{"id":5596,"date":"2022-09-23T08:37:38","date_gmt":"2022-09-23T08:37:38","guid":{"rendered":"https:\/\/longchangchemical.com\/?p=5596"},"modified":"2026-04-28T10:42:08","modified_gmt":"2026-04-28T10:42:08","slug":"uv-oligomers-used-in-light-curing-coatings","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/longchangchemical.com\/pt\/uv-oligomers-used-in-light-curing-coatings\/","title":{"rendered":"Olig\u00f4meros UV usados em revestimentos fotopolimeriz\u00e1veis"},"content":{"rendered":"

Olig\u00f4meros UV usados em revestimentos fotopolimeriz\u00e1veis<\/strong><\/h1>\n

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Quick answer:<\/strong> UV monomers and oligomers are usually chosen by viscosity, adhesion, flexibility, shrinkage, and cure speed as a package. The most reliable formulas come from balancing those properties rather than maximizing only one.<\/p>\n

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O olig\u00f4mero usado em revestimentos fotopolimeriz\u00e1veis tamb\u00e9m \u00e9 conhecido como pr\u00e9-pol\u00edmero, que tem um peso molecular pequeno, possui as caracter\u00edsticas de grupos de polimeriza\u00e7\u00e3o, viscosidade e \u00e9 o corpo principal do filme de revestimentos fotopolimeriz\u00e1veis. A fotopolimeriza\u00e7\u00e3o \u00e9 a rea\u00e7\u00e3o de polimeriza\u00e7\u00e3o entre mol\u00e9culas insaturadas, de acordo com o mecanismo de inicia\u00e7\u00e3o do iniciador, h\u00e1 polimeriza\u00e7\u00e3o de radicais livres e polimeriza\u00e7\u00e3o cati\u00f4nica, sendo mais comum a polimeriza\u00e7\u00e3o de radicais livres, essa rea\u00e7\u00e3o de reticula\u00e7\u00e3o de polimeriza\u00e7\u00e3o C-C \u00e9 uma reticula\u00e7\u00e3o r\u00edgida. A rea\u00e7\u00e3o de polimeriza\u00e7\u00e3o de radical livre \u00e9 r\u00e1pida, o encolhimento \u00e9 grande; a altera\u00e7\u00e3o do grau de polimeriza\u00e7\u00e3o \u00e9 pequena, a influ\u00eancia do bloqueio da polimeriza\u00e7\u00e3o \u00e9 grande (0,01-0,1% do agente de bloqueio para evitar a rea\u00e7\u00e3o). O estudo constatou que a liga\u00e7\u00e3o dupla n\u00e3o \u00e9 polimerizada quando seu espa\u00e7amento \u00e9 longo; uma vez polimerizada, a gera\u00e7\u00e3o de liga\u00e7\u00f5es covalentes, o espa\u00e7amento \u00e9 encurtado, causando redu\u00e7\u00e3o de volume, e todas as liga\u00e7\u00f5es duplas de polimeriza\u00e7\u00e3o insaturada encolhem at\u00e9 11%.<\/p>\n

As formula\u00e7\u00f5es de revestimento fotopolimeriz\u00e1vel s\u00e3o complexas, com o seguinte desempenho.<\/p>\n

Primeiro, h\u00e1 muitos tipos de mon\u00f4meros e muitos tipos de olig\u00f4meros de base (resinas). Atualmente, de acordo com a s\u00edntese de grupos funcionais a serem divididos em classe de poli\u00e9ster insaturado PE, ep\u00f3xi EA, classe de poliuretano PUA, classe de poli\u00e9ster PEA, classe de amino, classe de poli\u00e9ter, classe de organossil\u00edcio, classe de \u00e9ster de fosfato, classe mista, etc.<\/p>\n

Em segundo lugar, de acordo com a fun\u00e7\u00e3o dos revestimentos fotopolimeriz\u00e1veis comumente usados na resina, h\u00e1 as seguintes categorias.<\/p>\n

1 \u3001 Resina dura - alta Tg, alta dureza, boas propriedades qu\u00edmicas, maior velocidade de cura. Como o bisfenol A EA padr\u00e3o; PUA de alto grupo funcional e 2fPUA de pequeno peso molecular; aminoacrilato de alto grupo funcional; olig\u00f4meros de metacrilato, etc.<\/p>\n

2, resina macia - Tg pequena, boa flexibilidade, velocidade de cura lenta, baixa densidade de reticula\u00e7\u00e3o. Como ep\u00f3xi modificado - acrilato de \u00f3leo de soja ep\u00f3xi, etc.; acrilato de poli\u00e9ster de cadeia longa; estrutura de cadeia reta com peso molecular m\u00e9dio superior a 1.200 PUA; alguns olig\u00f4meros de acrilato puro, etc.<\/p>\n

3, resina polar, \u00e9 o olig\u00f4mero que cont\u00e9m hidrog\u00eanio ativo ou \u00e9 f\u00e1cil de formar liga\u00e7\u00f5es de hidrog\u00eanio, podendo alterar a polaridade ou a tens\u00e3o superficial. Por exemplo, acrilato de fosfato, olig\u00f4meros de silicone, olig\u00f4meros de acrilato de carboxila, etc.<\/p>\n

4, olig\u00f4meros UV \u00e0 base de \u00e1gua, tipo de emuls\u00e3o comum, tipo de dispers\u00e3o em \u00e1gua, tipo sol\u00favel em \u00e1gua.<\/p>\n

5, as resinas de classe sem reticula\u00e7\u00e3o na formula\u00e7\u00e3o de revestimentos fotopolimeriz\u00e1veis t\u00eam uma fun\u00e7\u00e3o de preenchimento, melhoram a densidade de reticula\u00e7\u00e3o, aumentam a ades\u00e3o, alteram a flexibilidade, melhoram a molhabilidade e outras fun\u00e7\u00f5es. Geralmente, essas resinas s\u00e3o resina alqu\u00eddica de \u00f3leo longo, resina de acrilato termopl\u00e1stico, resina de alde\u00eddo e cetona, resina de petr\u00f3leo etc.<\/p>\n

Em terceiro lugar, o projeto da f\u00f3rmula de revestimento de cura por luz (UV) na escolha da resina.<\/p>\n

Antes de projetar a f\u00f3rmula do revestimento, o tipo de revestimento deve ser claro, ou seja, primer, acabamento ou tinta colorida; e entender as propriedades b\u00e1sicas do material revestido, como tamanho da polaridade (tens\u00e3o superficial), com ou sem cristaliza\u00e7\u00e3o, pertencente a termopl\u00e1sticos ou termofixos, etc. A descri\u00e7\u00e3o espec\u00edfica \u00e9 a seguinte.<\/p>\n

1, a escolha da resina de primer. Em primeiro lugar, \u00e9 o requisito de ades\u00e3o, que \u00e9 a generalidade da resina de primer; molhabilidade, que se refere ao umedecimento da cor e do preenchimento e ao umedecimento do substrato, que s\u00e3o dois requisitos diferentes, porque a tens\u00e3o superficial do substrato e do preenchimento de cor n\u00e3o ser\u00e1 exatamente a mesma; flexibilidade, que envolve principalmente o lixamento e a ades\u00e3o entre camadas.<\/p>\n

2\u3001Sele\u00e7\u00e3o da resina para o revestimento superior. O desempenho da camada superior e a escolha da resina s\u00e3o descritos abaixo.<\/p>\n

Plenitude e nivelamento do filme. Para atingir esse requisito, \u00e9 necess\u00e1rio escolher resinas e mon\u00f4meros compat\u00edveis com boa compatibilidade, melhorar a umecta\u00e7\u00e3o e o nivelamento com o primer, aumentar o grau de reticula\u00e7\u00e3o adequadamente e escolher uma resina de \u00edndice de refra\u00e7\u00e3o mais alto.<\/p>\n

A tenacidade envolve principalmente a dureza e a resist\u00eancia \u00e0 abras\u00e3o. Essas duas propriedades est\u00e3o relacionadas, mas n\u00e3o s\u00e3o necessariamente id\u00eanticas, e precisam ser tratadas de forma diferente.<\/p>\n

Ades\u00e3o entre camadas. A solu\u00e7\u00e3o de ades\u00e3o entre camadas precisa atender \u00e0 umecta\u00e7\u00e3o, ao nivelamento e \u00e0 polaridade da resina.<\/p>\n

EA, PUA (poli\u00e9ster) tem boa resist\u00eancia qu\u00edmica, PE, poli\u00e9ter \u00e9 mais fraco; em geral, PUA alif\u00e1tico, acrilato de poli\u00e9ter puro, C puro, classe amino t\u00eam boa resist\u00eancia ao amarelamento, a formula\u00e7\u00e3o da adi\u00e7\u00e3o do agente antiamarelamento adequado tamb\u00e9m pode aumentar efetivamente a resist\u00eancia ao amarelamento da camada superior.<\/p>\n

Requisito de fosco. Algumas resinas com peso molecular ligeiramente menor ou muito grande ter\u00e3o um certo efeito fosco; o efeito fosco de algumas resinas de poliuretano tamb\u00e9m \u00e9 bom.<\/p>\n

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How buyers usually evaluate UV monomers and resin systems<\/h2>\n

Most successful UV formulations are built by choosing the backbone first and then tuning the reactive monomer package around the substrate, cure method, and end-use stress. That usually produces a more stable result than choosing materials by viscosity or price alone.<\/p>\n