Como o monômero e a resina akrilat podem ser digeridos na película de UV?
A aplicação de película UV para madeira (DTM) utiliza resina com um sistema de elastisitas e cetáceas que permite lembrar que o artigo pode ser usado para reduzir a umidade e a abrasão.
Por isso, o lapisan akhir tem que ser usado para fazer com que o jenis logam que mungkin memiliki kontaminasi permukaan yang dapat membuat adhesi menjadi sulit.
Presentasi
O produto em questão pode ser usado para fornecer um monômero e um oligômero de cinerária de alta qualidade que podem ser usados em aplicações de aplicação de produtos de saúde, o que pode reduzir a flexibilidade e a aderência à pele.
O zwitterion dengan sifat yang mempromosikan adhesi akan diuji sendiri atau dikombinasikan dengan promotor adhesi fungsional monomer asam untuk menentukan jenis zwitterion terbaik untuk substrat tertentu. O promotor de aderência do promotor de adesão que está sendo testado também pode ser usado para melhorar o desempenho do produto. Por isso, a quantidade de carboidratos que pode ser removida com o uso de jenis oligômeros pode ser reduzida.
A principal característica significativa da indústria de processamento de metais é a presença do bisfenol A (BPA) em películas que podem ser utilizadas em produtos de fabricação. O BPA é um poliéster de cadeia de carbono que pode ser substituído por um poliéster de cadeia de carbono de cadeia de carbono de cadeia de carbono. As fórmulas de modelagem que são utilizadas na penalidade em questão devem beber BPA.
Eksperimen
Para que a película possa ser removida por meio de radiações em um tronco de madeira, é necessário aplicar os critérios de limpeza e abrasão de forma tendenciosa. Namun demikian, tugas ini menantang, karena pelapis ini perlu diaplikasikan pada berbagai substrat logam dengan sifat permukaan yang berbeda yang dapat memengaruhi adhesi. Por outro lado, como a película pode ser usada para proteger a pele, ela pode ser usada para a limpeza diária, mas também pode ser usada para reduzir a flexibilidade, a fim de reduzir os riscos de contato com a pele. A tecnologia de destilação de água potável é um fator importante para a manutenção dos processos de destilação que estão sendo usados com o objetivo de reduzir o consumo de água potável, ou seja, a pipa que está se dilapidando pode ser removida em um local mais escuro.
Para lembrar-se da qualidade do produto que está sendo usado, um novo produto pode ser incorporado. O produto em questão é um monômero de éster fosfórico, que pode ser usado como aditivo. A mina é produzida a partir de um campo de ação funcional que varia de mono a trifungional e lembra o nível de aspiração que está sendo absorvido. Para a análise do disco, o mereka é considerado um monômero de fungos de asa ou AFM.
. O kelompok kedua paling baik digambarkan sebagai zwitterion akrilik fungsional berbobot molekul tinggi yang memiliki promotor adhesi yang bereaksi dengan rantai utama. O oligômero é bifuncional e, para que a adesão seja ideal, a composição é 30-50%. Para lembrar-se do disco, é importante que o componente em questão seja usado como adesivo que promova o oligômero e o APO. A descrição do componente está disponível no Quadro 1.
Condições de aplicação e cura
As condições escolhidas aqui representam aquelas comumente usadas no setor de decoração de metais. A espessura ideal do filme deve ser mantida a um custo mínimo, mas, ao mesmo tempo, deve ser espessa o suficiente para que o desempenho não seja comprometido. Isso é obtido com as espessuras nominais de filme listadas abaixo. Além disso, as condições de cura citadas são bastante comuns para essas aplicações, pois a aplicação de camadas transparentes finas não requer fontes de luz especiais. O tipo de radiômetro e os resultados obtidos também são informados para evitar qualquer variação nas condições que possa afetar as propriedades do filme, garantindo assim a consistência dos resultados do teste de uso final. A Figura 2 mostra as condições de cura da aplicação.
Opções de formulação sem bisfenol A
O bisfenol A (BPA) é uma importante matéria-prima usada principalmente na fabricação de resinas epóxi. Com excelente resistência, adesão, moldabilidade e propriedades químicas, os acrilatos epóxi BPA têm sido um oligômero importante para o setor de revestimentos há muitos anos. Um estudo recente conduzido pelo National Institute of Environmental Health Sciences expressou preocupação com os efeitos de longo prazo da exposição ao BPA sobre a saúde. Como resultado, os fabricantes de latas e os formuladores do setor de embalagens de alimentos estão se movendo em direção a um sistema livre de BPA. Os oligômeros que atendem aos critérios de isenção de BPA são os acrilatos de poliéster (PEAs). A tabela abaixo apresenta uma comparação das propriedades físicas dos PEAs e dos epóxis e destaca os benefícios do uso de alternativas livres de BPA.
Além de serem livres de BPA, os PEAs têm os seguintes benefícios.
1) Cura mais rápida, quatro funções em comparação com duas funções
2) Manuseio mais fácil devido à viscosidade significativamente menor dos PEAs
3) Maior liberdade na formulação, pois mais PEAs podem ser usados na formulação final sem afetar negativamente a viscosidade
4) Os PEAs são tão resistentes e mais flexíveis quanto as resinas epóxi.
Os PEAs têm melhor resistência ao amarelamento do que os oligômeros à base de BPA.
A formulação usada para este estudo
Conforme demonstrado acima, com vantagens óbvias, a PEA foi escolhida como o principal componente dessa formulação. Os monômeros selecionados para este estudo incluem o diacrilato de tripropilenoglicol (TPGDA), o diacrilato de dipropilenoglicol (DPGDA) e o triacrilato de 3-etoxitrimetilolpropano (3EO-TMPTA). O TPGDA é um monômero de baixa volatilidade e baixa viscosidade, amplamente usado na polimerização de radical livre por motivos de custo. Ele tem boas propriedades redutoras de viscosidade, é mais fácil de usar e tem um índice de irritação maior (PII) de 2, em comparação com o índice de 5 do HDDA. O TMPTA etoxilado também foi selecionado por sua baixa irritação cutânea, mas oferece o benefício adicional de maior reticulação e cura superficial aprimorada. O fotoiniciador usado para essas formulações foi alfa-hidroxifenil cetona polimerizada misturada com 2-hidroxi-2-metil-1-fenil-1 acetona. Os surfactantes são usados para garantir o umedecimento adequado do substrato. A viscosidade da formulação de base é de 300 cps a 25°C.
Substratos usados e testes de uso final
Todos os painéis de teste de metal usados são da QPanel. Antes do revestimento, os painéis são limpos com um solvente (MEK) para remover a contaminação da superfície. Os substratos normalmente usados para testes incluem alumínio (Alum), aço estanhado (TPS) e aço laminado a frio (CRS). Os testes realizados no filme curado são os seguintes. A adesão cruzada foi escolhida porque está relacionada à afinidade de um determinado revestimento com o substrato. O impacto reverso é interessante porque não está relacionado à adesão do revestimento, mas à flexibilidade do revestimento e fornece uma indicação da capacidade de formação. A resistência ao MEK fornece uma indicação rápida do grau de cura do revestimento.
1) Ligação cruzada - ASTM D 3359
2) Resistência ao impacto reverso - ASTM D 2794
3) Resistência a solventes - ASTM D 5402
Descrição dos monômeros funcionais ácidos (AFMs)
Como uma família, esses produtos podem ser descritos como ésteres ácidos. O CD9050 (agora SR9050) é um monômero tackifier de função única que proporciona excelente adesão em substratos metálicos. O CD9051 (SR9051) e o CD9053 (SR9053) são versões de três funções do CD9050. Eles proporcionam a mesma adesão. Entretanto, por serem triplamente oficiais, oferecem resposta de cura mais rápida e maior dureza. Esses produtos não são recomendados para uso em ácidos graxos que contenham aminas terciárias devido aos seus altos valores de acidez. O nível de uso recomendado é de 3% a 7%. Os valores de acidez variam de 120 a 195 mg KOH/g. A tabela a seguir ilustra as propriedades físicas dos monômeros.
Fotoiniciador UV Produtos da mesma série
| Nome do produto | CAS NO. | Nome químico |
| lcnacure® TPO | 75980-60-8 | Óxido de difenil(2,4,6-trimetilbenzoil)fosfina |
| lcnacure® TPO-L | 84434-11-7 | Fenilfosfinato de etila (2,4,6-trimetilbenzoil) |
| lcnacure® 819/920 | 162881-26-7 | Óxido de fenilbis(2,4,6-trimetilbenzoil)fosfina |
| lcnacure® 819 DW | 162881-26-7 | Irgacure 819 DW |
| lcnacure® ITX | 5495-84-1 | 2-Isopropiltioxantona |
| lcnacure® DETX | 82799-44-8 | 2,4-Dietil-9H-tióxanteno-9-ona |
| lcnacure® BDK/651 | 24650-42-8 | 2,2-Dimetoxi-2-fenilacetofenona |
| lcnacure® 907 | 71868-10-5 | 2-Metil-4′-(metiltio)-2-morfolinopropiofenona |
| lcnacure® 184 | 947-19-3 | 1-Hidroxiciclohexil fenil cetona |
| lcnacure® MBF | 15206-55-0 | Metilbenzoilformato |
| lcnacure® 150 | 163702-01-0 | Benzeno, (1-metiletenil)-, homopolímero, derivados de ar-(2-hidroxi-2-metil-1-oxopropil) |
| lcnacure® 160 | 71868-15-0 | Alfa-hidroxi-cetona difuncional |
| lcnacure® 1173 | 7473-98-5 | 2-Hidroxi-2-metilpropiofenona |
| lcnacure® EMK | 90-93-7 | 4,4′-Bis(dietilamino) benzofenona |
| lcnacure® PBZ | 2128-93-0 | 4-Benzoilbifenil |
| lcnacure® OMBB/MBB | 606-28-0 | 2-Benzoilbenzoato de metila |
| lcnacure® 784/FMT | 125051-32-3 | BIS(2,6-DIFLUORO-3-(1-HIDROPIRROL-1-IL)FENIL)TITANOCENO |
| lcnacure® BP | 119-61-9 | Benzofenona |
| lcnacure® 754 | 211510-16-6 | Ácido benzenoacético, alfa-oxo-, éster oxidi-2,1-etanodil |
| lcnacure® CBP | 134-85-0 | 4-Clorobenzofenona |
| lcnacure® MBP | 134-84-9 | 4-Metilbenzofenona |
| lcnacure® EHA | 21245-02-3 | 4-dimetilaminobenzoato de 2-etil-hexila |
| lcnacure® DMB | 2208-05-1 | Benzoato de 2-(dimetilamino)etila |
| lcnacure® EDB | 10287-53-3 | 4-dimetilaminobenzoato de etila |
| lcnacure® 250 | 344562-80-7 | (4-Metilfenil) [4-(2-metilpropil)fenil] iodônio-hexafluorofosfato |
| lcnacure® 369 | 119313-12-1 | 2-Benzil-2-(dimetilamino)-4′-morfolinobutirofenona |
| lcnacure® 379 | 119344-86-4 | 1-Butanona, 2-(dimetilamino)-2-(4-metilfenil)metil-1-4-(4-morfolinil)fenil- |
| lcnacure® 938 | 61358-25-6 | Hexafluorofosfato de bis(4-terc-butilfenil)iodônio |
| lcnacure® 6992 MX | 75482-18-7 & 74227-35-3 | Fotoiniciador catiônico UVI-6992 |
| lcnacure® 6992 | 68156-13-8 | Hexafluorofosfato de difenil(4-feniltio)fenilsufônio |
| lcnacure® 6993-S | 71449-78-0 & 89452-37-9 | Sais de hexafluoroantimonato de triarilsulfônio do tipo misto |
| lcnacure® 6993-P | 71449-78-0 | Hexafluoroantimonato de 4-Tiofenil fenil difenil sulfônio |
| lcnacure® 1206 | Fotoiniciador APi-1206 |