{"id":5028,"date":"2022-02-03T15:19:24","date_gmt":"2022-02-03T15:19:24","guid":{"rendered":"https:\/\/longchangchemical.com\/?p=5028"},"modified":"2026-04-28T10:41:55","modified_gmt":"2026-04-28T10:41:55","slug":"what-is-water-based-uv-resin","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/longchangchemical.com\/pt\/what-is-water-based-uv-resin\/","title":{"rendered":"O que \u00e9 resina UV \u00e0 base de \u00e1gua?"},"content":{"rendered":"

O que \u00e9 resina UV \u00e0 base de \u00e1gua?<\/strong><\/h1>\n

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Quick answer:<\/strong> In most UV systems, photoinitiators are selected by balancing wavelength fit, through-cure, color control, and line speed. Buyers usually compare a blended package instead of one isolated product.<\/p>\n

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No final da d\u00e9cada de 1960, a tecnologia de cura ultravioleta (UV) foi desenvolvida e aplicada ao setor de resinas de revestimento como um novo tipo de tecnologia verde. Os primeiros revestimentos cur\u00e1veis por UV nasceram na Bayer, na Alemanha. Meu pa\u00eds come\u00e7ou a entrar no campo dos revestimentos fotocur\u00e1veis na d\u00e9cada de 1970 e tem se desenvolvido e aplicado rapidamente nos \u00faltimos anos. A resina UV \u00e9 o principal componente do sistema de cura por luz. Trata-se de um olig\u00f4mero que pode sofrer altera\u00e7\u00f5es f\u00edsicas e qu\u00edmicas em um curto per\u00edodo de tempo ap\u00f3s ser irradiado por luz ultravioleta, sendo rapidamente reticulado e curado. Depois que o revestimento UV \u00e9 curado, as propriedades b\u00e1sicas do filme de revestimento dependem, em grande parte, de seu principal material formador de filme, a resina UV, e as propriedades da resina UV s\u00e3o determinadas pelo pol\u00edmero macromolecular que constitui a resina, a estrutura molecular, o peso molecular e o peso molecular do pol\u00edmero. A densidade de liga\u00e7\u00e3o dupla e a temperatura de transi\u00e7\u00e3o v\u00edtrea afetar\u00e3o as propriedades da resina. As resinas UV tradicionais \u00e0 base de \u00f3leo t\u00eam grande peso molecular e alta viscosidade, e s\u00e3o insuficientes no processo de revestimento e no controle de desempenho do filme de tinta. Os diluentes reativos de acrilato cont\u00eam liga\u00e7\u00f5es duplas insaturadas e t\u00eam baixa viscosidade. Quando adicionados aos sistemas de cura UV, eles podem reduzir a viscosidade da resina, aumentar a densidade de reticula\u00e7\u00e3o da resina e melhorar as propriedades do filme da resina, por isso s\u00e3o amplamente utilizados. Entretanto, a maioria dos diluentes ativos \u00e9 t\u00f3xica e irritante para a pele, as membranas mucosas e os olhos humanos. Al\u00e9m disso, \u00e9 dif\u00edcil para os diluentes reagirem completamente durante a irradia\u00e7\u00e3o UV, e os mon\u00f4meros residuais afetar\u00e3o diretamente o desempenho de longo prazo do filme curado. desempenho, o que limita sua aplica\u00e7\u00e3o em materiais de embalagem para produtos de higiene alimentar.<\/p>\n

A resina UV \u00e0 base de \u00e1gua herda e desenvolve as caracter\u00edsticas dos revestimentos UV tradicionais e dos revestimentos \u00e0 base de \u00e1gua, e tem as vantagens de seguran\u00e7a e prote\u00e7\u00e3o ambiental, economia de energia e alta efici\u00eancia, viscosidade ajust\u00e1vel, revestimento fino e baixo custo. Em particular, a resina UV \u00e0 base de \u00e1gua \u00e9 uma dispers\u00e3o \u00e0 base de \u00e1gua de alto peso molecular cuja viscosidade pode ser ajustada pela \u00e1gua, evitando assim os danos dos diluentes reativos e resolvendo a contradi\u00e7\u00e3o entre a dureza e a flexibilidade dos revestimentos UV tradicionais. Nos \u00faltimos dez anos, esse tipo de revestimento se desenvolveu rapidamente e se tornou a principal dire\u00e7\u00e3o do desenvolvimento de revestimentos.<\/p>\n

1. Tipos de UV \u00e0 base de \u00e1gua<\/p>\n

As resinas UV \u00e0 base de \u00e1gua referem-se a resinas UV sol\u00faveis ou dispers\u00edveis em \u00e1gua e que cont\u00eam uma certa quantidade de grupos hidrof\u00edlicos, como grupos carboxila, hidroxila, amino, \u00e9ter ou amida na mol\u00e9cula, bem como grupos acrila, metacriloila ou alceno. Grupos insaturados, como propil. Atualmente, as resinas UV \u00e0 base de \u00e1gua incluem principalmente poliacrilato \u00e0 base de \u00e1gua, acrilato de poli\u00e9ster \u00e0 base de \u00e1gua, acrilato de ep\u00f3xi \u00e0 base de \u00e1gua e acrilato de poliuretano \u00e0 base de \u00e1gua.<\/p>\n

\u2460Poliacrilato \u00e0 base de \u00e1gua<\/p>\n

O poliacrilato \u00e0 base de \u00e1gua \u00e9 barato, tem boa resist\u00eancia ao amarelamento e boa ades\u00e3o a v\u00e1rios substratos, mas tem baixa resist\u00eancia mec\u00e2nica e dureza, al\u00e9m de baixa resist\u00eancia a \u00e1cidos e \u00e1lcalis. Portanto, o poliacrilato \u00e0 base de \u00e1gua geralmente n\u00e3o \u00e9 usado como resina principal em aplica\u00e7\u00f5es pr\u00e1ticas e s\u00f3 \u00e9 usado em combina\u00e7\u00e3o para melhorar algumas propriedades de tintas e revestimentos fotocur\u00e1veis. Em geral, os poliacrilatos \u00e0 base de \u00e1gua s\u00e3o primeiro polimerizados por \u00e1cido acr\u00edlico e v\u00e1rios acrilatos, e parte dos grupos carboxila introduzidos pelo \u00e1cido acr\u00edlico reage com os grupos hidroxila do acrilato de hidroxietila ou com os grupos ep\u00f3xi do metacrilato de glicidila, introduzindo assim uma liga\u00e7\u00e3o carbono-carbono fotoativa e, em seguida, salifica o grupo carboxila com uma amina org\u00e2nica.<\/p>\n

\u2461Acrilato de poli\u00e9ster \u00e0 base de \u00e1gua<\/p>\n

O acrilato de poli\u00e9ster \u00e0 base de \u00e1gua \u00e9 f\u00e1cil de preparar, barato e tem uma pel\u00edcula de tinta completa, bom brilho, boa maciez, mas baixa resist\u00eancia ao amarelamento. Em geral, s\u00e3o usados diol e anidrido trimel\u00edtico (ou dianidrido piromel\u00edtico). Rea\u00e7\u00e3o, rea\u00e7\u00e3o de esterifica\u00e7\u00e3o com \u00e1cido acr\u00edlico, introdu\u00e7\u00e3o do grupo carboxila e neutraliza\u00e7\u00e3o com amina para formar um sal.
\n\u2462Acrilato ep\u00f3xi \u00e0 base de \u00e1gua<\/p>\n

O ep\u00f3xi acrilato \u00e0 base de \u00e1gua tem como vantagens o baixo pre\u00e7o, a alta dureza do filme de revestimento, a boa ades\u00e3o, o alto brilho e a boa resist\u00eancia qu\u00edmica, mas tamb\u00e9m apresenta as defici\u00eancias da resina ep\u00f3xi de bisfenol A tradicional, como fragilidade e baixa resist\u00eancia ao amarelamento. . Muitos estudiosos escolhem resinas ep\u00f3xi alif\u00e1ticas com excelentes propriedades f\u00edsicas e mec\u00e2nicas e excelentes propriedades anti-amarelamento para substituir as resinas ep\u00f3xi bisfenol A tradicionais como a matriz de acrilatos ep\u00f3xi UV \u00e0 base de \u00e1gua, o que melhora muito o desempenho geral das resinas. Em geral, o \u00e1cido acr\u00edlico \u00e9 usado para esterificar a resina ep\u00f3xi para obter o ep\u00f3xi acrilato (EA), e o grupo hidroxila no ep\u00f3xi acrilato reage com o anidrido \u00e1cido (como o anidrido maleico, o anidrido trimel\u00edtico etc.) para introduzir o grupo hidrof\u00edlico e, em seguida, \u00e9 neutralizado com amina org\u00e2nica para obter a resina ep\u00f3xi acrilato \u00e0 base de \u00e1gua (EB),<\/p>\n

\u2463Acrilato de uretano \u00e0 base de \u00e1gua<\/p>\n

O sistema de cura por luz de poliuretano acrilato \u00e0 base de \u00e1gua tem atra\u00eddo muita aten\u00e7\u00e3o devido \u00e0 sua boa resist\u00eancia ao desgaste, resist\u00eancia qu\u00edmica, resist\u00eancia a baixas temperaturas e flexibilidade. Atualmente, \u00e9 a resina UV \u00e0 base de \u00e1gua mais pesquisada e comercializada. Consulte a Tabela 1. Nos \u00faltimos anos, algumas empresas estrangeiras, como Bayer, AKZONOBEL, BASF, etc., fizeram grandes avan\u00e7os na melhoria do desempenho dos acrilatos de uretano UV \u00e0 base de \u00e1gua. Tais como primers automotivos, topcoats e vernizes de acabamento.<\/p>\n

Usando diisocianato como mat\u00e9ria-prima, poli\u00e9ster ou poli\u00e9ter diol como extensor de cadeia de segmento macio, diol contendo carboxila (como \u00e1cido dimetilol propi\u00f4nico) como extensor de cadeia hidrof\u00edlica, hidroxi-acrilato como agente de cobertura final, por meio da policondensa\u00e7\u00e3o em v\u00e1rias etapas, pode-se produzir uretano acrilato cur\u00e1vel e, em seguida, neutraliz\u00e1-lo com am\u00f4nia ou amina org\u00e2nica para formar um sal e obter uretano acrilato UV \u00e0 base de \u00e1gua (WPUA).<\/p>\n

2. Novo progresso da resina UV \u00e0 base de \u00e1gua<\/p>\n

\u2460Sistema hiperbranqueado<\/p>\n

Como um novo tipo de pol\u00edmero, o pol\u00edmero hiperbranqueado tem uma estrutura esf\u00e9rica com um grande n\u00famero de grupos terminais ativos, e as cadeias moleculares n\u00e3o est\u00e3o emaranhadas. Os pol\u00edmeros hiperbranqueados t\u00eam as vantagens de f\u00e1cil solubilidade, baixo ponto de fus\u00e3o, baixa viscosidade e alta reatividade. Portanto, grupos acr\u00edlicos e grupos hidrof\u00edlicos podem ser introduzidos para sintetizar olig\u00f4meros fotocur\u00e1veis \u00e0 base de \u00e1gua, o que abre um novo caminho para a prepara\u00e7\u00e3o de resinas UV \u00e0 base de \u00e1gua.
\nAsif et al. usaram o poli\u00e9ster hiperbranqueado BoltornTMHn rico em grupos hidroxila terminais para reagir com anidrido succ\u00ednico e pr\u00e9-pol\u00edmero IPDI-HEA e, em seguida, neutralizaram com amina org\u00e2nica para formar um sal e obter um poli\u00e9ster hiperbranqueado \u00e0 base de \u00e1gua cur\u00e1vel por UV (WHPUA), conforme mostrado na Figura 3. A pesquisa mostra que a resina tem uma taxa de fotocura r\u00e1pida e boas propriedades f\u00edsicas. Com o aumento do teor do segmento duro (IPDIHEA), a temperatura de transi\u00e7\u00e3o v\u00edtrea da resina aumenta, e a dureza e a resist\u00eancia \u00e0 tra\u00e7\u00e3o tamb\u00e9m aumentam, mas o alongamento na ruptura diminui.<\/p>\n

Su Lin et al. usaram anidridos de \u00e1cido polib\u00e1sico e ep\u00f3xidos monofuncionais como mat\u00e9rias-primas para preparar primeiro poli\u00e9steres hiperbranqueados, que foram posteriormente reagidos com os grupos terminais de hidroxila e carboxila dos pol\u00edmeros hiperbranqueados por meio da introdu\u00e7\u00e3o de metacrilato de glicidila (GMA) e, em seguida, da adi\u00e7\u00e3o de triglicer\u00eddeos. A etilamina (TEA) \u00e9 neutralizada em um sal para obter um poli\u00e9ster hiperbranqueado \u00e0 base de \u00e1gua cur\u00e1vel por UV. Os resultados mostram que quanto mais grupos carbox\u00edlicos terminais houver na resina hiperbranqueada \u00e0 base de \u00e1gua, melhor ser\u00e1 a solubilidade em \u00e1gua; a taxa de cura da resina aumenta com o aumento das liga\u00e7\u00f5es duplas terminais.<\/p>\n

\u2461Sistema h\u00edbrido org\u00e2nico\/inorg\u00e2nico<\/p>\n

O sistema h\u00edbrido org\u00e2nico\/inorg\u00e2nico cur\u00e1vel por luz UV \u00e0 base de \u00e1gua \u00e9 um composto eficaz de resina UV \u00e0 base de \u00e1gua e materiais inorg\u00e2nicos. As vantagens da alta resist\u00eancia ao desgaste e da alta resist\u00eancia \u00e0s intemp\u00e9ries dos materiais inorg\u00e2nicos s\u00e3o introduzidas na resina para melhorar o desempenho abrangente do filme curado. Com a introdu\u00e7\u00e3o de part\u00edculas inorg\u00e2nicas, como nano-SiO2 ou montmorilonita, no sistema de cura UV pelo m\u00e9todo de dispers\u00e3o direta, m\u00e9todo sol-gel ou m\u00e9todo de intercala\u00e7\u00e3o, \u00e9 poss\u00edvel preparar o sistema h\u00edbrido org\u00e2nico\/inorg\u00e2nico fotocur\u00e1vel. Os mon\u00f4meros s\u00e3o incorporados \u00e0s cadeias moleculares de olig\u00f4meros UV aquosos.
\nZhan Chuyin et al. usaram di-hidroxibutil polidimetilsiloxano (PDMS) para introduzir grupos de polissiloxano no segmento macio do poliuretano e os dilu\u00edram adequadamente com mon\u00f4meros acr\u00edlicos para obter uma emuls\u00e3o h\u00edbrida org\u00e2nica\/inorg\u00e2nica (Si-PUA). Depois que o revestimento feito de resina \u00e9 curado, o filme de tinta tem boas propriedades f\u00edsicas, alto \u00e2ngulo de contato e resist\u00eancia \u00e0 \u00e1gua.<\/p>\n

Liang Hongbo et al. usaram poliuretano polihidroxi hiperbranqueado de fabrica\u00e7\u00e3o pr\u00f3pria, anidrido succ\u00ednico, agente de acoplamento de silano KH560, metacrilato de glicidila (GMA) e metacrilato de hidroxietila como mat\u00e9rias-primas para preparar poliuretano h\u00edbrido hiperbranqueado e fotopolimeriza\u00e7\u00e3o. O poliuretano hiperbranqueado foi ent\u00e3o hidrolisado com ortossilicato de etila e titanato de n-butila em diferentes propor\u00e7\u00f5es para preparar um sol h\u00edbrido org\u00e2nico-inorg\u00e2nico SiO2\/TiO2 de poliuretano hiperbranqueado fotocur\u00e1vel. Os resultados mostram que, com o aumento do conte\u00fado inorg\u00e2nico, a dureza do p\u00eandulo do revestimento h\u00edbrido aumenta, a rugosidade da superf\u00edcie aumenta e a qualidade da superf\u00edcie do revestimento h\u00edbrido de SiO2 \u00e9 melhor do que a do revestimento h\u00edbrido de TiO2.<\/p>\n

\u2462Sistema de cura dupla<\/p>\n

Para resolver as defici\u00eancias da dif\u00edcil cura tridimensional de resinas UV \u00e0 base de \u00e1gua e da dif\u00edcil cura de revestimentos espessos e sistemas coloridos, e para melhorar o desempenho geral do filme de revestimento, os pesquisadores desenvolveram um sistema de cura dupla que combina a cura por luz e outros sistemas de cura. A fotopolimeriza\u00e7\u00e3o\/polimeriza\u00e7\u00e3o t\u00e9rmica, fotopolimeriza\u00e7\u00e3o\/polimeriza\u00e7\u00e3o redox, fotopolimeriza\u00e7\u00e3o de radicais livres\/fotopolimeriza\u00e7\u00e3o cati\u00f4nica e fotopolimeriza\u00e7\u00e3o\/polimeriza\u00e7\u00e3o por umidade s\u00e3o sistemas comuns de polimeriza\u00e7\u00e3o dupla, e alguns sistemas foram aplicados, como o adesivo protetor eletr\u00f4nico UV, que \u00e9 um sistema de polimeriza\u00e7\u00e3o dupla de polimeriza\u00e7\u00e3o por luz\/polimeriza\u00e7\u00e3o redox ou polimeriza\u00e7\u00e3o por luz\/polimeriza\u00e7\u00e3o por umidade.<\/p>\n

Zeng Fanchu et al. introduziram o mon\u00f4mero funcional acetoacetoxietil metacrilato (AMME) na emuls\u00e3o de \u00e1cido poliacr\u00edlico e introduziram o grupo fotocur\u00e1vel por meio da rea\u00e7\u00e3o de adi\u00e7\u00e3o de Michael em baixa temperatura para sintetizar o poliacrilato \u00e0 base de \u00e1gua com cura t\u00e9rmica e cura UV. Secar em uma temperatura constante de 60 \u00b0C, 2 \u00d7 5. Sob a irradia\u00e7\u00e3o de uma l\u00e2mpada de merc\u00fario de alta press\u00e3o de 6 kW, a dureza da resina ap\u00f3s a forma\u00e7\u00e3o do filme atinge 3H, a resist\u00eancia \u00e0 limpeza com \u00e1lcool \u00e9 de at\u00e9 158 vezes e a resist\u00eancia a \u00e1lcalis \u00e9 de at\u00e9 24 horas.<\/p>\n

\u2463Sistema composto de ep\u00f3xi acrilato\/uretano acrilato<\/p>\n

O revestimento de ep\u00f3xi acrilato tem as vantagens de alta dureza, boa ades\u00e3o, alto brilho e boa resist\u00eancia qu\u00edmica, mas tem pouca flexibilidade e alta fragilidade. O acrilato de poliuretano \u00e0 base de \u00e1gua tem as caracter\u00edsticas de boa resist\u00eancia \u00e0 abras\u00e3o e flexibilidade, mas pouca resist\u00eancia a intemp\u00e9ries. A composi\u00e7\u00e3o eficaz das duas resinas por meio de modifica\u00e7\u00e3o qu\u00edmica, mistura f\u00edsica ou hibridiza\u00e7\u00e3o pode melhorar o desempenho de uma \u00fanica resina e aproveitar ao m\u00e1ximo as vantagens de ambas, desenvolvendo assim um sistema de fotocura de alto desempenho que combina as vantagens de ambas.<\/p>\n

Wang Cundong et al. primeiro usaram \u00e1cido acr\u00edlico para esterificar o grupo ep\u00f3xi na resina ep\u00f3xi E44 para obter EA; depois usaram TDI, diol de politetrahidrofurano (PTMG), DMPA e HEMA para sintetizar acrilato de uretano UV \u00e0 base de \u00e1gua; misturando em diferentes propor\u00e7\u00f5es, \u00e1gua\/etanol como iniciador, poliuretano ani\u00f4nico \u00e0 base de \u00e1gua como emulsificante, a emuls\u00e3o composta de acrilato ep\u00f3xi\/acrilato de poliuretano cur\u00e1vel por UV \u00e9 obtida por emulsifica\u00e7\u00e3o. Os resultados mostram que a modifica\u00e7\u00e3o melhora muito a flexibilidade do filme de revestimento, mas tem pouco efeito sobre outras propriedades.<\/p>\n

\u2464 Fotoiniciador macromolecular ou polimeriz\u00e1vel<\/p>\n

A maioria dos fotoiniciadores s\u00e3o pequenas mol\u00e9culas de aril alquil cetonas, que n\u00e3o podem ser completamente decompostas ap\u00f3s a fotopolimeriza\u00e7\u00e3o, e as pequenas mol\u00e9culas residuais ou os produtos de fot\u00f3lise migrar\u00e3o para a superf\u00edcie do revestimento, causando amarelamento ou odor, afetando o desempenho do filme polimerizado e sua aplica\u00e7\u00e3o. . Os pesquisadores sintetizaram fotoiniciadores polimeriz\u00e1veis macromoleculares \u00e0 base de \u00e1gua introduzindo grupos fotoiniciadores, grupos acr\u00edlicos e grupos hidrof\u00edlicos em pol\u00edmeros hiperbranqueados para superar as desvantagens dos fotoiniciadores de pequenas mol\u00e9culas. Wang Zhansi, da Universidade de Ci\u00eancia e Tecnologia de Anhui, primeiro usou acrilato de metila e dietanolamina como mat\u00e9rias-primas para reagir e sintetizar um mon\u00f4mero MB do tipo AB2 e, em seguida, reagiu com trimetilolpropano (TMP) como n\u00facleo para sintetizar poliuretano hiperbranqueado com termina\u00e7\u00e3o hidroxila, e, em seguida, o anidrido maleico foi modificado em poliuretano hiperbranqueado contendo grupos carboxila terminais e, ap\u00f3s Z, o fotoiniciador 1173 foi usado para modificar o poliuretano hiperbranqueado carboxila terminal para preparar dois fotoiniciadores macromoleculares polimeriz\u00e1veis hiperbranqueados HPAE-1- MA-1173 e HPAE-2-MA-1173. Os resultados da pesquisa mostram que a absor\u00e7\u00e3o de UV do produto tem um desvio para o vermelho da absor\u00e7\u00e3o m\u00e1xima em compara\u00e7\u00e3o com o 1173, mas a taxa de fotoiniciador \u00e9 menor do que a do fotoiniciador molecular 1173.<\/p>\n

3. Aplica\u00e7\u00e3o de resina UV \u00e0 base de \u00e1gua<\/p>\n

Com o aumento da conscientiza\u00e7\u00e3o das pessoas sobre a prote\u00e7\u00e3o ambiental, os sistemas fotocur\u00e1veis \u00e0 base de \u00e1gua t\u00eam recebido cada vez mais aten\u00e7\u00e3o nos \u00faltimos anos, mas h\u00e1 poucas pesquisas sobre sua aplica\u00e7\u00e3o. Atualmente, as resinas UV \u00e0 base de \u00e1gua s\u00e3o usadas principalmente em revestimentos UV e tintas UV, incluindo verniz de papel UV \u00e0 base de \u00e1gua, tinta de madeira UV \u00e0 base de \u00e1gua, tinta de metal UV \u00e0 base de \u00e1gua, tinta de impress\u00e3o flexogr\u00e1fica UV \u00e0 base de \u00e1gua, tinta de rotogravura UV \u00e0 base de \u00e1gua, tinta de serigrafia \u00e0 base de \u00e1gua, etc. O verniz UV \u00e0 base de \u00e1gua para papel, incluindo o verniz UV \u00e0 base de \u00e1gua e o primer UV \u00e0 base de \u00e1gua, \u00e9 o primeiro revestimento UV \u00e0 base de \u00e1gua aplicado, com brilho superior a 90. O valor da aplica\u00e7\u00e3o de revestimentos UV \u00e0 base de \u00e1gua no setor de acabamento de madeira \u00e9 muito alto, especialmente no revestimento de madeira formada e compensado. Portanto, os revestimentos UV \u00e0 base de \u00e1gua para madeira tamb\u00e9m s\u00e3o os revestimentos UV \u00e0 base de \u00e1gua mais usados atualmente. No momento, alguns produtos de resina UV \u00e0 base de \u00e1gua desenvolvidos por alguns pa\u00edses desenvolvidos atendem aos requisitos de revestimentos automotivos e tamb\u00e9m s\u00e3o usados em v\u00e1rios revestimentos automotivos, como primers automotivos, topcoats e vernizes. Com o estudo aprofundado dos sistemas fotocur\u00e1veis \u00e0 base de \u00e1gua, haver\u00e1 mais tipos de resinas UV \u00e0 base de \u00e1gua, e os campos de aplica\u00e7\u00e3o continuar\u00e3o a se expandir.<\/p>\n

4. Conclus\u00e3o e perspectivas<\/p>\n

A resina UV \u00e0 base de \u00e1gua ainda est\u00e1 em fase de pesquisa e desenvolvimento. Embora existam muitos relat\u00f3rios relevantes na literatura, poucos produtos foram de fato colocados no mercado. Eles s\u00e3o produzidos principalmente por pa\u00edses desenvolvidos, como a Europa e os Estados Unidos, como UCB, ICI, CYTEC, BASF e outras empresas. A resina UV \u00e0 base de \u00e1gua tem como vantagens a prote\u00e7\u00e3o ambiental, a economia de energia, a alta efici\u00eancia, a viscosidade control\u00e1vel e o excelente desempenho do filme. Ela pode levar em conta a dureza e a flexibilidade do filme curado e tem um valor de aplica\u00e7\u00e3o extremamente alto e amplas perspectivas de mercado. No entanto, as resinas UV \u00e0 base de \u00e1gua apresentam defeitos, como baixa molhabilidade em substratos, baixa resist\u00eancia \u00e0 \u00e1gua, baixa resist\u00eancia \u00e0 lavagem e baixa estabilidade de armazenamento, bem como fotoiniciadores residuais de mol\u00e9culas pequenas e produtos de fot\u00f3lise durante o processo de fotocura, que precisam ser melhorados. Portanto, \u00e9 imperativo desenvolver a tecnologia de resina UV \u00e0 base de \u00e1gua para superar as defici\u00eancias atuais da resina UV \u00e0 base de \u00e1gua e desenvolver um sistema de fotopolimeriza\u00e7\u00e3o \u00e0 base de \u00e1gua com melhor desempenho e aplica\u00e7\u00e3o mais ampla.<\/p>\n

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A practical selection route for photoinitiator-related projects<\/h2>\n

When technical buyers or formulators screen photoinitiators, the most useful decision frame is usually cure quality plus application fit: which package cures reliably, keeps appearance acceptable, and still works under the lamp, film thickness, and substrate conditions of the actual process.<\/p>\n