{"id":5839,"date":"2023-01-07T13:24:52","date_gmt":"2023-01-07T13:24:52","guid":{"rendered":"https:\/\/longchangchemical.com\/?p=5839"},"modified":"2026-04-28T10:42:13","modified_gmt":"2026-04-28T10:42:13","slug":"six-additives-commonly-used-in-uv-coatings","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/longchangchemical.com\/nl\/six-additives-commonly-used-in-uv-coatings\/","title":{"rendered":"Wat zijn de zes additieven die vaak in UV-coatings worden gebruikt?"},"content":{"rendered":"

Wat zijn de zes additieven die vaak in UV-coatings worden gebruikt?<\/strong><\/h1>\n

<\/p>\n

Snel antwoord:<\/strong> Voor de selectie van UV-monomeren en -harsen is de belangrijkste commerci\u00eble vraag niet \"welk materiaal is over het algemeen het beste\", maar \"welk product levert de juiste balans tussen vloei, uitharding, hechting en duurzaamheid in de werkelijke toepassing\".<\/p>\n

<\/p>\n

UV kationische en UV vrije basismaterialen zijn zeer verschillend, maar de algemene samenstelling is vergelijkbaar. Het kationische systeem is voornamelijk epoxy materialen, maar de gewone bisfenol A epoxy reactiesnelheid is traag, met meer toepassingen van alicyclische epoxy \/ oxetaan materialen; vrije radicale systeem commercialisering is nu zeer volwassen, met epoxy \/ polyester \/ polyurethaan gemodificeerde acrylaat materialen kunnen meer keuze van oplossingen.<\/p>\n

UV-kationische systemen hebben minder grondstofopties dan vrije radicale systemen en alicyclische epoxyharsen met een lage viscositeit zijn de belangrijkste polymeren. Neem alicyclische epoxyharsen als voorbeeld.<\/p>\n

TTA21 met verschillende zuiverheidsspecificaties is het meest dominante product in de UV-coatingindustrie. Aangezien de toepassing van kationische UV-coatings\/toepassingen aanzienlijk blijft groeien, wordt verwacht dat de hoeveelheid alicyclische epoxyharsen vertegenwoordigd door TTA21 zal toenemen.<\/p>\n

 <\/p>\n

In de specifieke producttoepassingen van inkten\/coatings hebben beide systemen niet alleen UV-licht nodig om uithardingsenergie te leveren, maar vertonen ze ook grote verschillen in prestatie en reactiekenmerken.<\/p>\n

 <\/p>\n

1. Zuurstofblokkerende werking<\/p>\n

UV kationische systeem heeft niet het effect van zuurstof-blokkering, maar meer bang voor water, vocht zal de uitharding effici\u00ebntie van kationische systeem be\u00efnvloeden; UV vrije radicalen integendeel, door de zuurstof-blokkerende invloed.<\/p>\n

 <\/p>\n

2. Substraathechting<\/p>\n

Meestal hebben UV-kationen op substraatoppervlakken die moeilijker te hechten zijn, zoals glas\/metaal\/kunststof met hoge dichtheid, een betere hechting dan UV-vrije basis.<\/p>\n

 <\/p>\n

3. Volumekrimp<\/p>\n

UV vrije radicale formulering uitharding krimpsnelheid is over het algemeen boven 10%, terwijl UV kation systeem kan de krimpsnelheid van 1-3%, is een goede oplossing voor het volume krimp op te lossen.<\/p>\n

 <\/p>\n

4. Donkere uithardingseigenschappen<\/p>\n

UV-kation systeem kan blijven reageren op de binnenste laag na het stoppen van de lichtbron bestraling, om het materiaal te voltooien na uitharding, dit is de donkere uitharding kenmerken, zeer geschikt voor dikke coating toepassingen, het verwarmen van de kation na uitharding snelheid is aanzienlijk nuttig; UV vrije radicaal is een stop-and-go reactie systeem.<\/p>\n

 <\/p>\n

5. Contact veiligheid<\/p>\n

De reactiegraad van het UV-kationensysteem ligt dicht bij 100%, de veiligheid kan REACH \/ FDA testcertificatie zijn, kan worden gebruikt in voedselverpakking en andere gerelateerde gebieden.<\/p>\n

 <\/p>\n

6. Lichtuithardingssnelheid<\/p>\n

In het algemeen is de UV-vrije radicale systeem uithardingssnelheid dan de kationische systeem, be\u00efnvloed door zuurstof-blokkerende producten kationische oppervlak drogen sneller zal zijn, maar de werkelijke droogsnelheid is niet zo snel als de vrije radicale, kunt u de reactie te bevorderen door verwarming, en uiteindelijk kan een zeer goede mate van voltooiing te bereiken.<\/p>\n

 <\/p>\n

Opmerkingen over de formulering<\/p>\n

 <\/p>\n

UV kation systeem kan worden gemengd met UV vrije radicale systeem in elke verhouding, genaamd UV hybride systeem, kan de relatieve uithardingssnelheid van UV kation en UV vrije radicale krimp te verbeteren, be\u00efnvloed door zuurstofbarri\u00e8re en andere tekortkomingen, dezelfde filmdikte van het systeem uithardingsenergie verschil is niet groot.<\/p>\n

 <\/p>\n

UV-kation systeem is om te vertrouwen op de initiator gegenereerd door Lewis sterk zuur om het actieve punt van de ring-opening reactie te doen, zal de formule meestal invloed op de initiator activiteit van het materiaal is voornamelijk azo-organische pigmenten (kan worden gewijzigd om bescherming te doen), en vrije radicalen vermengd met TPO\/819\/907 en andere structuren die P, S en andere elementen van de initiator, en vergelijkbaar met 115 multi-level amine.<\/p>\n

 <\/p>\n

Vochtigheid op de UV kationische systeem uitharding invloed, controle van de luchtvochtigheid binnen 50% geschikt is, terwijl verwarming versnelt de reactiesnelheid.<\/p>\n

 <\/p>\n

 <\/p>\n

UV-fotoinitiator<\/span><\/a> Producten uit dezelfde serie<\/strong><\/h2>\n

 <\/p>\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n
Fotoinitiator TPO<\/span><\/a><\/td>\nCAS 75980-60-8<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator TMO<\/span><\/a><\/td>\nCAS 270586-78-2<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator PD-01<\/span><\/a><\/td>\nCAS 579-07-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator PBZ<\/span><\/a><\/td>\nCAS 2128-93-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator OXE-02<\/span><\/a><\/td>\nCAS 478556-66-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator OMBB<\/span><\/a><\/td>\nCAS 606-28-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator MPBZ (6012)<\/span><\/a><\/td>\nCAS 86428-83-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator MBP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 134-84-9<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator MBF<\/span><\/a><\/td>\nCAS 15206-55-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator LAP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 85073-19-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator ITX<\/span><\/a><\/td>\nCAS 5495-84-1<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator EMK<\/span><\/a><\/td>\nCAS 90-93-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator EHA<\/span><\/a><\/td>\nCAS 21245-02-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator EDB<\/span><\/a><\/td>\nCAS 10287-53-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator DETX<\/span><\/a><\/td>\nCAS 82799-44-8<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator CQ \/ Kamferchinon<\/span><\/a><\/td>\nCAS 10373-78-1<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator CBP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 134-85-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator BP \/ Benzofenon<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119-61-9<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator BMS<\/span><\/a><\/td>\nCAS 83846-85-9<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 938<\/span><\/a><\/td>\nCAS 61358-25-6<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 937<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71786-70-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 819 DW<\/span><\/a><\/td>\nCAS 162881-26-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 819<\/span><\/a><\/td>\nCAS 162881-26-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 784<\/span><\/a><\/td>\nCAS 125051-32-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 754<\/span><\/a><\/td>\nCAS 211510-16-6 442536-99-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 6993<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71449-78-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 6976<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71449-78-0 89452-37-9 108-32-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 379<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119344-86-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 369<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119313-12-1<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 160<\/a><\/span><\/td>\nCAS 71868-15-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 1206<\/span><\/a><\/td>\n<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 1173<\/span><\/a><\/td>\nCAS 7473-98-5<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n

 <\/p>\n

<\/p>\n

A practical sourcing and formulation view of UV monomers and oligomers<\/h2>\n

De meest succesvolle UV-formuleringen worden opgebouwd door eerst de basis te kiezen en vervolgens het pakket reactieve monomeren af te stemmen op het substraat, de uithardingsmethode en de eindgebruiksbelasting. Dat levert meestal een stabieler resultaat op dan alleen te kiezen op basis van viscositeit of prijs.<\/p>\n