{"id":5839,"date":"2023-01-07T13:24:52","date_gmt":"2023-01-07T13:24:52","guid":{"rendered":"https:\/\/longchangchemical.com\/?p=5839"},"modified":"2026-04-28T10:42:13","modified_gmt":"2026-04-28T10:42:13","slug":"six-additives-commonly-used-in-uv-coatings","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/longchangchemical.com\/pt\/six-additives-commonly-used-in-uv-coatings\/","title":{"rendered":"Quais s\u00e3o os seis aditivos comumente usados em revestimentos UV?"},"content":{"rendered":"

Quais s\u00e3o os seis aditivos comumente usados em revestimentos UV?<\/strong><\/h1>\n

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Resposta r\u00e1pida:<\/strong> Para a sele\u00e7\u00e3o de mon\u00f4meros e resinas UV, a quest\u00e3o comercial chave n\u00e3o \u00e9 \"qual material \u00e9 o melhor em geral\", mas sim \"qual pacote oferece o equil\u00edbrio certo entre fluidez, cura, ades\u00e3o e durabilidade na aplica\u00e7\u00e3o real\".<\/p>\n

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Os materiais de base cati\u00f4nica e livre de UV s\u00e3o muito diferentes, mas a composi\u00e7\u00e3o geral \u00e9 semelhante. O sistema cati\u00f4nico \u00e9 composto principalmente de materiais ep\u00f3xi, mas a velocidade de rea\u00e7\u00e3o do ep\u00f3xi bisfenol A comum \u00e9 lenta, com mais aplica\u00e7\u00f5es de materiais ep\u00f3xi \/ oxetano alic\u00edclicos; a comercializa\u00e7\u00e3o do sistema de radicais livres est\u00e1 agora muito madura, com materiais de acrilato modificados com ep\u00f3xi \/ poli\u00e9ster \/ poliuretano que podem oferecer mais op\u00e7\u00f5es de solu\u00e7\u00f5es.<\/p>\n

Os sistemas cati\u00f4nicos UV t\u00eam menos op\u00e7\u00f5es de mat\u00e9ria-prima do que os sistemas de radicais livres, e as resinas ep\u00f3xi alic\u00edclicas de baixa viscosidade s\u00e3o os principais pol\u00edmeros. Tomemos como exemplo as resinas ep\u00f3xi alic\u00edclicas.<\/p>\n

O TTA21 de v\u00e1rias especifica\u00e7\u00f5es de pureza \u00e9 o produto mais dominante no setor de revestimentos UV. Como a aplica\u00e7\u00e3o de revestimentos\/aplica\u00e7\u00f5es cati\u00f4nicos de UV continua a crescer significativamente, prev\u00ea-se que a quantidade de resinas ep\u00f3xi alic\u00edclicas representadas pelo TTA21 aumentar\u00e1.<\/p>\n

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Nas aplica\u00e7\u00f5es espec\u00edficas de produtos de tintas\/revestimentos, al\u00e9m de ambos precisarem de luz UV para fornecer energia de cura, os dois sistemas refletem grandes diferen\u00e7as no desempenho e nas caracter\u00edsticas de rea\u00e7\u00e3o.<\/p>\n

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1. Efeito de bloqueio de oxig\u00eanio<\/p>\n

O sistema cati\u00f4nico UV n\u00e3o tem o efeito de bloquear o oxig\u00eanio, mas tem mais medo da \u00e1gua, a umidade afetar\u00e1 a efici\u00eancia da cura do sistema cati\u00f4nico; os radicais livres UV, ao contr\u00e1rio, pela influ\u00eancia do bloqueio de oxig\u00eanio.<\/p>\n

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2. Ades\u00e3o ao substrato<\/p>\n

Normalmente, nos casos em que \u00e9 mais dif\u00edcil aderir \u00e0 superf\u00edcie do substrato, como vidro\/metal\/pl\u00e1stico de alta densidade, o c\u00e1tion UV tem melhor desempenho de ades\u00e3o do que a base livre de UV.<\/p>\n

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3. Taxa de encolhimento do volume<\/p>\n

A taxa de encolhimento da cura da formula\u00e7\u00e3o do sistema de radicais livres UV \u00e9 geralmente superior a 10%, enquanto o sistema de c\u00e1tions UV pode controlar a taxa de encolhimento de 1-3%, sendo uma boa solu\u00e7\u00e3o para resolver o encolhimento do volume.<\/p>\n

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4. Caracter\u00edsticas de cura escura<\/p>\n

O sistema de c\u00e1tion UV pode continuar a reagir \u00e0 camada interna depois de interromper a irradia\u00e7\u00e3o da fonte de luz, para completar o material ap\u00f3s a cura. Essas s\u00e3o as caracter\u00edsticas de cura escura, muito adequadas para aplica\u00e7\u00f5es de revestimento espesso, o aquecimento do c\u00e1tion ap\u00f3s a velocidade de cura \u00e9 significativamente \u00fatil; o radical livre UV \u00e9 um sistema de rea\u00e7\u00e3o stop-and-go.<\/p>\n

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5. Seguran\u00e7a de contato<\/p>\n

O grau de rea\u00e7\u00e3o do sistema de c\u00e1tion UV \u00e9 pr\u00f3ximo a 100%, a seguran\u00e7a pode ser certificada por testes REACH\/FDA, pode ser usada em embalagens de alimentos e outros campos relacionados.<\/p>\n

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6. Velocidade de cura da luz<\/p>\n

Em geral, a velocidade de cura do sistema radical livre UV \u00e9 maior do que a do sistema cati\u00f4nico, afetada pela secagem da superf\u00edcie cati\u00f4nica dos produtos bloqueadores de oxig\u00eanio, mas a velocidade real de secagem n\u00e3o \u00e9 t\u00e3o r\u00e1pida quanto a do radical livre.<\/p>\n

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Notas de formula\u00e7\u00e3o<\/p>\n

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O sistema de c\u00e1tion UV pode ser misturado com o sistema de radical livre UV em qualquer propor\u00e7\u00e3o, chamado de sistema h\u00edbrido UV, pode melhorar a velocidade de cura relativa do c\u00e1tion UV e do encolhimento do radical livre UV, afetado pela barreira de oxig\u00eanio e outras defici\u00eancias, a mesma espessura de filme da diferen\u00e7a de energia de cura do sistema n\u00e3o \u00e9 grande.<\/p>\n

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O sistema de c\u00e1tion UV depende do iniciador gerado pelo \u00e1cido forte de Lewis para fazer o ponto ativo da rea\u00e7\u00e3o de abertura do anel; a f\u00f3rmula geralmente afeta a atividade do iniciador do material, principalmente pigmentos org\u00e2nicos azo (podem ser modificados para fazer a prote\u00e7\u00e3o) e radicais livres misturados com TPO\/819\/907 e outras estruturas que cont\u00eam P, S e outros elementos do iniciador, e semelhante a 115 aminas de v\u00e1rios n\u00edveis.<\/p>\n

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A umidade influencia a cura do sistema cati\u00f4nico UV, portanto, \u00e9 adequado controlar a umidade ambiente dentro de 50%; o aquecimento acelera a velocidade da rea\u00e7\u00e3o.<\/p>\n

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Fotoiniciador UV<\/span><\/a> Produtos da mesma s\u00e9rie<\/strong><\/h2>\n

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Fotoiniciador TPO<\/span><\/a><\/td>\nCAS 75980-60-8<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador TMO<\/span><\/a><\/td>\nCAS 270586-78-2<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador PD-01<\/span><\/a><\/td>\nCAS 579-07-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador PBZ<\/span><\/a><\/td>\nCAS 2128-93-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador OXE-02<\/span><\/a><\/td>\nCAS 478556-66-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador OMBB<\/span><\/a><\/td>\nCAS 606-28-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador MPBZ (6012)<\/span><\/a><\/td>\nCAS 86428-83-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador MBP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 134-84-9<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador MBF<\/span><\/a><\/td>\nCAS 15206-55-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador LAP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 85073-19-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador ITX<\/span><\/a><\/td>\nCAS 5495-84-1<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador EMK<\/span><\/a><\/td>\nCAS 90-93-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador EHA<\/span><\/a><\/td>\nCAS 21245-02-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador EDB<\/span><\/a><\/td>\nCAS 10287-53-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador DETX<\/span><\/a><\/td>\nCAS 82799-44-8<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador CQ \/ canforoquinona<\/span><\/a><\/td>\nCAS 10373-78-1<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador CBP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 134-85-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador BP \/ Benzofenona<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119-61-9<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador BMS<\/span><\/a><\/td>\nCAS 83846-85-9<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 938<\/span><\/a><\/td>\nCAS 61358-25-6<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 937<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71786-70-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 819 DW<\/span><\/a><\/td>\nCAS 162881-26-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 819<\/span><\/a><\/td>\nCAS 162881-26-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 784<\/span><\/a><\/td>\nCAS 125051-32-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 754<\/span><\/a><\/td>\nCAS 211510-16-6 442536-99-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 6993<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71449-78-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 6976<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71449-78-0 89452-37-9 108-32-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 379<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119344-86-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 369<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119313-12-1<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 160<\/a><\/span><\/td>\nCAS 71868-15-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 1206<\/span><\/a><\/td>\n<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 1173<\/span><\/a><\/td>\nCAS 7473-98-5<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n

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Uma vis\u00e3o pr\u00e1tica de fornecimento e formula\u00e7\u00e3o de mon\u00f4meros e olig\u00f4meros UV<\/h2>\n

As formula\u00e7\u00f5es de UV de maior sucesso s\u00e3o constru\u00eddas escolhendo primeiro a base e, em seguida, ajustando o pacote de mon\u00f4meros reativos em torno do substrato, m\u00e9todo de cura e estresse de uso final. Isso geralmente produz um resultado mais est\u00e1vel do que escolher materiais apenas pela viscosidade ou pre\u00e7o.<\/p>\n