{"id":5255,"date":"2022-05-23T13:21:37","date_gmt":"2022-05-23T13:21:37","guid":{"rendered":"https:\/\/longchangchemical.com\/?p=5255"},"modified":"2026-04-28T10:42:00","modified_gmt":"2026-04-28T10:42:00","slug":"the-complete-guide-to-photoresist","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/longchangchemical.com\/pt\/the-complete-guide-to-photoresist\/","title":{"rendered":"2023 O guia completo do fotorresiste"},"content":{"rendered":"

2023 O guia completo do fotorresiste<\/strong><\/h1>\n

<\/p>\n

Resposta r\u00e1pida:<\/strong> A escolha do fotoiniciador geralmente \u00e9 determinada pela compatibilidade com a l\u00e2mpada, profundidade de cura, amarelamento e se o filme final ainda apresenta bom desempenho no substrato real. A melhor op\u00e7\u00e3o raramente \u00e9 a mais barata de um \u00fanico componente.<\/p>\n

<\/p>\n

For negative photoresist development, Fotoiniciador OXE-02<\/a> is a useful product reference when evaluating cure speed and imaging performance under UV exposure.<\/p>\n

O fotorresiste, tamb\u00e9m conhecido como fotoresiste, \u00e9 um l\u00edquido misto sens\u00edvel \u00e0 luz. \u00c9 composto por fotoiniciador, resina fotorresistente, mon\u00f4mero, solvente e outros aditivos. O fotorresiste \u00e9 um tipo de meio de transfer\u00eancia gr\u00e1fica que pode ser usado para transferir a vers\u00e3o gr\u00e1fica da m\u00e1scara para o substrato com diferentes solubilidades ap\u00f3s a rea\u00e7\u00e3o da luz. Atualmente, o fotorresiste \u00e9 amplamente utilizado na fabrica\u00e7\u00e3o de linhas gr\u00e1ficas finas no setor de informa\u00e7\u00f5es optoeletr\u00f4nicas. \u00c9 um dos principais materiais no campo da fabrica\u00e7\u00e3o de eletr\u00f4nicos.
\nDe acordo com o comprimento de onda da luz, o fotorresiste pode ser dividido em fotorresiste ultravioleta (300-450nm), fotorresiste ultravioleta profundo (160-280nm), fotorresiste ultravioleta extremo (EUV, 13,5nm), fotorresiste de feixe de el\u00e9trons, fotorresiste de feixe de \u00edons, fotorresiste de raios X etc. De modo geral, quanto menor o comprimento de onda, melhor a resolu\u00e7\u00e3o de processamento com o mesmo m\u00e9todo de processo.
\nDe acordo com as diferentes aplica\u00e7\u00f5es, os fotorresistentes podem ser divididos em fotorresistentes para placas de circuito impresso (PCBs), telas de cristal l\u00edquido (LCDs), semicondutores e outras aplica\u00e7\u00f5es. As barreiras t\u00e9cnicas dos fotorresistentes para PCBs s\u00e3o relativamente baixas em compara\u00e7\u00e3o com as outras duas categorias, enquanto os fotorresistentes para semicondutores representam o n\u00edvel de tecnologia mais avan\u00e7ado dos fotorresistentes.
\nDe acordo com a estrutura qu\u00edmica, os fotorresistentes podem ser divididos em fotopolim\u00e9ricos, fotol\u00edticos, fotocross-linked e quimicamente exagerados. Os fotorresistentes fotopolim\u00e9ricos usam mon\u00f4meros de alceno para gerar radicais livres sob a a\u00e7\u00e3o da luz, o que desencadeia a polimeriza\u00e7\u00e3o de mon\u00f4meros e, por fim, gera pol\u00edmeros. Os fotorresistentes fotol\u00edticos usam diazoquinonas (DQN) como fotorreceptores, que podem ser transformados em fotorresistentes positivos por meio de rea\u00e7\u00e3o fotol\u00edtica ap\u00f3s a ilumina\u00e7\u00e3o; os fotorresistentes fotocross-linked usam laurato de polivinila como materiais fotossens\u00edveis, que podem ser transformados em fotorresistentes negativos por meio da forma\u00e7\u00e3o de uma estrutura de malha insol\u00favel sob a a\u00e7\u00e3o da luz e da resist\u00eancia \u00e0 corros\u00e3o. Ap\u00f3s o uso de fontes de luz ultravioleta profunda (DUV) na litografia de circuitos integrados de semicondutores, a tecnologia de amplifica\u00e7\u00e3o qu\u00edmica (CAR) tornou-se gradualmente a principal aplica\u00e7\u00e3o do setor. Na tecnologia CAR, a resina \u00e9 um polietileno protegido por grupos qu\u00edmicos e, portanto, dif\u00edcil de dissolver. Os fotorresistentes quimicamente amplificados usam foto\u00e1cidos (PAGs) como fotoiniciadores. Quando o fotorresiste \u00e9 exposto, um \u00e1cido \u00e9 produzido pelo PAG na \u00e1rea exposta. Esse \u00e1cido atua como um catalisador durante o processo de cozimento p\u00f3s-aquecimento e remove os grupos de prote\u00e7\u00e3o da resina, tornando-a prontamente sol\u00favel. Os fotorresistentes quimicamente amplificados s\u00e3o 10 vezes mais r\u00e1pidos do que os fotorresistentes DQN e t\u00eam boa sensibilidade \u00f3ptica a fontes de luz UV profunda, alto contraste e alta resolu\u00e7\u00e3o.
\nO fotorresiste \u00e9 um material importante para a fabrica\u00e7\u00e3o de CIs: a qualidade e o desempenho do fotorresiste \u00e9 um fator-chave que afeta o desempenho, o rendimento e a confiabilidade do CI, o custo do processo de fotolitografia \u00e9 de cerca de 35% de todo o processo de fabrica\u00e7\u00e3o do chip e leva cerca de 40-50% do tempo de todo o processo do chip, o custo do fotorresiste \u00e9 respons\u00e1vel por cerca de 4% do custo total dos materiais de fabrica\u00e7\u00e3o de CIs, o mercado \u00e9 enorme. De acordo com a institui\u00e7\u00e3o terceirizada Wisdom Research Consulting, espera-se que o tamanho do mercado global de fotorresiste seja de quase $9 bilh\u00e3o em 2019, com um CAGR de cerca de 5,4% desde 2010 at\u00e9 o momento. Espera-se que o mercado continue a crescer a uma taxa m\u00e9dia anual de 5% nos pr\u00f3ximos tr\u00eas anos, e o tamanho do mercado global de fotorresiste exceder\u00e1 US$ 10 bilh\u00f5es at\u00e9 2022. O setor de fotorresiste tem barreiras industriais muito altas, de modo que o setor \u00e9 uma situa\u00e7\u00e3o de oligop\u00f3lio em \u00e2mbito global. O setor de fotorresiste tem sido monopolizado por empresas profissionais japonesas e americanas h\u00e1 muitos anos. Atualmente, os cinco principais fabricantes ocupam 87% do mercado global de fotorresiste, e o setor \u00e9 altamente concentrado. Entre eles, a participa\u00e7\u00e3o de mercado da Japan JSR, Tokyo E&C, Japan Shin-Etsu e Fuji Electronic Materials combinada chega a 72%. E a tecnologia principal dos fotorresistentes semicondutores de KrF e ArF de alta resolu\u00e7\u00e3o \u00e9 basicamente monopolizada por empresas japonesas e americanas, e a maioria dos produtos vem de empresas japonesas e americanas, como DuPont, JSR Corporation, Shin-Etsu Chemical, Tokyo Chemical Industry, Fujifilm e Korea Dongjin. Em todo o padr\u00e3o do mercado de fotorresiste, o Jap\u00e3o \u00e9 o maior ponto de encontro do setor de fotorresiste. Atualmente, a China continental \u00e9 altamente dependente de pa\u00edses estrangeiros para materiais eletr\u00f4nicos, especialmente fotorresistentes. Portanto, \u00e9 uma tend\u00eancia inevit\u00e1vel substituir a produ\u00e7\u00e3o nacional de materiais semicondutores.<\/p>\n

 <\/p>\n

<\/p>\n

Uma rota de sele\u00e7\u00e3o pr\u00e1tica para projetos relacionados a fotoiniciadores<\/h2>\n

Ao avaliar fotoiniciadores, os compradores t\u00e9cnicos ou formuladores geralmente consideram a qualidade da cura e a adequa\u00e7\u00e3o \u00e0 aplica\u00e7\u00e3o: qual embalagem cura de forma confi\u00e1vel, mant\u00e9m uma apar\u00eancia aceit\u00e1vel e ainda funciona sob as condi\u00e7\u00f5es da l\u00e2mpada, espessura do filme e substrato do processo real.<\/p>\n