CHLUMICRYL® Bis-GMA Monomer / Bisphenol A Glycidyl Methacrylate CAS 1565-94-2

Nama kimia: Bisphenol A Glycidyl Methacrylate

Nomor CAS: 1565-94-2

MF: C29H36O8

Berat Molekul: 512,59 g / mol

Paket: 25 atau 200 kg/ drum

Skenario Aplikasi Monomer Bis-GMA

1. Bahan Restorasi Gigi (Area aplikasi yang paling penting)
Ini adalah area aplikasi terbesar dan paling klasik untuk Bis-GMA. Ini digunakan sebagai monomer matriks dalam resin komposit gigi.

Produk aplikasi: Bahan penambal gigi, perekat, tambalan lubang dan fisura, bahan restorasi mahkota dan jembatan gigi, dll.

Fungsi:

Memberikan kekuatan: Dikombinasikan dengan bahan pengisi anorganik (seperti silika, bubuk keramik kaca), bahan ini membentuk restorasi berkekuatan tinggi yang dapat menahan gaya kunyah.

Kelenturan dan pengawetan: Sebelum diawetkan, bahan ini memiliki tekstur seperti pasta kental, sehingga mudah dibentuk oleh dokter gigi. Dengan menggunakan light curing (penyinaran cahaya biru), dapat diawetkan dengan cepat dalam waktu puluhan detik, sehingga sangat memudahkan operasi klinis.

Estetika: Dapat diformulasikan ke dalam berbagai warna yang mendekati warna gigi, sehingga menghasilkan restorasi yang estetis.

Posisi pasar: Sebagian besar resin komposit light-curing gigi modern menggunakan Bis-GMA sebagai salah satu monomer utama atau inti (sering digunakan dalam kombinasi dengan monomer pengencer seperti TEGDMA).

2. Bahan yang Dapat Difotokopi dalam Bidang Industri dan Elektronik
Memanfaatkan karakteristik pemotretan yang cepat, Bis-GMA digunakan secara luas dalam:

Pelapis, tinta, dan perekat yang dapat difotokopi:

Aplikasi: Pelapis kayu bermutu tinggi, pelapis logam, pelapis plastik, tinta masker solder papan sirkuit cetak (PCB), pelapis serat optik, dll.

Keuntungan: Kecepatan pengeringan yang cepat, kekerasan yang tinggi, ketahanan terhadap keausan dan goresan, kilap yang baik, dan emisi senyawa organik yang mudah menguap (VOC) yang rendah.

Pencetakan 3D (Stereolitografi - teknologi SLA/DLP):

Aplikasi: Sebagai komponen utama dalam formulasi resin fotosensitif berkinerja tinggi, digunakan untuk membuat prototipe fungsional, cetakan, dan bahkan komponen akhir dengan presisi tinggi dan berkekuatan tinggi (seperti model gigi, cetakan pengecoran perhiasan, komponen industri).

3. Bidang Profesional Lainnya
Semen tulang dan pelapis implan ortopedi: Setelah peningkatan biokompatibilitas, dapat digunakan di bidang ortopedi sebagai komponen semen tulang atau untuk pelapis fungsional pada permukaan implan.

Material komposit berkinerja tinggi: Sebagai matriks resin, bahan ini dipadukan dengan bahan penguat seperti serat kaca dan serat karbon untuk membuat material komposit berkinerja tinggi. Pertimbangan dan Tren Penting

Meskipun Bis-GMA digunakan secara luas, ada beberapa kontroversi dan tren alternatif:

Potensi risiko Bisphenol A (BPA): Bis-GMA dapat terhidrolisis di dalam tubuh untuk menghasilkan sejumlah kecil BPA. Meskipun saat ini belum ada konsensus ilmiah mengenai apakah BPA dalam jumlah yang sangat kecil yang dilepaskan dari material gigi menimbulkan risiko kesehatan, "Bebas BPA" telah menjadi tren yang penting karena prinsip kehati-hatian dan permintaan pasar.

Pengembangan monomer alternatif: Untuk mengatasi kekhawatiran tentang BPA, para peneliti secara aktif mengembangkan monomer baru, seperti:

Bisphenol A alternatif analog: seperti Bis-EMA dan UDMA (yang sudah digunakan secara luas di bidang kedokteran gigi).

Struktur Non-Bisphenol A: seperti monomer metakrilat berdasarkan siloksan, furan, dan sumber berbasis hayati (misalnya, monomer turunan dari eugenol).

Deskripsi

Monomer Bis-GMA / Bisphenol A Glisidil Metakrilat CAS 1565-94-2

Spesifikasinyans:                 

Penampilan Cairan kental bening tidak berwarna hingga kuning muda
Viskositas (mPa.s @25 derajat C) 4000~8000
Warna (Pt-Co) ≤2 APHA
Fungsionalitas 2
Nilai Asam (mg KOH/g) ≤5.0

Pengepakan: 25kg atau 200L / drum.

Aaplikasi:

Bis-GMA telah diuji dan aplikasi utamanya adalah sebagai berikut:

  • Bahan gigi, bahan tambalan pengawet UV, cocok untuk UDMA;
  • Pelapis UV kelas atas, perekat UV;
  • Digunakan sebagai modifikasi resin.
  • bahan gigi.

Penyimpanan:

Disimpan di gudang yang kering dan bersih dengan ventilasi yang baik.

Hindari paparan cahaya dan pemanasan.

Melindungi produk dari kebocoran, hujan, dan insolasi selama pengangkutan.

Hubungi Kami Sekarang!

Jika Anda membutuhkan Harga dan Pengujian Sampel, silakan isi informasi kontak Anda pada formulir di bawah ini, kami biasanya akan menghubungi Anda dalam waktu 24 jam. Anda juga bisa mengirim email kepada saya info@longchangchemical.com selama jam kerja (8:30 pagi hingga 6:00 sore UTC+8 Senin-Sabtu) atau gunakan obrolan langsung situs web untuk mendapatkan balasan secepatnya.

 


Polythiol / Polymercaptan
Monomer CHLUMICRYL®DMES Bis (2-merkaptoetil) sulfida 3570-55-6
Monomer CHLUMICRYL® DMPT THIOCURE DMPT 131538-00-6
Monomer CHLUMICRYL® PETMP 7575-23-7
Monomer CHLUMICRYL® PM839 Polioksi (metil-1,2-etanadiil) 72244-98-5
Monomer Monofungsional
Monomer CHLUMICRYL® HEMA 2-hidroksietil metakrilat 868-77-9
Monomer CHLUMICRYL® HPMA 2-Hidroksipropil metakrilat 27813-02-1
Monomer CHLUMICRYL® THFA Tetrahidrofurfuril akrilat 2399-48-6
Monomer CHLUMICRYL® HDCPA Diklopentenil akrilat terhidrogenasi 79637-74-4
Monomer CHLUMICRYL® DCPMA Dihydrodicyclopentadienyl methacrylate 30798-39-1
Monomer CHLUMICRYL® DCPA Dihydrodicyclopentadienyl Acrylate 12542-30-2
Monomer CHLUMICRYL® DCPEMA Dicyclopentenyloxyethyl Methacrylate 68586-19-6
Monomer CHLUMICRYL® DCPEOA Dicyclopentenyloxyethyl Acrylate 65983-31-5
Monomer CHLUMICRYL® NP-4EA (4) nonilfenol teretoksilasi 50974-47-5
LA Monomer Lauril akrilat / Dodesil akrilat 2156-97-0
Monomer CHLUMICRYL® THFMA Metakrilat tetrahidrofurfuril 2455-24-5
Monomer CHLUMICRYL® PHEA 2-FENOKSIETIL AKRILAT 48145-04-6
Monomer CHLUMICRYL® LMA Lauril metakrilat 142-90-5
Monomer CHLUMICRYL® IDA Isodecyl acrylate 1330-61-6
Monomer CHLUMICRYL® IBOMA Isobornil metakrilat 7534-94-3
CHLUMICRYL® IBOA Monomer Isobornil akrilat 5888-33-5
Monomer CHLUMICRYL® EOEOEA 2- (2-Etoksietoksi) etil akrilat 7328-17-8
Monomer multifungsi
Monomer DPHA CHLUMICRYL® DPHA 29570-58-9
Monomer CHLUMICRYL® DI-TMPTA DI (TRIMETILOLPROPANA) TETRAAKRILAT 94108-97-1
Monomer akrilamida
Monomer CHLUMICRYL® ACMO 4-akrilamorfolin 5117-12-4
Monomer di-fungsional
Monomer CHLUMICRYL® PEGDMA Poli (etilen glikol) dimetakrilat 25852-47-5
Monomer CHLUMICRYL® TPGDA Tripropilen glikol diakrilat 42978-66-5
Monomer CHLUMICRYL® TEGDMA Trietilen glikol dimetakrilat 109-16-0
Monomer CHLUMICRYL® PO2-NPGDA Propoksilat neopentilen glikol diakrilat 84170-74-1
Monomer CHLUMICRYL® PEGDA Polietilen Glikol Diakrilat 26570-48-9
Monomer CHLUMICRYL® PDDA Ftalat dietilen glikol diakrilat
Monomer CHLUMICRYL® NPGDA Neopentil glikol diakrilat 2223-82-7
Monomer CHLUMICRYL® HDDA Hexamethylene Diacrylate 13048-33-4
Monomer CHLUMICRYL® EO4-BPADA TERETOKSILASI (4) BISPHENOL A DIAKRILAT 64401-02-1
Monomer CHLUMICRYL® EO10-BPADA TERETOKSILASI (10) BISPHENOL A DIAKRILAT 64401-02-1
Monomer CHLUMICRYL® EGDMA Etilen glikol dimetakrilat 97-90-5
Monomer CHLUMICRYL® DPGDA Dipropilen Glikol Dienoat 57472-68-1
Monomer CHLUMICRYL® Bis-GMA Bisphenol A Glisidil Metakrilat 1565-94-2
Monomer Trifungsional
Monomer CHLUMICRYL® TMPTMA Trimetilolpropana trimetakrilat 3290-92-4
Monomer CHLUMICRYL® TMPTA Triakrilat trimetilolpropana 15625-89-5
Monomer CHLUMICRYL® PETA 3524-68-3
Monomer CHLUMICRYL® GPTA (G3POTA) GLISERIL PROPOKSI TRIAKRILAT 52408-84-1
Monomer CHLUMICRYL® EO3-TMPTA Triakrilat trimetilolpropana teretoksilasi 28961-43-5
Monomer Fotoresis
Monomer CHLUMICRYL® IPAMA 2-isopropil-2-adamantil metakrilat 297156-50-4
Monomer CHLUMICRYL® ECPMA 1-Etilsiklopentil Metakrilat 266308-58-1
Monomer CHLUMICRYL® ADAMA 1-Adamantil Metakrilat 16887-36-8
Monomer metakrilat
Monomer CHLUMICRYL® TBAEMA 2- (Tert-butilamino) etil metakrilat 3775-90-4
Monomer CHLUMICRYL® NBMA n-Butil metakrilat 97-88-1
CHLUMICRYL® MEMA Monomer 2-Metoksietil Metakrilat 6976-93-8
Monomer CHLUMICRYL® i-BMA Isobutil metakrilat 97-86-9
Monomer CHLUMICRYL® EHMA 2-Etilheksil metakrilat 688-84-6
Monomer CHLUMICRYL® EGDMP Etilen glikol Bis (3-merkaptopropionat) 22504-50-3
Monomer CHLUMICRYL® EEMA 2-etoksietil 2-metilprop-2-enoat 2370-63-0
Monomer CHLUMICRYL® DMAEMA N, M-Dimetilaminoetil metakrilat 2867-47-2
Monomer CHLUMICRYL® DEAM Dietilaminoetil metakrilat 105-16-8
Monomer CHLUMICRYL® CHMA Sikloheksil metakrilat 101-43-9
Monomer CHLUMICRYL® BZMA Benzil metakrilat 2495-37-6
Monomer CHLUMICRYL® BDDMP 1,4-Butanediol Di (3-merkaptopropionat) 92140-97-1
Monomer CHLUMICRYL® BDDMA 1,4-Butanedioldimetakrilat 2082-81-7
Monomer CHLUMICRYL® AMA Alil metakrilat 96-05-9
CHLUMICRYL® AAEM Monomer Asetilasetoksietil metakrilat 21282-97-3
Monomer Akrilat
CHLUMICRYL® IBA Monomer Isobutil akrilat 106-63-8
Monomer EMA CHLUMICRYL® EMA Etil metakrilat 97-63-2
Monomer CHLUMICRYL® DMAEA Dimetilaminoetil akrilat 2439-35-2
Monomer CHLUMICRYL® DEAEA 2- (dietilamino) etil prop-2-enoat 2426-54-2
Monomer CHLUMICRYL® CHA sikloheksil prop-2-enoat 3066-71-5
CHLUMICRYL® BZA Monomer benzil prop-2-enoat 2495-35-4
Monomer lainnya
Monomer CHLUMICRYL® MCPMA 1-Metilsiklopentil Metakrilat 178889-45-7
Monomer CHLUMICRYL® TMPMP Tris trimetilolpropana (3-merkaptopropionat) 33007-83-9
Monomer CHLUMICRYL® CTFA Akrilat Formal Trimetilopropana Siklik 66492-51-1
Monomer CHLUMICRYL® HPHPDA  30145-51-8
CHLUMICRYL® MPEG Monomer  26915-72-0

 

Ulasan

Belum ada ulasan.

Jadilah yang pertama mengulas "CHLUMICRYL® Bis-GMA Monomer / Bisphenol A Glycidyl Methacrylate CAS 1565-94-2"

Hubungi kami

Indonesian