Apa saja monomero e resina akrilat yang digunakan dalam pelapis logam UV?
L'applicazione di pelapis UV untuk logam (DTM) ricorda la resina e il keseimbangan sifat elastisitas e il ketangguhan, per ricordare che l'artikel dapat menahan kondisi yang menuntut kemampuan bentuk pasca-proses, termasuk goresan e abrasi.
In questo caso, il lapisano akhir è stato sesuai untuk berbagai jenis logam yang mungkin memiliki kontaminasi permukaan yang dapat membuat adhesi menjadi sulit.
Presentasi
Il prodotto è in grado di menyelidiki hasil kinerja monomer dan oligomer akrilat ketika diuji melalui aplikasi penggunaan akhir yang khas, terutama mengukur fleksibilitas dan karakteristik adhesi pelapis.
Lo zwitterion dengan sifat yang mempromosikan adhesi akan diuji sendiri atau dikombinasikan dengan promotor adhesi fungsional monomer asam untuk menentukan jenis zwitterion terbaik untuk substrat tertentu. I promotori di adesione yang tepat juga akan ditentukan untuk mendapatkan hasil performa terbaik. In questo caso, il ketahanan kelembaban dalam kaitannya dengan jenis oligomer akan dieksplorasi.
Il significato più significativo dal punto di vista industriale è il Bisfenolo A (BPA), che si trova nella zona di produzione dei prodotti agricoli. Il BPA è un oligomero poliesteri akrilat dibandingkan e il BPA epoksi akrilat è stato usato per la produzione di prodotti di qualità . Le formule di miscelazione che vengono utilizzate per la creazione di una penna sono in grado di contenere il BPA.
Eksperimen
Per le pellicce che possono essere utilizzate per la radianza in untuk logam, è necessario applicare i criteri di ketahanan gores e abrasi yang biasa. Namun demikian, tugas ini menantang, karena pelapis ini perlu diaplikasikan pada berbagai substrat logam dengan sifat permukaan yang berbeda yang dapat memengaruhi adhesi. Selain itu, jika pelapis ini digunakan untuk kaleng dan kemasan yang kaku, tidak hanya diperlukan daya rekat, tetapi juga diperlukan tingkat fleksibilitas untuk menahan proses ketat yang terlibat dalam pembuatan wadah logam jadi. Ketahanan panas dan kelembaban juga merupakan faktor ketika mempertimbangkan proses distilasi yang terkait dengan kemasan makanan atau jika pipa yang dilapisi akan digunakan di luar ruangan.
Per mantenere la persyaratan sulit ini, un prodotto di nuova generazione può essere utilizzato per la produzione. Yang pertama adalah serangkaian monomer ester fosfat, yang digunakan sebagai aditif. Mereka berkisar dalam kelompok fungsional dari mono hingga tri-fungsional dan memiliki nilai asam yang berbeda. Per quanto riguarda il disco di centratura, mereka digambarkan sebagai monomero fungsional asam atau AFM.
. Kelompok kedua paling baik digambarkan sebagai zwitterion akrilik fungsional berbobot molekul tinggi yang memiliki promotor adhesi yang bereaksi dengan rantai utama. L'oligomero bersifat bifunzionale e per un'adesione ottimale, la composizione dell'akhir è 30-50%. Per memorizzare il disco, è necessario che i componenti inizino ad aderire all'oligomero e all'APO. La scheda del componente ini si trova nel riquadro 1.
Condizioni di applicazione e polimerizzazione
Le condizioni scelte rappresentano quelle comunemente utilizzate nell'industria della decorazione dei metalli. Lo spessore ideale del film deve essere ridotto al minimo, ma allo stesso tempo deve essere abbastanza spesso da non compromettere le prestazioni. Ciò si ottiene con gli spessori nominali del film elencati di seguito. Inoltre, le condizioni di polimerizzazione indicate sono abbastanza comuni per queste applicazioni, poiché l'applicazione di sottili strati trasparenti non richiede sorgenti luminose speciali. Il tipo di radiometro e i risultati ottenuti sono riportati anche per evitare qualsiasi variazione delle condizioni che potrebbe influenzare le proprietà del film, garantendo così la coerenza dei risultati dei test per l'uso finale. La Figura 2 illustra le condizioni di polimerizzazione dell'applicazione.
Opzioni di formulazione senza bisfenolo A
Il bisfenolo A (BPA) è un'importante materia prima utilizzata principalmente nella produzione di resine epossidiche. Con eccellenti proprietà di tenacità , adesione, modellabilità e chimiche, gli acrilati epossidici di BPA sono stati per molti anni uno dei principali oligomeri per l'industria dei rivestimenti. Un recente studio condotto dal National Institute of Environmental Health Sciences ha espresso preoccupazione per gli effetti a lungo termine dell'esposizione al BPA sulla salute. Di conseguenza, i produttori di lattine e i formulatori dell'industria dell'imballaggio alimentare si stanno orientando verso un sistema privo di BPA. Gli oligomeri che soddisfano i criteri di assenza di BPA sono gli acrilati di poliestere (PEA). La tabella seguente fornisce un confronto delle proprietà fisiche dei PEA e degli epossidici e mette in evidenza i vantaggi dell'utilizzo di alternative prive di BPA.
Oltre a essere privi di BPA, i PEA presentano i seguenti vantaggi.
1) Polimerizzazione più rapida, quadrifunzionale rispetto a bifunzionale
2) Manipolazione più facile grazie alla viscosità significativamente inferiore delle PEA
3) Maggiore libertà di formulazione, in quanto è possibile utilizzare più PEA nella formulazione finale senza influire negativamente sulla viscosità .
4) Le PEA sono resistenti e flessibili come le resine epossidiche.
I PEA hanno una migliore resistenza all'ingiallimento rispetto agli oligomeri a base di BPA.
La formulazione utilizzata per questo studio
Come dimostrato in precedenza, con evidenti vantaggi, la PEA è stata scelta come componente principale di questa formulazione. I monomeri selezionati per questo studio comprendono il tripropilenglicole diacrilato (TPGDA), il dipropilenglicole diacrilato (DPGDA) e il 3-etossitrimetilpropano triacrilato (3EO-TMPTA). Il TPGDA è un monomero a bassa volatilità e bassa viscosità , ampiamente utilizzato nella polimerizzazione a radicali liberi per ragioni di costo. Ha buone proprietà di riduzione della viscosità , è più facile da usare e ha un indice di irritazione maggiore (PII) di 2 rispetto al 5 dell'HDDA. Anche il TMPTA etossilato è stato scelto per la sua bassa irritazione cutanea, ma offre il vantaggio aggiuntivo di una reticolazione più elevata e di una polimerizzazione superficiale migliore. Il fotoiniziatore utilizzato per queste formulazioni è stato l'alfa-idrossifenilchetone polimerizzato mescolato con 2-idrossi-2-metil-1-fenil-1 acetone. I tensioattivi vengono utilizzati per garantire una corretta bagnatura del substrato. La viscosità della formulazione base è di 300 cps a 25°C.
Substrati utilizzati e test di utilizzo finale
Tutti i pannelli di prova metallici utilizzati sono di QPanel. Prima del rivestimento, i pannelli vengono puliti con un solvente (MEK) per rimuovere la contaminazione superficiale. I substrati tipicamente utilizzati per i test includono alluminio (Alum), acciaio stagnato (TPS) e acciaio laminato a freddo (CRS). I test eseguiti sul film polimerizzato sono i seguenti. L'adesione incrociata è stata scelta perché è legata all'affinità di un determinato rivestimento con il substrato. L'impatto inverso è interessante perché non è legato all'adesione del rivestimento, ma alla sua flessibilità e fornisce un'indicazione della capacità di formatura. La resistenza al MEK fornisce una rapida indicazione del grado di indurimento del rivestimento.I riferimenti numerici ASTM sono riportati di seguito.
1) Incollaggio trasversale - ASTM D 3359
2) Resistenza all'urto inverso-ASTM D 2794
3) Resistenza ai solventi-ASTM D 5402
Descrizione dei monomeri funzionali acidi (AFM)
Come famiglia, questi prodotti possono essere descritti come esteri acidi. CD9050 (ora SR9050) è un monomero adesivizzante a funzione singola che fornisce un'eccellente adesione su substrati metallici. CD9051 (SR9051) e CD9053 (SR9053) sono versioni trifunzionali di CD9050. Forniscono la stessa adesione. Tuttavia, essendo trifunzionali, offrono una risposta più rapida alla polimerizzazione e una maggiore durezza. Questi prodotti non sono consigliati per l'uso in acidi grassi contenenti ammine terziarie a causa dei loro elevati valori di acidità . Il livello di utilizzo consigliato è compreso tra 3% e 7%. I valori di acidità variano da 120 a 195 mg KOH/g. La tabella seguente illustra le proprietà fisiche dei monomeri.
Fotoiniziatore UV Prodotti della stessa serie
| Nome del prodotto | CAS NO. | Nome chimico |
| lcnacure® TPO | 75980-60-8 | Difenil(2,4,6-trimetilbenzoil)ossido di fosfina |
| lcnacure® TPO-L | 84434-11-7 | Fenilfosfinato di etile (2,4,6-trimetilbenzoile) |
| lcnacure® 819/920 | 162881-26-7 | Fenilbis(2,4,6-trimetilbenzoil)ossido di fosfina |
| lcnacure® 819 DW | 162881-26-7 | Irgacure 819 DW |
| lcnacure® ITX | 5495-84-1 | 2-Isopropiltioxantone |
| lcnacure® DETX | 82799-44-8 | 2,4-dietil-9H-tioxanten-9-one |
| lcnacure® BDK/651 | 24650-42-8 | 2,2-dimetossi-2-fenilacetofenone |
| lcnacure® 907 | 71868-10-5 | 2-Metil-4′-(metiltio)-2-morfolinopropiofenone |
| lcnacure® 184 | 947-19-3 | 1-Idrossi-cicloesil fenil chetone |
| lcnacure® MBF | 15206-55-0 | Benzoilformato di metile |
| lcnacure® 150 | 163702-01-0 | Benzene, (1-metiletenil)-, omopolimero, derivato ar-(2-idrossi-2-metil-1-ossopropil) |
| lcnacure® 160 | 71868-15-0 | Alfa-idrossi-chetone difunzionale |
| lcnacure® 1173 | 7473-98-5 | 2-Idrossi-2-metilpropifenone |
| lcnacure® EMK | 90-93-7 | 4,4′-Bis(dietilammino) benzofenone |
| lcnacure® PBZ | 2128-93-0 | 4-Benzoilbifenile |
| lcnacure® OMBB/MBB | 606-28-0 | 2-benzoilbenzoato di metile |
| lcnacure® 784/FMT | 125051-32-3 | BIS(2,6-DIFLUORO-3-(1-IDROPIRROLO-1-IL)FENILE)TITANOCENE |
| lcnacure® BP | 119-61-9 | Benzofenone |
| lcnacure® 754 | 211510-16-6 | Acido benzeneacetico, alfa-osso-, estere ossidico di 2,1-etanediile |
| lcnacure® CBP | 134-85-0 | 4-Clorobenzofenone |
| lcnacure® MBP | 134-84-9 | 4-metilbenzofenone |
| lcnacure® EHA | 21245-02-3 | 2-Etilesil 4-dimetilaminobenzoato |
| lcnacure® DMB | 2208-05-1 | 2-(Dimetilammino)benzoato di etile |
| lcnacure® EDB | 10287-53-3 | 4-dimetilaminobenzoato di etile |
| lcnacure® 250 | 344562-80-7 | (4-metilfenile) [4-(2-metilpropil)fenile] iodonioesafluorofosfato |
| lcnacure® 369 | 119313-12-1 | 2-Benzil-2-(dimetilammino)-4′-morfolinobutirrofenone |
| lcnacure® 379 | 119344-86-4 | 1-Butanone, 2-(dimetilammino)-2-(4-metilfenil)metil-1-4-(4-morfolinil)fenil- |
| lcnacure® 938 | 61358-25-6 | Esafluorofosfato di bis(4-terz-butilfenile) iodonio |
| lcnacure® 6992 MX | 75482-18-7 & 74227-35-3 | Fotoiniziatore cationico UVI-6992 |
| lcnacure® 6992 | 68156-13-8 | Esafluorofosfato di difenile(4-feniltio)fenilsufonio |
| lcnacure® 6993-S | 71449-78-0 & 89452-37-9 | Sali di esafluoroantimonato di triarilsolfonio di tipo misto |
| lcnacure® 6993-P | 71449-78-0 | 4-Thiofenil fenil difenil solfonato di esafluoroantimonato di alluminio |
| lcnacure® 1206 | Fotoiniziatore APi-1206 |