61358-25-6 |
| 포토이니시에이터 937 | CAS 71786-70-4 |
| 포토이니시에이터 819 DW | CAS 162881-26-7 |
| 광개시제 819 | CAS 162881-26-7 |
| 광개시제 784 | CAS 125051-32-3 |
| 광개시제 754 | CAS 211510-16-6 442536-99-4 |
| 포토이니시에이터 6993 | CAS 71449-78-0 |
| 포토이니시에이터 6976 | CAS 71449-78-0 89452-37-9 108-32-7 |
| 광개시제 379 | CAS 119344-86-4 |
| 광개시제 369 | CAS 119313-12-1 |
| 광개시제 160 | CAS 71868-15-0 |
| 광개시제 1206 | |
| 포토이니시에이터 1173 | CAS 7473-98-5 |