{"id":5239,"date":"2022-05-15T12:52:03","date_gmt":"2022-05-15T12:52:03","guid":{"rendered":"https:\/\/longchangchemical.com\/?p=5239"},"modified":"2026-04-28T10:41:59","modified_gmt":"2026-04-28T10:41:59","slug":"guide-to-improvement-and-future-trends-of-uv-technology","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/longchangchemical.com\/pt\/guide-to-improvement-and-future-trends-of-uv-technology\/","title":{"rendered":"2025 O guia completo para aprimoramento e tend\u00eancias futuras da tecnologia UV"},"content":{"rendered":"

2025 O guia completo para aprimoramento e tend\u00eancias futuras da tecnologia UV<\/strong><\/h1>\n

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Quick answer:<\/strong> In most UV systems, photoinitiators are selected by balancing wavelength fit, through-cure, color control, and line speed. Buyers usually compare a blended package instead of one isolated product.<\/p>\n

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A tecnologia de cura por luz (UV) \u00e9 uma nova tecnologia altamente eficiente, ecologicamente correta, que economiza energia e de alta qualidade para o s\u00e9culo 21, amplamente utilizada em revestimentos, adesivos, tintas, optoeletr\u00f4nica e outros campos. Desde 1946, a Inmont, dos Estados Unidos, fez a primeira patente de tinta cur\u00e1vel por UV; em 1968, a Bayer, da Alemanha, desenvolveu a primeira gera\u00e7\u00e3o de revestimentos de madeira cur\u00e1veis por UV, e os revestimentos de cura por luz no mundo obtiveram um r\u00e1pido desenvolvimento. Nas \u00faltimas d\u00e9cadas, um grande n\u00famero de novos e eficientes fotoiniciadores, resinas, mon\u00f4meros e fontes avan\u00e7adas de luz UV s\u00e3o usados na cura UV, promovendo o desenvolvimento do setor de revestimentos de cura UV.<\/p>\n

A tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o continua a progredir<\/h2>\n

A tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o se refere \u00e0 luz como fonte de energia, por meio da qual a luz faz a decomposi\u00e7\u00e3o de fotoiniciadores para produzir radicais ou \u00edons e outras esp\u00e9cies ativas; essas esp\u00e9cies ativas desencadeiam a polimeriza\u00e7\u00e3o de mon\u00f4meros, de modo que a r\u00e1pida convers\u00e3o de tecnologia de pol\u00edmero l\u00edquido para s\u00f3lido, devido ao seu baixo consumo de energia (1\/5 a 1\/10 da polimeriza\u00e7\u00e3o t\u00e9rmica), rapidez (segundos a dezenas de segundos para concluir o processo de polimeriza\u00e7\u00e3o), aus\u00eancia de polui\u00e7\u00e3o (sem volatiliza\u00e7\u00e3o de solvente) e outras vantagens, \u00e9 conhecida como tecnologia verde.<\/p>\n

Atualmente, a China se tornou uma das maiores aplica\u00e7\u00f5es de materiais fotopolim\u00e9ricos, no campo de desenvolvimento de aten\u00e7\u00e3o internacional. Na atual situa\u00e7\u00e3o de polui\u00e7\u00e3o ambiental cada vez mais grave, o desenvolvimento de uma tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o n\u00e3o poluente e ecologicamente correta \u00e9 muito importante. De acordo com as estat\u00edsticas, a libera\u00e7\u00e3o anual global de hidrocarbonetos na atmosfera \u00e9 de cerca de 20 milh\u00f5es de toneladas, a maioria das quais s\u00e3o solventes org\u00e2nicos em tintas. Os solventes org\u00e2nicos emitidos para a atmosfera durante o processo de fabrica\u00e7\u00e3o de revestimentos s\u00e3o 2% da produ\u00e7\u00e3o de revestimentos, e os solventes org\u00e2nicos volatilizados durante o uso de revestimentos s\u00e3o 50% a 80% da quantidade de revestimentos. Para reduzir as emiss\u00f5es de polui\u00e7\u00e3o, os revestimentos cur\u00e1veis por UV est\u00e3o substituindo gradualmente os revestimentos tradicionais cur\u00e1veis por calor e os revestimentos \u00e0 base de solvente.<\/p>\n

Com o progresso cont\u00ednuo da tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o, suas \u00e1reas de aplica\u00e7\u00e3o tamb\u00e9m ser\u00e3o gradualmente ampliadas. No in\u00edcio, a tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o era usada principalmente em revestimentos, pois naquela \u00e9poca n\u00e3o era poss\u00edvel resolver o problema de penetra\u00e7\u00e3o e absor\u00e7\u00e3o de luz em sistemas coloridos. No entanto, com o desenvolvimento de fotoiniciadores e o aprimoramento da pot\u00eancia da fonte de luz, a tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o pode se adaptar gradualmente \u00e0s necessidades de diferentes sistemas de tinta, e a tinta fotopolimeriz\u00e1vel tem se desenvolvido rapidamente. O progresso cont\u00ednuo da tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o nos \u00faltimos anos permitiu que ela penetrasse em outros campos. Devido ao progresso da pesquisa b\u00e1sica, a uma compreens\u00e3o mais profunda do mecanismo b\u00e1sico de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o e \u00e0s mudan\u00e7as no ambiente social, tamb\u00e9m ser\u00e3o apresentados novos requisitos para a tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o, e a tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o tem sido capaz de inovar e se desenvolver.<\/p>\n

Os revestimentos fotopolimeriz\u00e1veis s\u00e3o cada vez mais usados<\/h2>\n

Os revestimentos cur\u00e1veis por UV incluem.<\/h3>\n

Revestimentos de bambu fotopolimeriz\u00e1veis: como um produto especial na China, os m\u00f3veis de bambu, os pisos de bambu e outros produtos agora s\u00e3o usados principalmente em revestimentos com cura por UV. A propor\u00e7\u00e3o de v\u00e1rios revestimentos UV para pisos dom\u00e9sticos \u00e9 muito alta e \u00e9 um dos usos mais importantes do revestimento UV.<\/p>\n

Revestimento de papel fotopolimeriz\u00e1vel: Como uma das primeiras variedades de revestimento UV utilizadas, o revestimento de envernizamento de papel UV \u00e9 usado em v\u00e1rios materiais impressos, especialmente em capas de publicidade e publica\u00e7\u00f5es, que ainda s\u00e3o as maiores variedades de revestimento UV.<\/p>\n

Revestimentos pl\u00e1sticos fotopolimeriz\u00e1veis: Os produtos pl\u00e1sticos precisam ser pintados para atender a requisitos est\u00e9ticos e de resist\u00eancia. Os revestimentos pl\u00e1sticos UV t\u00eam muitos tipos e variam muito em termos de requisitos, mas s\u00e3o principalmente decorativos, e os revestimentos pl\u00e1sticos UV mais comuns s\u00e3o os inv\u00f3lucros de v\u00e1rios eletrodom\u00e9sticos, telefones celulares etc.<\/p>\n

Revestimentos de revestimento a v\u00e1cuo de cura por luz: Para aumentar a textura da embalagem, o m\u00e9todo mais comum \u00e9 metalizar o pl\u00e1stico por meio de deposi\u00e7\u00e3o de vapor a v\u00e1cuo. Esse processo requer o uso de primer UV, revestimento superior e outros produtos, e seu principal uso \u00e9 em embalagens de cosm\u00e9ticos.<\/p>\n

Revestimentos de metal fotopolimeriz\u00e1veis: Os revestimentos UV para metais incluem primers antiferrugem UV, revestimentos de prote\u00e7\u00e3o tempor\u00e1ria de metal com cura UV, revestimentos decorativos de metal UV, revestimentos de prote\u00e7\u00e3o de superf\u00edcie de metal UV, etc.<\/p>\n

Revestimento de fibra \u00f3ptica por fotopolimeriza\u00e7\u00e3o: A produ\u00e7\u00e3o de fibra \u00f3ptica precisa ser revestida de 4 a 5 vezes, da base \u00e0 superf\u00edcie, o que \u00e9 quase todo feito por fotopolimeriza\u00e7\u00e3o atualmente. O revestimento de fibra \u00f3ptica UV tamb\u00e9m \u00e9 o exemplo mais bem-sucedido de aplica\u00e7\u00e3o de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o, e sua velocidade de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o pode chegar a 3.000 m\/min.<\/p>\n

Revestimento isolante fotopolimeriz\u00e1vel: para produtos externos, especialmente produtos eletr\u00f4nicos, \u00e9 necess\u00e1rio suportar o teste de vento e chuva e outras mudan\u00e7as ambientais naturais, a fim de garantir o uso normal do produto a longo prazo, a necessidade de proteger os aparelhos el\u00e9tricos, etc., o revestimento isolante UV foi desenvolvido para essa aplica\u00e7\u00e3o, projetado para estender a vida \u00fatil dos aparelhos el\u00e9tricos e o uso da estabilidade.<\/p>\n

Revestimentos de vidro fotopolimeriz\u00e1veis: o vidro em si \u00e9 pouco decorativo; se voc\u00ea precisa que o vidro produza efeitos de cor, \u00e9 necess\u00e1rio pint\u00e1-lo. Surgiram os revestimentos de vidro UV, esse tipo de produto com resist\u00eancia ao envelhecimento, requisitos de resist\u00eancia a \u00e1cidos e \u00e1lcalis s\u00e3o altos, \u00e9 um produto UV de alta qualidade.<\/p>\n

Revestimentos cer\u00e2micos fotopolimeriz\u00e1veis: a cer\u00e2mica, para aumentar sua beleza, precisa de revestimento de superf\u00edcie. Os revestimentos UV atualmente aplicados \u00e0 cer\u00e2mica s\u00e3o principalmente revestimentos cer\u00e2micos para jato de tinta, revestimentos cer\u00e2micos para papel de flores etc.<\/p>\n

Revestimentos de pedra fotopolimeriz\u00e1veis: a pedra natural ter\u00e1 uma variedade de defeitos, a fim de melhorar sua est\u00e9tica, a necessidade de acabamento da pedra, o principal objetivo dos revestimentos de pedra fotopolimeriz\u00e1veis \u00e9 reparar os defeitos da pedra natural, com altos requisitos de for\u00e7a, cor, resist\u00eancia ao desgaste e resist\u00eancia ao envelhecimento.<\/p>\n

Revestimentos de couro fotopolimeriz\u00e1veis: Os revestimentos de couro UV t\u00eam duas categorias: uma \u00e9 o revestimento de libera\u00e7\u00e3o de couro UV, usado na prepara\u00e7\u00e3o de papel estampado de couro artificial, cuja dosagem \u00e9 muito grande; a outra \u00e9 o revestimento decorativo de couro, que altera a apar\u00eancia do couro natural ou artificial e aprimora sua natureza decorativa.<\/p>\n

O para-choque do carro \u00e9 preparado por meio da tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o, e o revestimento da superf\u00edcie tamb\u00e9m \u00e9 feito com polimeriza\u00e7\u00e3o leve para ser conclu\u00eddo; um grande n\u00famero de pe\u00e7as eletr\u00f4nicas do carro, como a prepara\u00e7\u00e3o do visor do carro, o painel de controle central etc., tamb\u00e9m precisa usar materiais fotopolimeriz\u00e1veis; e agora o popular revestimento do carro, seu revestimento resistente ao envelhecimento da superf\u00edcie, tamb\u00e9m \u00e9 conclu\u00eddo pela tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o; e o revestimento da carroceria do carro foi feito com fotopolimeriza\u00e7\u00e3o; o reparo da pel\u00edcula de pintura do carro, o reparo de quebra de vidro etc. tamb\u00e9m usar\u00e1 a tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o.<\/p>\n

Revestimentos \u00e0 base de \u00e1gua de cura por luz: Para resolver o problema da polui\u00e7\u00e3o causada pela necessidade de adicionar solventes para a pulveriza\u00e7\u00e3o de revestimentos UV, uma dire\u00e7\u00e3o importante s\u00e3o os revestimentos UV \u00e0 base de \u00e1gua, a \u00e1gua como solvente para melhorar o desempenho de constru\u00e7\u00e3o dos revestimentos UV, os revestimentos \u00e0 base de \u00e1gua no pa\u00eds e no exterior est\u00e3o no est\u00e1gio inicial.<\/p>\n

Revestimentos em p\u00f3 fotopolimeriz\u00e1veis: a combina\u00e7\u00e3o de revestimentos em p\u00f3 comuns e tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o, o desenvolvimento de revestimentos em p\u00f3 fotopolimeriz\u00e1veis com baixa temperatura de cura, excelente qualidade do produto e ampla gama de aplica\u00e7\u00f5es. O revestimento est\u00e1 em fase de pesquisa e desenvolvimento na China, mas j\u00e1 foi industrializado no exterior.<\/p>\n

Revestimento antiest\u00e1tico fotopolimeriz\u00e1vel: O revestimento antiest\u00e1tico de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o \u00e9 um revestimento especial que adiciona componentes antiest\u00e1ticos aos revestimentos UV para aumentar a capacidade antiest\u00e1tica do revestimento, embora a quantidade de aplica\u00e7\u00e3o n\u00e3o seja grande, mas tem suas pr\u00f3prias caracter\u00edsticas especiais.<\/p>\n

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Revestimentos retardantes de chamas de cura por luz: Os revestimentos fotopolimeriz\u00e1veis \u00e0s vezes precisam de efeitos retardadores de chama e, portanto, podem ser resolvidos com a adi\u00e7\u00e3o de retardadores de chama especiais ao problema de retardamento de chama do revestimento. Embora alguns retardantes de chama gerais possam ser aplicados a revestimentos UV para proporcionar efeitos retardantes de chama, os revestimentos retardantes de chama UV tamb\u00e9m t\u00eam seus pr\u00f3prios requisitos estruturais especiais devido \u00e0s caracter\u00edsticas especiais dos revestimentos UV, como requisitos de transmiss\u00e3o de luz.<\/p>\n

Revestimentos de fluorocarbono de cura por luz: Os revestimentos de fluorocarbono s\u00e3o amplamente usados devido ao seu bom desempenho contra intemp\u00e9ries, e a aplica\u00e7\u00e3o de revestimentos de fluorocarbono de cura por luz est\u00e1 se tornando cada vez mais comum. O segredo \u00e9 resolver o problema da solubilidade m\u00fatua de diferentes componentes, o que exige a prepara\u00e7\u00e3o de mat\u00e9rias-primas de revestimento de fluorocarbono UV que atendam aos requisitos de uso, come\u00e7ando pelo projeto estrutural do material.<\/p>\n

Aprimorar a tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o a partir de mat\u00e9rias-primas e tecnologia<\/h2>\n

Em termos de tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o em si, para manter suas vantagens inerentes e aumentar sua competitividade, tamb\u00e9m \u00e9 necess\u00e1rio atualizar constantemente sua pr\u00f3pria tecnologia, desde mat\u00e9rias-primas, novas tecnologias e outros aspectos para progredir continuamente, principalmente nas seguintes \u00e1reas.<\/p>\n

Modifica\u00e7\u00e3o de superf\u00edcie por fotopolimeriza\u00e7\u00e3o<\/h3>\n

A tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o, devido \u00e0s limita\u00e7\u00f5es da transmiss\u00e3o de luz, n\u00e3o consegue penetrar no interior do material e, portanto, sua aplica\u00e7\u00e3o \u00e9 principalmente a rea\u00e7\u00e3o qu\u00edmica da superf\u00edcie do material. Em aplica\u00e7\u00f5es gerais de superf\u00edcie de material, desde verniz de impress\u00e3o comum at\u00e9 decora\u00e7\u00e3o de casa, materiais de constru\u00e7\u00e3o, interiores automotivos, prote\u00e7\u00e3o externa, a tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o tamb\u00e9m est\u00e1 se mostrando vantajosa. Para alguns ambientes especiais e aplica\u00e7\u00f5es sens\u00edveis ao tempo, a tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o tem uma posi\u00e7\u00e3o insubstitu\u00edvel, como na renova\u00e7\u00e3o de escolas, hospitais, lojas internas, garagens e outros locais. Devido a restri\u00e7\u00f5es de tempo, como escolas que precisam usar feriados curtos para concluir o retrabalho, hospitais que precisam usar recessos noturnos para concluir a renova\u00e7\u00e3o de salas de cirurgia etc., \u00e9 necess\u00e1ria uma tecnologia que seja r\u00e1pida e segura para concluir, e a tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o \u00e9 a melhor op\u00e7\u00e3o. Por outro lado, como os revestimentos de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o n\u00e3o emitem solventes, eles s\u00e3o muito mais seguros.<\/p>\n

Padroniza\u00e7\u00e3o de cura por luz<\/h3>\n

A fotopolimeriza\u00e7\u00e3o pode ser usada para a prepara\u00e7\u00e3o e a transfer\u00eancia de gr\u00e1ficos devido \u00e0 sua capacidade de controle espacial e temporal. A fotolitografia \u00e9 obtida aproveitando a natureza control\u00e1vel espa\u00e7o-temporal da tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o. Por meio da tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o, \u00e9 poss\u00edvel realizar diferentes n\u00edveis de aplica\u00e7\u00f5es de fotolitografia para a fabrica\u00e7\u00e3o de chips, telas de LCD e placas de circuito, e diferentes tamanhos de gr\u00e1ficos podem ser transferidos para diferentes substratos para obter uma produ\u00e7\u00e3o gr\u00e1fica precisa. Atualmente, os componentes microeletr\u00f4nicos est\u00e3o ficando menores e com melhor desempenho. Um motivo importante \u00e9 que a tecnologia de fotolitografia est\u00e1 ficando mais avan\u00e7ada e as linhas obtidas est\u00e3o ficando menores, possibilitando a miniaturiza\u00e7\u00e3o dos dispositivos microeletr\u00f4nicos, e o consumo de energia tamb\u00e9m est\u00e1 ficando menor. Al\u00e9m disso, a tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o tamb\u00e9m pode ser usada para processamento microflu\u00eddico, prepara\u00e7\u00e3o de imagens tridimensionais, processamento de estruturas complexas etc. Essas t\u00e9cnicas de processamento de precis\u00e3o exigem requisitos muito altos para os materiais de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o, e sua pureza \u00e9 completamente diferente das tintas e revestimentos comuns.<\/p>\n

Impress\u00e3o 3D de cura por luz<\/h3>\n

A fotopolimeriza\u00e7\u00e3o \u00e9 particularmente adequada para processamento e moldagem r\u00e1pidos, como a impress\u00e3o 3D, devido \u00e0s suas caracter\u00edsticas de cura r\u00e1pida, que podem realizar a moldagem r\u00e1pida de objetos complexos. Atualmente, a tecnologia de impress\u00e3o 3D e a impress\u00e3o 3D com fotopolimeriza\u00e7\u00e3o s\u00e3o as mais amplamente utilizadas, como o laser como fonte de luz da litografia tridimensional, que \u00e9 a base da impress\u00e3o 3D, \u00e9 a primeira gera\u00e7\u00e3o da tecnologia de impress\u00e3o 3D, o uso do laser como fonte de luz para a varredura r\u00e1pida da superf\u00edcie, para obter gr\u00e1ficos tridimensionais fixos. Atualmente, a tecnologia de impress\u00e3o 3D com fotopolimeriza\u00e7\u00e3o se expandiu para v\u00e1rios produtos, e a fonte de luz se desenvolveu gradualmente da luz ultravioleta mais antiga para a luz vis\u00edvel.<\/p>\n

Biomateriais fotopolimeriz\u00e1veis<\/h3>\n

A aplica\u00e7\u00e3o da tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o na biomedicina inclui principalmente materiais de reparo oral, reparo \u00f3sseo, sutura r\u00e1pida sem fio de tecido, modelos de simula\u00e7\u00e3o cl\u00ednica cir\u00fargica, fixa\u00e7\u00e3o de cirurgia card\u00edaca, reparo de defeitos de tecido, prepara\u00e7\u00e3o de hidrogel de tecido mole, etc. Os primeiros biomateriais fotopolimeriz\u00e1veis desenvolvidos s\u00e3o os materiais de reparo dent\u00e1rio fotopolimeriz\u00e1veis, o modelo ortod\u00f4ntico atual de impress\u00e3o 3D fotopolimeriz\u00e1vel tem sido amplamente utilizado; os materiais ortop\u00e9dicos fotopolimeriz\u00e1veis s\u00e3o usados principalmente para substituir os materiais tradicionais de a\u00e7o inoxid\u00e1vel para reparo \u00f3sseo, tanto para obter um reparo r\u00e1pido quanto para reduzir a dor da cirurgia secund\u00e1ria para remover partes fixas; Por exemplo, o cora\u00e7\u00e3o precisa bater, portanto, o material precisa ser el\u00e1stico, ao contr\u00e1rio do osso, que \u00e9 r\u00edgido, e diferentes tecidos humanos t\u00eam diferentes fun\u00e7\u00f5es e estruturas, portanto, o material de reparo precisa ter a mesma estrutura e fun\u00e7\u00e3o, caso contr\u00e1rio, o tecido reparado n\u00e3o poder\u00e1 funcionar adequadamente. A tecnologia de sutura sem fio \u00e9 uma t\u00e9cnica que utiliza a fotopolimeriza\u00e7\u00e3o para permitir o reparo r\u00e1pido de feridas de pacientes sem a necessidade de suturas, e esses adesivos fotopolimeriz\u00e1veis tamb\u00e9m s\u00e3o degrad\u00e1veis e n\u00e3o precisam ser removidos, reduzindo, assim, o processo de remo\u00e7\u00e3o de pontos para o paciente, o que \u00e9 importante para a cirurgia in vivo, mas, na pr\u00e1tica cl\u00ednica, as suturas sem fio fotopolimeriz\u00e1veis enfrentam v\u00e1rios desafios.<\/p>\n

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Materiais de propriedade fotopolimeriz\u00e1veis<\/h3>\n

Com o avan\u00e7o da tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o, os processos que combinam a fotopolimeriza\u00e7\u00e3o com outras tecnologias come\u00e7aram a ser aplicados, como as tecnologias fotot\u00e9rmica e fotot\u00e9rmica, a fotopolimeriza\u00e7\u00e3o de linha de frente e a fotopolimeriza\u00e7\u00e3o cati\u00f4nica. A fotopolimeriza\u00e7\u00e3o come\u00e7ou a mudar gradualmente da modifica\u00e7\u00e3o da superf\u00edcie para materiais de propriedade para a prepara\u00e7\u00e3o de v\u00e1rios materiais de propriedade, como compostos fotopolimerizados, materiais de bloco fotopolimerizados, componentes automotivos, aeron\u00e1uticos e espaciais fotopolimerizados etc. Por exemplo, a luz \u00e9 usada como for\u00e7a motriz para realizar primeiro a polimeriza\u00e7\u00e3o da superf\u00edcie do material. Como a polimeriza\u00e7\u00e3o do material emite uma grande quantidade de calor, quando o calor liberado pela polimeriza\u00e7\u00e3o for suficiente para acionar a polimeriza\u00e7\u00e3o t\u00e9rmica tradicional, a luz n\u00e3o ser\u00e1 mais necess\u00e1ria, e a polimeriza\u00e7\u00e3o t\u00e9rmica tamb\u00e9m gerar\u00e1 calor para acionar ainda mais a polimeriza\u00e7\u00e3o subsequente. Da mesma forma, depois que a polimeriza\u00e7\u00e3o da superf\u00edcie do material for obtida por meio da fotopolimeriza\u00e7\u00e3o, se a polimeriza\u00e7\u00e3o por mar\u00e9 subsequente puder ocorrer, a \u00e1gua no ar poder\u00e1 penetrar continuamente no material, de modo que a cura por mar\u00e9 possa continuar a ocorrer at\u00e9 que todos os materiais sejam polimerizados e interrompidos, o que pode ser usado para preparar materiais de grande espessura. Para a polimeriza\u00e7\u00e3o por fotoc\u00e1tion, os c\u00e1tions, uma vez gerados, sobreviver\u00e3o por muito tempo, de modo que a luz pode ser usada para iniciar a polimeriza\u00e7\u00e3o do c\u00e1tion primeiro e, nas partes em que a luz n\u00e3o pode penetrar, os c\u00e1tions j\u00e1 presentes podem ser usados para obter a cura cont\u00ednua dos c\u00e1tions por aquecimento. Essas tecnologias t\u00eam sido usadas na produ\u00e7\u00e3o de para-choques automotivos, pe\u00e7as internas automotivas, pe\u00e7as de avia\u00e7\u00e3o e pe\u00e7as de aeronaves, especialmente depois que a redu\u00e7\u00e3o do peso dos autom\u00f3veis est\u00e1 na ordem do dia, e a aplica\u00e7\u00e3o de compostos de fibra de carbono em autom\u00f3veis est\u00e1 gradualmente alcan\u00e7ando a produ\u00e7\u00e3o em massa, e a aplica\u00e7\u00e3o da tecnologia de cura por luz est\u00e1 se tornando cada vez mais popular.<\/p>\n

Outras aplica\u00e7\u00f5es potenciais da fotopolimeriza\u00e7\u00e3o<\/h3>\n

Os pain\u00e9is solares no processo de prepara\u00e7\u00e3o ser\u00e3o usados na tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o, como reticula\u00e7\u00e3o do diafragma EVA, revestimento resistente a manchas da superf\u00edcie solar, revestimento de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o rolo a rolo de c\u00e9lulas solares org\u00e2nicas.<\/p>\n

A prepara\u00e7\u00e3o das p\u00e1s de energia e\u00f3lica j\u00e1 pode alcan\u00e7ar a cura leve e, quando o reparo de danos nas p\u00e1s e\u00f3licas \u00e9 necess\u00e1rio, a cura leve \u00e9 um dos m\u00e9todos mais f\u00e1ceis, mais eficazes e mais econ\u00f4micos.<\/p>\n

Al\u00e9m das aplica\u00e7\u00f5es automotivas, aeron\u00e1uticas e outras aplica\u00e7\u00f5es de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o mencionadas anteriormente, a tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o nas pe\u00e7as de acabamento interno de trens de alta velocidade, materiais compostos de trens de alta velocidade e materiais de interior de navios tamb\u00e9m t\u00eam um grande n\u00famero de aplica\u00e7\u00f5es, como pain\u00e9is internos resistentes ao fogo de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o para trens de alta velocidade e navios de cruzeiro, revestimento geral de banheiros de trens de alta velocidade.<\/p>\n

Tecnologia de cura por luz para reparo de estradas danificadas, seu desempenho \u00e9 semelhante ao do concreto e pode ser conclu\u00eddo rapidamente em 30 minutos, para n\u00e3o causar grandes congestionamentos.<\/p>\n

Para placas de sinaliza\u00e7\u00e3o de rodovias, devido \u00e0 exposi\u00e7\u00e3o de longo prazo a ambientes complexos, tanto de alta temperatura e alta umidade quanto de temperatura muito baixa, vento e sol, e n\u00e3o devem ser substitu\u00eddas com frequ\u00eancia, portanto, os requisitos s\u00e3o muito altos. Os pa\u00edses estrangeiros usaram a tecnologia de cura por feixe de el\u00e9trons (EB) para o revestimento de superf\u00edcie de placas de sinaliza\u00e7\u00e3o de rodovias para obter resist\u00eancia ao envelhecimento, alta temperatura e alta umidade, resist\u00eancia \u00e0 chuva e \u00e0 neve etc.<\/p>\n

Nos \u00faltimos anos, com o desenvolvimento da tecnologia de prepara\u00e7\u00e3o de microeletr\u00f4nica, a aplica\u00e7\u00e3o da tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o no filme \u00f3ptico est\u00e1 se tornando cada vez mais madura, desde o filme de endurecimento comum at\u00e9 o filme de clareamento, desde o filme polarizado at\u00e9 a prepara\u00e7\u00e3o do filme de difus\u00e3o, com a figura da fotopolimeriza\u00e7\u00e3o, e o fotoresistente de fabrica\u00e7\u00e3o de chips \u00e9 muito importante.<\/p>\n

Tend\u00eancias futuras da tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o<\/h3>\n

O desenvolvimento da fotopolimeriza\u00e7\u00e3o e suas mat\u00e9rias-primas, equipamentos e avan\u00e7os tecnol\u00f3gicos s\u00e3o insepar\u00e1veis, e o desenvolvimento futuro da fotopolimeriza\u00e7\u00e3o inclui os seguintes aspectos.<\/p>\n

Desenvolvimento de resinas funcionalizadas<\/h3>\n

As resinas que cont\u00eam grupos funcionais de baixa energia de superf\u00edcie ser\u00e3o usadas para revestimentos resistentes a manchas, incluindo unidades estruturais contendo sil\u00edcio e fl\u00faor. A estrutura de sil\u00edcio-fl\u00faor pode reduzir efetivamente a energia de superf\u00edcie do sistema, desempenhando assim um papel na resist\u00eancia a manchas e na autolimpeza.<\/p>\n

As resinas fotopolimeriz\u00e1veis \u00e0 base de \u00e1gua s\u00e3o principalmente resinas que cont\u00eam grupos cati\u00f4nicos, ani\u00f4nicos ou n\u00e3o i\u00f4nicos, que podem ser dissolvidos ou dispersos em \u00e1gua, de modo que a \u00e1gua possa ser usada como diluente para reduzir a aplica\u00e7\u00e3o de solventes org\u00e2nicos e, assim, reduzir as emiss\u00f5es de VOCs. O maior problema com as atuais resinas UV \u00e0 base de \u00e1gua \u00e9 que as propriedades finais dos revestimentos preparados, como resist\u00eancia \u00e0 \u00e1gua, resist\u00eancia a \u00e1cidos e \u00e1lcalis, resist\u00eancia a solventes e resist\u00eancia a arranh\u00f5es, n\u00e3o atendem \u00e0 demanda.<\/p>\n

As resinas h\u00edbridas inorg\u00e2nicas-org\u00e2nicas s\u00e3o usadas na prepara\u00e7\u00e3o de revestimentos de superf\u00edcie de alto desempenho para melhorar a dureza e a resist\u00eancia a arranh\u00f5es. Essas resinas s\u00e3o preparadas principalmente pelo m\u00e9todo sol-gel com nanopart\u00edculas inorg\u00e2nicas, que s\u00e3o uniformemente dispersas na fase org\u00e2nica, com a fase org\u00e2nica fornecendo propriedades de polimeriza\u00e7\u00e3o e as part\u00edculas inorg\u00e2nicas fornecendo outras funcionalidades.
\nO desenvolvimento de resinas de viscosidade ultrabaixa tornou-se imperativo nos \u00faltimos anos devido ao desenvolvimento de produtos fotopolimeriz\u00e1veis, como impress\u00e3o 3D, impress\u00e3o a jato de tinta e pulveriza\u00e7\u00e3o sem solventes, em que a demanda por resinas de baixa viscosidade vem aumentando ano a ano. Como os requisitos modernos de desempenho de revestimento de cura de materiais fotopolimeriz\u00e1veis s\u00e3o cada vez mais altos, a fim de melhorar o desempenho do material, a necessidade de resinas altamente funcionais para melhorar as propriedades do pol\u00edmero para melhorar o desempenho do material, um programa mais vantajoso \u00e9 modificado com poli\u00e9ster hiperbranqueado, etc., a s\u00edntese de resinas polimeriz\u00e1veis.<\/p>\n

O desenvolvimento de resina com base em recursos renov\u00e1veis \u00e9 o desenvolvimento atual de pontos quentes, como \u00f3leos e gorduras naturais, compostos de a\u00e7\u00facar naturais, pol\u00edmeros naturais, extratos de plantas e animais com base na prepara\u00e7\u00e3o de resina, que tem sido objeto de muita pesquisa b\u00e1sica, alguns produtos como acrilato modificado com \u00f3leo de soja, acrilato de resina furfural etc. foram industrializados.<\/p>\n

O desenvolvimento de fontes de luz<\/h3>\n

A fotopolimeriza\u00e7\u00e3o tradicional com l\u00e2mpadas de merc\u00fario de alta press\u00e3o como fonte de luz, o uso do processo produz oz\u00f4nio e polui\u00e7\u00e3o do meio ambiente, uma grande quantidade de calor e desperd\u00edcio de energia, e o merc\u00fario em si \u00e9 uma subst\u00e2ncia t\u00f3xica, tornando a aplica\u00e7\u00e3o das l\u00e2mpadas de merc\u00fario limitada, o desenvolvimento de novas fontes de luz \u00e9 uma tarefa importante, a fonte de luz LED eficiente, segura e com economia de energia \u00e9 uma alternativa eficaz.<\/p>\n

O desenvolvimento de diferentes comprimentos de onda, especialmente comprimentos de onda na fonte de luz LED de 300 nm a 365 nm, \u00e9 uma necessidade importante para a tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o; a fonte de luz eficiente \u00e9 a chave para a economia de energia. Os LEDs de comprimento de onda longo, como os de 385 a 405 nm, est\u00e3o bem estabelecidos, mas o problema \u00e9 que h\u00e1 poucos fotoiniciadores que correspondam a esses comprimentos de onda, o que limita sua aplica\u00e7\u00e3o. Por outro lado, as fontes de luz LED de comprimento de onda longo ainda n\u00e3o s\u00e3o boas o suficiente para resolver o problema da cura da superf\u00edcie do material e, portanto, \u00e9 necess\u00e1rio desenvolver fontes de luz LED de comprimento de onda curto. No entanto, quanto menor for o comprimento de onda, maior ser\u00e1 a energia da luz, e a alta energia destruir\u00e1 as mol\u00e9culas org\u00e2nicas para se decomporem. Portanto, os materiais de embalagem de LED de comprimento de onda curto s\u00e3o a maior dificuldade, se a solu\u00e7\u00e3o final para a embalagem de LED de comprimento de onda curto e sua alta energia fizerem com que a aplica\u00e7\u00e3o da tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o tenha um desenvolvimento maior, pois a fonte de luz LED de longa dura\u00e7\u00e3o, baixo custo e baixo consumo de energia ser\u00e1 muito favor\u00e1vel \u00e0 promo\u00e7\u00e3o da tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o.<\/p>\n

Nova tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o<\/h3>\n

A tecnologia de cura EB tamb\u00e9m \u00e9 essencialmente uma tecnologia de polimeriza\u00e7\u00e3o por luz, a diferen\u00e7a \u00e9 que a tecnologia EB tem comprimento de onda mais curto e energia mais alta. A tecnologia de cura por EB na China ainda est\u00e1 em sua inf\u00e2ncia, mas com a maturidade dos equipamentos dom\u00e9sticos de EB, a aplica\u00e7\u00e3o da tecnologia ser\u00e1 promovida. Nos \u00faltimos anos, a cura por EB em aplica\u00e7\u00f5es de impress\u00e3o decolou, porque a impress\u00e3o por cura por EB \u00e9 mais eficiente em termos de energia, tem maior velocidade e melhor qualidade de produto. Os filtros de cigarro s\u00e3o um material que entra em contato direto com a boca humana e, portanto, seus requisitos s\u00e3o extremamente altos, n\u00e3o se dissolvem na \u00e1gua e n\u00e3o podem ter nenhum composto que migre para fora, mas tamb\u00e9m n\u00e3o podem ter odor. Entretanto, o filtro \u00e9 um papel que n\u00e3o \u00e9 resistente \u00e0 \u00e1gua. \u00c9 necess\u00e1rio aplicar um revestimento a esse papel para obter resist\u00eancia \u00e0 \u00e1gua, biosseguran\u00e7a e outras propriedades, e o revestimento curado por EB \u00e9 uma das melhores op\u00e7\u00f5es.
\nO filme de libera\u00e7\u00e3o curado por EB tamb\u00e9m est\u00e1 come\u00e7ando a ser aplicado na China, principalmente pelo uso da alta energia do EB, que permite que o material seja altamente reticulado, de modo que nenhuma mol\u00e9cula pequena seja liberada da camada de libera\u00e7\u00e3o, garantindo a estabilidade da libera\u00e7\u00e3o do filme de libera\u00e7\u00e3o, especialmente para materiais de filme de alto desempenho, como filmes \u00f3pticos, qualquer contamina\u00e7\u00e3o na camada de libera\u00e7\u00e3o reduzir\u00e1 o desempenho do filme \u00f3ptico e o tornar\u00e1 inutiliz\u00e1vel.
\nA aplica\u00e7\u00e3o do EB no revestimento de a\u00e7o em bobina foi alcan\u00e7ada na produ\u00e7\u00e3o em massa no exterior, mas na China ainda est\u00e1 no est\u00e1gio inicial. Sua maior vantagem \u00e9 a velocidade de cura r\u00e1pida, que pode melhorar muito a efici\u00eancia da produ\u00e7\u00e3o e reduzir o consumo de energia. Al\u00e9m disso, o desempenho do produto tamb\u00e9m \u00e9 muito bom, especialmente a resist\u00eancia ao envelhecimento externo \u00e9 muito maior do que o revestimento de cura por luz e o revestimento tradicional de cura por calor. A tecnologia de pulveriza\u00e7\u00e3o sem solvente foi desenvolvida principalmente para resolver o problema da polui\u00e7\u00e3o por solvente causada pela necessidade de adicionar uma certa quantidade de solvente para diluir a pulveriza\u00e7\u00e3o.<\/p>\n

Tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o cati\u00f4nica<\/h2>\n

O r\u00e1pido desenvolvimento atual do sistema de radicais livres, devido \u00e0s suas pr\u00f3prias defici\u00eancias, n\u00e3o pode atender aos requisitos de algumas aplica\u00e7\u00f5es e, portanto, o desenvolvimento da fotopolimeriza\u00e7\u00e3o cati\u00f4nica \u00e9 um complemento eficaz. Por exemplo, para revestimentos altamente flex\u00edveis, a fotopolimeriza\u00e7\u00e3o radical livre geral n\u00e3o pode ser obtida devido \u00e0s caracter\u00edsticas pr\u00f3prias do material, enquanto a polimeriza\u00e7\u00e3o foto-cati\u00f4nica com ep\u00f3xi como corpo principal pode ser mais f\u00e1cil de obter revestimentos altamente flex\u00edveis. Al\u00e9m do revestimento de substratos met\u00e1licos, o sistema de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o por radicais livres, devido \u00e0 sua r\u00e1pida polimeriza\u00e7\u00e3o e ao encolhimento do volume, a ades\u00e3o do revestimento \u00e9 ruim, enquanto o uso de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o cati\u00f4nica, ep\u00f3xi no processo de polimeriza\u00e7\u00e3o para abrir o anel e causar expans\u00e3o do volume, pode melhorar muito a ades\u00e3o do revestimento.<\/p>\n

O desenvolvimento da tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o est\u00e1 relacionado ao seu pr\u00f3prio progresso tecnol\u00f3gico, mas tamb\u00e9m \u00e0 pol\u00edtica nacional, aos requisitos de outras \u00e1reas e aos avan\u00e7os tecnol\u00f3gicos de outros setores relacionados \u00e0 rigorosa pol\u00edtica ambiental da China, \u00e0 restri\u00e7\u00e3o das emiss\u00f5es de solventes e ao favorecimento da tecnologia de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o n\u00e3o poluente.<\/p>\n

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Poliol\/Polimercaptana<\/strong><\/td>\n<\/td>\n<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero DMES<\/a><\/span><\/td>\nSulfeto de bis(2-mercaptoetil)<\/td>\n3570-55-6<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero DMPT<\/a><\/span><\/td>\nTHIOCURE DMPT<\/td>\n131538-00-6<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero de PETMP<\/a><\/span><\/td>\nTETRA(3-MERCAPTOPROPIONATO) DE PENTAERITRITOL<\/td>\n7575-23-7<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero PM839<\/a><\/span><\/td>\nPolioxi(metil-1,2-etanodil)<\/td>\n72244-98-5<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero monofuncional<\/strong><\/td>\n<\/td>\n<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero HEMA<\/a><\/span><\/td>\nMetacrilato de 2-hidroxietil<\/td>\n868-77-9<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero HPMA<\/a><\/span><\/td>\nMetacrilato de 2-hidroxipropila<\/td>\n27813-02-1<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero THFA<\/a><\/span><\/td>\nAcrilato de tetrahidrofurfurila<\/td>\n2399-48-6<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero HDCPA<\/a><\/span><\/td>\nAcrilato de diciclopentenila hidrogenado<\/td>\n79637-74-4<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero DCPMA<\/a><\/span><\/td>\nMetacrilato de di-hidrodiciclopentadienila<\/td>\n30798-39-1<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero DCPA<\/a><\/span><\/td>\nAcrilato de di-hidrodiciclopentadienila<\/td>\n12542-30-2<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero DCPEMA<\/a><\/span><\/td>\nMetacrilato de diciclopenteniloxietil<\/td>\n68586-19-6<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero DCPEOA<\/a><\/span><\/td>\nAcrilato de diciclopenteniloxietil<\/td>\n65983-31-5<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero NP-4EA<\/a><\/span><\/td>\n(4) nonilfenol etoxilado<\/td>\n50974-47-5<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero LA<\/td>\nAcrilato de laurila \/ Acrilato de dodecila<\/td>\n2156-97-0<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero THFMA<\/a><\/span><\/td>\nMetacrilato de tetrahidrofurfurila<\/td>\n2455-24-5<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero de PHEA<\/span><\/a><\/td>\nACRILATO DE 2-FENOXIETIL<\/td>\n48145-04-6<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero LMA<\/a><\/span><\/td>\nMetacrilato de lauril<\/td>\n142-90-5<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero IDA<\/a><\/span><\/td>\nAcrilato de isodecila<\/td>\n1330-61-6<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero IBOMA<\/a><\/span><\/td>\nMetacrilato de isobornila<\/td>\n7534-94-3<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero IBOA<\/a><\/span><\/td>\nAcrilato de isobornila<\/td>\n5888-33-5<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero EOEOEA<\/a><\/span><\/td>\n2-(2-Etoxietoxi)acrilato de etila<\/td>\n7328-17-8<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero multifuncional<\/strong><\/td>\n<\/td>\n<\/td>\n<\/tr>\n
DPHA Mon\u00f4mero<\/a><\/span><\/td>\nDipentaeritritol hexaacrilato<\/td>\n29570-58-9<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero DI-TMPTA<\/a><\/span><\/td>\nTETRAACRILATO DE DI(TRIMETILOLPROPANO)<\/td>\n94108-97-1<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero de acrilamida<\/strong><\/td>\n<\/td>\n<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero ACMO<\/a><\/span><\/td>\n4-acriloilmorfolina<\/td>\n5117-12-4<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero di-funcional<\/strong><\/td>\n<\/td>\n<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero PEGDMA<\/a><\/span><\/td>\nDimetacrilato de poli(etilenoglicol)<\/td>\n25852-47-5<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero TPGDA<\/a><\/span><\/td>\nDiacrilato de tripropilenoglicol<\/td>\n42978-66-5<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero TEGDMA<\/a><\/span><\/td>\nDimetacrilato de trietilenoglicol<\/td>\n109-16-0<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero PO2-NPGDA<\/span><\/a><\/td>\nDiacrilato de neopentileno glicol propoxilado<\/td>\n84170-74-1<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero de PEGDA<\/a><\/span><\/td>\nDiacrilato de polietileno glicol<\/td>\n26570-48-9<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero PDDA<\/a><\/span><\/td>\nFtalato de diacrilato de dietilenoglicol<\/td>\n<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero NPGDA<\/a><\/span><\/td>\nDiacrilato de neopentil glicol<\/td>\n2223-82-7<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero HDDA<\/a><\/span><\/td>\nDiacrilato de hexametileno<\/td>\n13048-33-4<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero EO4-BPADA<\/span><\/a><\/td>\nDIACRILATO DE BISFENOL A ETOXILADO (4)<\/td>\n64401-02-1<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero EO10-BPADA<\/a><\/span><\/td>\nDIACRILATO DE BISFENOL A ETOXILADO (10)<\/td>\n64401-02-1<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero EGDMA<\/a><\/span><\/td>\nDimetacrilato de etilenoglicol<\/td>\n97-90-5<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero DPGDA<\/a><\/span><\/td>\nDienoato de Dipropileno Glicol<\/td>\n57472-68-1<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero Bis-GMA<\/a><\/span><\/td>\nBisfenol A Metacrilato de glicidila<\/td>\n1565-94-2<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero trifuncional<\/strong><\/td>\n<\/td>\n<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero TMPTMA<\/a><\/span><\/td>\nTrimetacrilato de trimetilolpropano<\/td>\n3290-92-4<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero de TMPTA<\/a><\/span><\/td>\nTriacrilato de trimetilolpropano<\/td>\n15625-89-5<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero PETA<\/a><\/span><\/td>\nTriacrilato de pentaeritritol<\/td>\n3524-68-3<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero de GPTA ( G3POTA )<\/a><\/span><\/td>\nTRIACRILATO DE GLICERIL PROPOXI<\/td>\n52408-84-1<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero EO3-TMPTA<\/a><\/span><\/td>\nTriacrilato de trimetilolpropano etoxilado<\/td>\n28961-43-5<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero fotorresistente<\/strong><\/td>\n<\/td>\n<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero IPAMA<\/a><\/span><\/td>\nMetacrilato de 2-isopropil-2-adamantila<\/td>\n297156-50-4<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero ECPMA<\/a><\/span><\/td>\nMetacrilato de 1-etilciclopentila<\/td>\n266308-58-1<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero ADAMA<\/a><\/span><\/td>\nMetacrilato de 1-amant\u00edlico<\/td>\n16887-36-8<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero de metacrilatos<\/strong><\/td>\n<\/td>\n<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero TBAEMA<\/a><\/span><\/td>\nMetacrilato de 2-(terc-butilamino)etila<\/td>\n3775-90-4<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero NBMA<\/a><\/span><\/td>\nMetacrilato de n-butilo<\/td>\n97-88-1<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero MEMA<\/a><\/span><\/td>\nMetacrilato de 2-metoxietil<\/td>\n6976-93-8<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero i-BMA<\/a><\/span><\/td>\nMetacrilato de isobutilo<\/td>\n97-86-9<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero EHMA<\/a><\/span><\/td>\nMetacrilato de 2-etil-hexila<\/td>\n688-84-6<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero EGDMP<\/a><\/span><\/td>\nBis(3-mercaptopropionato) de etilenoglicol<\/td>\n22504-50-3<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero EEMA<\/a><\/span><\/td>\n2-etoxietil 2-metilprop-2-enoato<\/td>\n2370-63-0<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero DMAEMA<\/a><\/span><\/td>\nN,M-Dimetilaminoetil metacrilato<\/td>\n2867-47-2<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero DEAM<\/a><\/span><\/td>\nMetacrilato de dietilaminoetila<\/td>\n105-16-8<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero CHMA<\/a><\/span><\/td>\nMetacrilato de ciclohexila<\/td>\n101-43-9<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero BZMA<\/a><\/span><\/td>\nMetacrilato de benzila<\/td>\n2495-37-6<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero BDDMP<\/a><\/span><\/td>\nDi(3-mercaptopropionato) de 1,4-butanodiol<\/td>\n92140-97-1<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero de BDDMA<\/a><\/span><\/td>\n1,4-Butanodioldimetacrilato<\/td>\n2082-81-7<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero AMA<\/a><\/span><\/td>\nMetacrilato de alila<\/td>\n96-05-9<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero AAEM<\/a><\/span><\/td>\nMetacrilato de acetilacetoxietil<\/td>\n21282-97-3<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero de acrilatos<\/strong><\/td>\n<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero de IBA<\/a><\/span><\/td>\nAcrilato de isobutilo<\/td>\n106-63-8<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero EMA<\/a><\/span><\/td>\nMetacrilato de etila<\/td>\n97-63-2<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero DMAEA<\/a><\/span><\/td>\nAcrilato de dimetilaminoetila<\/td>\n2439-35-2<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero DEAEA<\/a><\/span><\/td>\n2-(dietilamino)etil prop-2-enoato<\/td>\n2426-54-2<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero CHA<\/a><\/span><\/td>\nciclohexil prop-2-enoato<\/td>\n3066-71-5<\/td>\n<\/tr>\n
Mon\u00f4mero BZA<\/a><\/span><\/td>\nprop-2-enoato de benzila<\/td>\n2495-35-4<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n

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How formulators usually evaluate this photoinitiator topic<\/h2>\n

When technical buyers or formulators screen photoinitiators, the most useful decision frame is usually cure quality plus application fit: which package cures reliably, keeps appearance acceptable, and still works under the lamp, film thickness, and substrate conditions of the actual process.<\/p>\n