{"id":5703,"date":"2022-11-02T09:08:11","date_gmt":"2022-11-02T09:08:11","guid":{"rendered":"https:\/\/longchangchemical.com\/?p=5703"},"modified":"2026-04-28T10:42:10","modified_gmt":"2026-04-28T10:42:10","slug":"comparison-of-uv-free-radical-and-cationic-curing","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/longchangchemical.com\/pt\/comparison-of-uv-free-radical-and-cationic-curing\/","title":{"rendered":"Compara\u00e7\u00e3o da cura cati\u00f4nica e radical livre de UV"},"content":{"rendered":"

Compara\u00e7\u00e3o da cura cati\u00f4nica e radical livre de UV<\/strong><\/h1>\n

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Quick answer:<\/strong> For practical formulation work, photoinitiator screening starts with the light source and film build, then checks yellowing, adhesion, and cure completeness under real production conditions.<\/p>\n

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O revestimento de cura ultravioleta (UV) \u00e9 um novo revestimento ecologicamente correto desenvolvido pela Alemanha no final da d\u00e9cada de 1960, que tem as vantagens de alta efici\u00eancia, economia de energia, n\u00e3o polui\u00e7\u00e3o, forma\u00e7\u00e3o r\u00e1pida de filme e excelente desempenho de revestimento, e por isso tem se desenvolvido rapidamente. Em 1994, a China consumiu de 3.100 a 3.300 toneladas de v\u00e1rios tipos de revestimentos cur\u00e1veis por UV e, em 1998, o consumo foi de 6.200 a 6.400 toneladas, com uma taxa m\u00e9dia de crescimento anual de mais de 25%. A cura por UV pode ser dividida em cura por radicais livres e cura cati\u00f4nica dois. Atualmente, a cura por radicais livres \u00e9 comumente usada, e a cura cati\u00f4nica tamb\u00e9m foi analisada em v\u00e1rias publica\u00e7\u00f5es. No entanto, o uso espec\u00edfico da tecnologia de cura cati\u00f4nica dom\u00e9stica n\u00e3o foi relatado; a cura cati\u00f4nica e a cura por radicais livres de UV no uso e no desempenho das diferen\u00e7as entre as duas, mas tamb\u00e9m n\u00e3o foram encontradas na literatura relevante.<\/p>\n

1) Mecanismo de compara\u00e7\u00e3o entre a cura radical UV e a cura cati\u00f4nica<\/p>\n

Sob irradia\u00e7\u00e3o UV, a decomposi\u00e7\u00e3o de diferentes fotoiniciadores produz resultados diferentes, alguns produzem radicais livres, outros produzem c\u00e1tions, radicais livres ou c\u00e1tions podem acionar os diluentes zwitteri\u00f4nicos e reativos correspondentes com atividade reativa, ocorrem rea\u00e7\u00f5es de polimeriza\u00e7\u00e3o e a forma\u00e7\u00e3o da estrutura de rede tridimensional do pol\u00edmero.<\/p>\n

Na polimeriza\u00e7\u00e3o de radicais livres iniciada por UV, h\u00e1 mais chance de desativa\u00e7\u00e3o ou t\u00e9rmino da cadeia de radicais livres, e h\u00e1 menos possibilidade de continuar a polimeriza\u00e7\u00e3o e a cura quando a luz \u00e9 interrompida. Enquanto isso, o oxig\u00eanio tamb\u00e9m reage facilmente com os radicais livres para gerar radicais per\u00f3xidos mais est\u00e1veis, de modo que o oxig\u00eanio desempenha um papel no bloqueio da polimeriza\u00e7\u00e3o. No processo de polimeriza\u00e7\u00e3o cati\u00f4nica (tamb\u00e9m h\u00e1 um pequeno n\u00famero de radicais livres gerados, mas principalmente a cura iniciada por c\u00e1tions), porque os c\u00e1tions n\u00e3o podem ser acoplados entre si e n\u00e3o reagem com o oxig\u00eanio. Mesmo que a rea\u00e7\u00e3o de transfer\u00eancia de cadeia ocorra, um novo centro ativo cati\u00f4nico ser\u00e1 gerado, de modo que a rea\u00e7\u00e3o de cura cati\u00f4nica continue<\/p>\n

2) Formula\u00e7\u00f5es de radicais livres e formula\u00e7\u00f5es cati\u00f4nicas do teste de compara\u00e7\u00e3o da velocidade de cura<\/p>\n

Seja em papel ou alum\u00ednio, a formula\u00e7\u00e3o de radical livre cura mais rapidamente do que a formula\u00e7\u00e3o cati\u00f4nica. Isso se deve ao fato de que.<\/p>\n

iniciador cati\u00f4nico por irradia\u00e7\u00e3o UV, resultando em um centro ativo super\u00e1cido, devido \u00e0 presen\u00e7a de impurezas alcalinas no sistema, o centro ativo \u00e9 neutralizado primeiro por \u00e1lcali, resultando na velocidade do manto de polimeriza\u00e7\u00e3o cati\u00f4nica.<\/p>\n

Como um iniciador de cura cati\u00f4nica, principalmente sal de \u00edon iodeto de arila (enxofre), irradia\u00e7\u00e3o UV, o centro ativo cati\u00f4nico gerado pelo maior volume, atacando o grupo ep\u00f3xi no \u00e1tomo de carbono, para substitui\u00e7\u00e3o nucleof\u00edlica bimolecular (Sw2), o efeito de resist\u00eancia do local \u00e9 maior, e a polimeriza\u00e7\u00e3o de radical livre n\u00e3o tem esse efeito de resist\u00eancia do local, de modo que a velocidade da tabela de poli cati\u00f4nica \u00e9 mais lenta do que a do radical livre.<\/p>\n

3) Compara\u00e7\u00e3o do efeito do oxig\u00eanio na velocidade de cura de ambos<\/p>\n

O oxig\u00eanio afeta significativamente a velocidade da cura de radicais livres, enquanto o efeito sobre o c\u00e1tion \u00e9 muito fraco. O efeito de bloqueio do oxig\u00eanio na polimeriza\u00e7\u00e3o de radical livre pode ser visto pela f\u00f3rmula do mecanismo, pois o O2 \u00e9 muito f\u00e1cil de reagir com o radical R- para produzir o radical peroxi ROO-, que \u00e9 dif\u00edcil de iniciar a polimeriza\u00e7\u00e3o de radical livre. A constante da taxa de rea\u00e7\u00e3o do radical R- e O: \u00e9 104 a 105 vezes maior do que a do R- e das mol\u00e9culas de mon\u00f4mero. Portanto, se o O2 estiver presente no revestimento, o R- reagir\u00e1 primeiro com o O2 e ser\u00e1 consumido, diminuindo muito a velocidade da rea\u00e7\u00e3o. Al\u00e9m disso, o O2 tem mais dois el\u00e9trons desemparelhados com dire\u00e7\u00f5es de rota\u00e7\u00e3o opostas e \u00e9 um estado tripleto est\u00e1vel. No entanto, sob a irradia\u00e7\u00e3o UV, ele se tornar\u00e1 muito ativo e poder\u00e1 se combinar com o estado excitado do fotoiniciador e, em seguida, se decompor no estado fundamental do fotoiniciador e no estado linear \u00fanico do O2. sua constante de taxa de rea\u00e7\u00e3o k, at\u00e9 109 ordens de magnitude Kaw, reduzindo assim a efici\u00eancia do fotoiniciador. Durante o processo de cura cati\u00f4nica, o O2 n\u00e3o reage com o centro ativo de \u00e1cido forte produzido pelo iniciador. Portanto, mesmo que uma quantidade residual de O2 esteja presente no revestimento, ela ter\u00e1 um grande efeito de bloqueio na cura de radicais livres, embora tenha pouco efeito no sistema cati\u00f4nico.<\/p>\n

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4) Compara\u00e7\u00e3o do efeito da temperatura na velocidade de cura<\/p>\n

O controle da temperatura tamb\u00e9m \u00e9 um fator importante. Para examinar o efeito da temperatura sobre a velocidade de cura de ambos, as duas formula\u00e7\u00f5es acima foram curadas em diferentes temperaturas, e a velocidade de cura das formula\u00e7\u00f5es cati\u00f4nicas e de radicais livres tendeu a aumentar com o aumento da temperatura. Isso ocorre porque o fotoiniciador tem a menor taxa de inicia\u00e7\u00e3o no processo de polimeriza\u00e7\u00e3o fotoiniciado e \u00e9 a etapa lenta no controle da rea\u00e7\u00e3o. O aumento da temperatura favorece o iniciador a obter a energia de ativa\u00e7\u00e3o necess\u00e1ria para a decomposi\u00e7\u00e3o e a r\u00e1pida gera\u00e7\u00e3o de radicais livres ou c\u00e1tions, e a temperatura favorece a abertura da liga\u00e7\u00e3o n ou do anel na liga\u00e7\u00e3o dupla do sistema de polimeriza\u00e7\u00e3o, desencadeando a rea\u00e7\u00e3o de polimeriza\u00e7\u00e3o, de modo que a velocidade de cura do revestimento \u00e9 acelerada. No entanto, o iniciador \u00e9 f\u00e1cil de se decompor termicamente, por isso a temperatura de cura \u00e9 geralmente controlada abaixo de 80\u00b0C.<\/p>\n

5) Compara\u00e7\u00e3o do desempenho geral do revestimento<\/p>\n

A ades\u00e3o do sistema de cura cati\u00f4nica ao sistema de cura por radicais livres \u00e9 excelente, especialmente o sistema cati\u00f4nico em alum\u00ednio atingiu a ades\u00e3o 100%. O motivo dessa diferen\u00e7a \u00e9 que o mecanismo de cura por radicais livres e o mecanismo de cura cati\u00f4nica podem ser vistos na polimeriza\u00e7\u00e3o por radicais livres, na dist\u00e2ncia do mon\u00f4mero ou do zwitteri\u00f4nico da dist\u00e2ncia da for\u00e7a de van der Waals antes da cura at\u00e9 a dist\u00e2ncia da liga\u00e7\u00e3o covalente ap\u00f3s a cura e na velocidade de cura, de modo que o encolhimento do volume \u00e9 \u00f3bvio, resultando em alta tens\u00e3o interna e baixa ades\u00e3o. Embora o mesmo encolhimento de volume causado pela dist\u00e2ncia entre a a\u00e7\u00e3o da for\u00e7a de van der Waals e a liga\u00e7\u00e3o covalente ap\u00f3s a cura exista na polimeriza\u00e7\u00e3o de compostos de ep\u00f3xi, por outro lado, quando o mon\u00f4mero de ep\u00f3xi \u00e9 polimerizado, o anel no mon\u00f4mero se abre para formar uma unidade de estrutura de cadeia maior do que a estrutura molecular do mon\u00f4mero, compensando parte do encolhimento de volume. Como resultado, a ades\u00e3o entre o filme curado cati\u00f4nico e o substrato \u00e9 significativamente maior em compara\u00e7\u00e3o com a dos radicais livres. Comparando a resist\u00eancia a solventes dos revestimentos curados com radicais livres e cati\u00f4nicos, a diferen\u00e7a \u00e9 significativa, e a resist\u00eancia a solventes dos revestimentos curados com cati\u00f4nicos melhora muito com o tempo. O mecanismo de rea\u00e7\u00e3o de radicais livres mostra que, no processo de polimeriza\u00e7\u00e3o de radicais livres, a resist\u00eancia a solventes n\u00e3o muda muito com o passar do tempo porque a velocidade de cura de radicais livres \u00e9 r\u00e1pida e o revestimento pode ser seco por dentro e por fora em um curto per\u00edodo de tempo. A polimeriza\u00e7\u00e3o cati\u00f4nica \u00e9 diferente: quando a fonte de luz UV \u00e9 removida, o centro ativo cati\u00f4nico no sistema n\u00e3o ser\u00e1 combinado e desaparecer\u00e1, mesmo que haja uma rea\u00e7\u00e3o de transfer\u00eancia de cadeia (consulte a f\u00f3rmula do mecanismo de cura cati\u00f4nica), tamb\u00e9m haver\u00e1 a termina\u00e7\u00e3o da cadeia ao mesmo tempo, e haver\u00e1 um novo centro ativo cati\u00f4nico. Portanto, ap\u00f3s a irradia\u00e7\u00e3o UV, a primeira em um per\u00edodo relativamente curto de tempo para formar um filme de cura na superf\u00edcie do revestimento, para obter a \"superf\u00edcie seca\", depois que o revestimento deixa a fonte de luz UV, o filme de revestimento interno ainda existe em grandes quantidades de c\u00e1tions, continua a abrir a rea\u00e7\u00e3o de anel com compostos ep\u00f3xi, da superf\u00edcie e do interior, a forma\u00e7\u00e3o de um todo polim\u00e9rico reticulado, para secar. Portanto, com o prolongamento do tempo, a resist\u00eancia a solventes do filme de revestimento curado cati\u00f4nico \u00e9 bastante aprimorada.<\/p>\n

6) Conclus\u00e3o<\/p>\n

A velocidade de cura cati\u00f4nica e de cura por radia\u00e7\u00e3o livre de UV aumenta com o aumento da temperatura, e a velocidade de cura por radia\u00e7\u00e3o livre \u00e9 maior do que a velocidade de cura cati\u00f4nica.<\/p>\n

velocidade de cura radical livre, encolhimento de volume, ades\u00e3o ruim, encolhimento de volume de cura cati\u00f4nica \u00e9 pequeno, excelente ades\u00e3o.<\/p>\n

O oxig\u00eanio tem um efeito significativo de bloqueio de coalesc\u00eancia na cura de radicais livres. Cura cati\u00f4nica sem efeito de bloqueio de oxig\u00eanio, mas h\u00e1 uma \"rea\u00e7\u00e3o escura\", com o prolongamento do tempo, sua resist\u00eancia a solventes melhorou muito;.<\/p>\n

Compara\u00e7\u00e3o entre as duas, a cura por radicais livres \u00e9 adequada para requisitos de ades\u00e3o n\u00e3o muito altos, mas requer cura r\u00e1pida de tintas e revestimentos; a tecnologia de cura cati\u00f4nica \u00e9 adequada para requisitos de alta ades\u00e3o de tintas e revestimentos.<\/p>\n

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Produtos da mesma s\u00e9rie<\/strong><\/h2>\n

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Fotoiniciador TPO<\/span><\/a><\/td>\nCAS 75980-60-8<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador TMO<\/span><\/a><\/td>\nCAS 270586-78-2<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador PD-01<\/span><\/a><\/td>\nCAS 579-07-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador PBZ<\/span><\/a><\/td>\nCAS 2128-93-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador OXE-02<\/span><\/a><\/td>\nCAS 478556-66-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador OMBB<\/span><\/a><\/td>\nCAS 606-28-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador MPBZ (6012)<\/span><\/a><\/td>\nCAS 86428-83-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador MBP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 134-84-9<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador MBF<\/span><\/a><\/td>\nCAS 15206-55-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador LAP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 85073-19-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador ITX<\/span><\/a><\/td>\nCAS 5495-84-1<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador EMK<\/span><\/a><\/td>\nCAS 90-93-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador EHA<\/span><\/a><\/td>\nCAS 21245-02-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador EDB<\/span><\/a><\/td>\nCAS 10287-53-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador DETX<\/span><\/a><\/td>\nCAS 82799-44-8<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador CQ \/ canforoquinona<\/span><\/a><\/td>\nCAS 10373-78-1<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador CBP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 134-85-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador BP \/ Benzofenona<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119-61-9<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador BMS<\/span><\/a><\/td>\nCAS 83846-85-9<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 938<\/span><\/a><\/td>\nCAS 61358-25-6<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 937<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71786-70-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 819 DW<\/span><\/a><\/td>\nCAS 162881-26-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 819<\/span><\/a><\/td>\nCAS 162881-26-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 784<\/span><\/a><\/td>\nCAS 125051-32-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 754<\/span><\/a><\/td>\nCAS 211510-16-6 442536-99-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 6993<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71449-78-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 6976<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71449-78-0 89452-37-9 108-32-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 379<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119344-86-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 369<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119313-12-1<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 160<\/a><\/span><\/td>\nCAS 71868-15-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 1206<\/span><\/a><\/td>\n<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniciador 1173<\/span><\/a><\/td>\nCAS 7473-98-5<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n

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A practical selection route for photoinitiator-related projects<\/h2>\n

When technical buyers or formulators screen photoinitiators, the most useful decision frame is usually cure quality plus application fit: which package cures reliably, keeps appearance acceptable, and still works under the lamp, film thickness, and substrate conditions of the actual process.<\/p>\n