{"id":5255,"date":"2022-05-23T13:21:37","date_gmt":"2022-05-23T13:21:37","guid":{"rendered":"https:\/\/longchangchemical.com\/?p=5255"},"modified":"2026-04-28T10:42:00","modified_gmt":"2026-04-28T10:42:00","slug":"the-complete-guide-to-photoresist","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/longchangchemical.com\/pt\/the-complete-guide-to-photoresist\/","title":{"rendered":"2023 O guia completo do fotorresiste"},"content":{"rendered":"

2023 O guia completo do fotorresiste<\/strong><\/h1>\n

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Quick answer:<\/strong> Photoinitiator choice is usually driven by lamp match, cure depth, yellowing, and whether the final film still performs on the real substrate. The best package is rarely the cheapest single grade.<\/p>\n

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For negative photoresist development, Fotoiniciador OXE-02<\/a> is a useful product reference when evaluating cure speed and imaging performance under UV exposure.<\/p>\n

O fotorresiste, tamb\u00e9m conhecido como fotoresiste, \u00e9 um l\u00edquido misto sens\u00edvel \u00e0 luz. \u00c9 composto por fotoiniciador, resina fotorresistente, mon\u00f4mero, solvente e outros aditivos. O fotorresiste \u00e9 um tipo de meio de transfer\u00eancia gr\u00e1fica que pode ser usado para transferir a vers\u00e3o gr\u00e1fica da m\u00e1scara para o substrato com diferentes solubilidades ap\u00f3s a rea\u00e7\u00e3o da luz. Atualmente, o fotorresiste \u00e9 amplamente utilizado na fabrica\u00e7\u00e3o de linhas gr\u00e1ficas finas no setor de informa\u00e7\u00f5es optoeletr\u00f4nicas. \u00c9 um dos principais materiais no campo da fabrica\u00e7\u00e3o de eletr\u00f4nicos.
\nDe acordo com o comprimento de onda da luz, o fotorresiste pode ser dividido em fotorresiste ultravioleta (300-450nm), fotorresiste ultravioleta profundo (160-280nm), fotorresiste ultravioleta extremo (EUV, 13,5nm), fotorresiste de feixe de el\u00e9trons, fotorresiste de feixe de \u00edons, fotorresiste de raios X etc. De modo geral, quanto menor o comprimento de onda, melhor a resolu\u00e7\u00e3o de processamento com o mesmo m\u00e9todo de processo.
\nDe acordo com as diferentes aplica\u00e7\u00f5es, os fotorresistentes podem ser divididos em fotorresistentes para placas de circuito impresso (PCBs), telas de cristal l\u00edquido (LCDs), semicondutores e outras aplica\u00e7\u00f5es. As barreiras t\u00e9cnicas dos fotorresistentes para PCBs s\u00e3o relativamente baixas em compara\u00e7\u00e3o com as outras duas categorias, enquanto os fotorresistentes para semicondutores representam o n\u00edvel de tecnologia mais avan\u00e7ado dos fotorresistentes.
\nDe acordo com a estrutura qu\u00edmica, os fotorresistentes podem ser divididos em fotopolim\u00e9ricos, fotol\u00edticos, fotocross-linked e quimicamente exagerados. Os fotorresistentes fotopolim\u00e9ricos usam mon\u00f4meros de alceno para gerar radicais livres sob a a\u00e7\u00e3o da luz, o que desencadeia a polimeriza\u00e7\u00e3o de mon\u00f4meros e, por fim, gera pol\u00edmeros. Os fotorresistentes fotol\u00edticos usam diazoquinonas (DQN) como fotorreceptores, que podem ser transformados em fotorresistentes positivos por meio de rea\u00e7\u00e3o fotol\u00edtica ap\u00f3s a ilumina\u00e7\u00e3o; os fotorresistentes fotocross-linked usam laurato de polivinila como materiais fotossens\u00edveis, que podem ser transformados em fotorresistentes negativos por meio da forma\u00e7\u00e3o de uma estrutura de malha insol\u00favel sob a a\u00e7\u00e3o da luz e da resist\u00eancia \u00e0 corros\u00e3o. Ap\u00f3s o uso de fontes de luz ultravioleta profunda (DUV) na litografia de circuitos integrados de semicondutores, a tecnologia de amplifica\u00e7\u00e3o qu\u00edmica (CAR) tornou-se gradualmente a principal aplica\u00e7\u00e3o do setor. Na tecnologia CAR, a resina \u00e9 um polietileno protegido por grupos qu\u00edmicos e, portanto, dif\u00edcil de dissolver. Os fotorresistentes quimicamente amplificados usam foto\u00e1cidos (PAGs) como fotoiniciadores. Quando o fotorresiste \u00e9 exposto, um \u00e1cido \u00e9 produzido pelo PAG na \u00e1rea exposta. Esse \u00e1cido atua como um catalisador durante o processo de cozimento p\u00f3s-aquecimento e remove os grupos de prote\u00e7\u00e3o da resina, tornando-a prontamente sol\u00favel. Os fotorresistentes quimicamente amplificados s\u00e3o 10 vezes mais r\u00e1pidos do que os fotorresistentes DQN e t\u00eam boa sensibilidade \u00f3ptica a fontes de luz UV profunda, alto contraste e alta resolu\u00e7\u00e3o.
\nO fotorresiste \u00e9 um material importante para a fabrica\u00e7\u00e3o de CIs: a qualidade e o desempenho do fotorresiste \u00e9 um fator-chave que afeta o desempenho, o rendimento e a confiabilidade do CI, o custo do processo de fotolitografia \u00e9 de cerca de 35% de todo o processo de fabrica\u00e7\u00e3o do chip e leva cerca de 40-50% do tempo de todo o processo do chip, o custo do fotorresiste \u00e9 respons\u00e1vel por cerca de 4% do custo total dos materiais de fabrica\u00e7\u00e3o de CIs, o mercado \u00e9 enorme. De acordo com a institui\u00e7\u00e3o terceirizada Wisdom Research Consulting, espera-se que o tamanho do mercado global de fotorresiste seja de quase $9 bilh\u00e3o em 2019, com um CAGR de cerca de 5,4% desde 2010 at\u00e9 o momento. Espera-se que o mercado continue a crescer a uma taxa m\u00e9dia anual de 5% nos pr\u00f3ximos tr\u00eas anos, e o tamanho do mercado global de fotorresiste exceder\u00e1 US$ 10 bilh\u00f5es at\u00e9 2022. O setor de fotorresiste tem barreiras industriais muito altas, de modo que o setor \u00e9 uma situa\u00e7\u00e3o de oligop\u00f3lio em \u00e2mbito global. O setor de fotorresiste tem sido monopolizado por empresas profissionais japonesas e americanas h\u00e1 muitos anos. Atualmente, os cinco principais fabricantes ocupam 87% do mercado global de fotorresiste, e o setor \u00e9 altamente concentrado. Entre eles, a participa\u00e7\u00e3o de mercado da Japan JSR, Tokyo E&C, Japan Shin-Etsu e Fuji Electronic Materials combinada chega a 72%. E a tecnologia principal dos fotorresistentes semicondutores de KrF e ArF de alta resolu\u00e7\u00e3o \u00e9 basicamente monopolizada por empresas japonesas e americanas, e a maioria dos produtos vem de empresas japonesas e americanas, como DuPont, JSR Corporation, Shin-Etsu Chemical, Tokyo Chemical Industry, Fujifilm e Korea Dongjin. Em todo o padr\u00e3o do mercado de fotorresiste, o Jap\u00e3o \u00e9 o maior ponto de encontro do setor de fotorresiste. Atualmente, a China continental \u00e9 altamente dependente de pa\u00edses estrangeiros para materiais eletr\u00f4nicos, especialmente fotorresistentes. Portanto, \u00e9 uma tend\u00eancia inevit\u00e1vel substituir a produ\u00e7\u00e3o nacional de materiais semicondutores.<\/p>\n

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A practical selection route for photoinitiator-related projects<\/h2>\n

When technical buyers or formulators screen photoinitiators, the most useful decision frame is usually cure quality plus application fit: which package cures reliably, keeps appearance acceptable, and still works under the lamp, film thickness, and substrate conditions of the actual process.<\/p>\n