{"id":5834,"date":"2023-01-06T13:31:19","date_gmt":"2023-01-06T13:31:19","guid":{"rendered":"https:\/\/longchangchemical.com\/?p=5834"},"modified":"2026-04-28T10:42:13","modified_gmt":"2026-04-28T10:42:13","slug":"alicyclic-epoxy-resin-in-uv-light-curing-coating","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/longchangchemical.com\/nl\/alicyclic-epoxy-resin-in-uv-light-curing-coating\/","title":{"rendered":"Hoe alicyclische epoxyhars aanbrengen in UV-lichtuithardende coating?"},"content":{"rendered":"

Hoe alicyclische epoxyhars aanbrengen in UV-lichtuithardende coating?<\/strong><\/h1>\n

<\/p>\n

Quick answer:<\/strong> In most UV systems, photoinitiators are selected by balancing wavelength fit, through-cure, color control, and line speed. Buyers usually compare a blended package instead of one isolated product.<\/p>\n

<\/p>\n

UV-uithardingstechnologie is grofweg onderverdeeld in UV vrije radicalen en UV kationische systemen, UV kationische coatings met uitstekende verwerkingseigenschappen in metalen blikjes, gewalst staal en flexibele verpakkingsindustrie wordt op grote schaal gebruikt, de belangrijkste markt is nu ook in Europa en de Verenigde Staten.<\/p>\n

 <\/p>\n

 <\/p>\n

UV-kationische en UV-vrij-radicale materialen zijn heel verschillend, maar de algemene samenstelling is vergelijkbaar. Kationische systemen worden gedomineerd door epoxymaterialen, maar epoxy van het gewone bisfenol A-type reageert traag en er zijn meer toepassingen van alicyclische epoxy\/oxetaanachtige materialen; vrije radicale systemen zijn nu commercieel erg volwassen, met epoxy\/polyester\/polyurethaan gemodificeerde acrylaatmaterialen die meer keuze aan oplossingen bieden.<\/p>\n

 <\/p>\n

Een UV-kationisch systeem kan minder grondstoffen kiezen dan een vrij radicaal systeem en het polymeer is voornamelijk alicyclische epoxyhars met een lage viscositeit. Neem alicyclische epoxyharsen als voorbeeld.<\/p>\n

TTA21 met verschillende zuiverheidsspecificaties is het meest dominante product in de UV-coatingindustrie. Aangezien de toepassing van kationische UV-coatings aanzienlijk blijft groeien, wordt verwacht dat de hoeveelheid alicyclische epoxyharsen vertegenwoordigd door TTA21 zal toenemen.<\/p>\n

 <\/p>\n

In de specifieke producttoepassing van inkt\/coatings hebben beide systemen niet alleen UV-licht nodig om uithardingsenergie te leveren, maar vertonen ze ook grote verschillen in prestaties en reactiekenmerken.<\/p>\n

 <\/p>\n

1. Zuurstofblokkerende werking<\/p>\n

UV-kationische systemen hebben niet het effect van zuurstofblokkering, maar zijn banger voor water, vocht zal de uithardingseffici\u00ebntie van het kationische systeem be\u00efnvloeden; UV vrije radicalen zijn het tegenovergestelde en worden meer be\u00efnvloed door zuurstofblokkering.<\/p>\n

 <\/p>\n

2. Substraathechting<\/p>\n

Meestal hebben UV-kationen op substraatoppervlakken die moeilijker te hechten zijn, zoals glas\/metaal\/kunststof met hoge dichtheid, een betere hechting dan UV-vrije basis.<\/p>\n

 <\/p>\n

3. Volumekrimp<\/p>\n

UV vrije radicale formulering uitharding krimpsnelheid is over het algemeen boven 10%, terwijl UV kation systeem kan de krimpsnelheid van 1-3%, is een goede oplossing voor het volume krimp op te lossen.<\/p>\n

 <\/p>\n

4. Donkere uithardingseigenschappen<\/p>\n

UV-kation systeem kan blijven reageren op de binnenste laag na het stoppen van de lichtbron bestraling, om het materiaal te voltooien na uitharding, dit is de donkere uitharding kenmerken, zeer geschikt voor dikke coating toepassingen, het verwarmen van de kation na uitharding snelheid is aanzienlijk nuttig; UV vrije radicaal is een stop-and-go reactie systeem.<\/p>\n

 <\/p>\n

5. Contact veiligheid<\/p>\n

De reactiegraad van het UV-kationensysteem ligt dicht bij 100%, de veiligheid kan REACH \/ FDA testcertificatie zijn, kan worden gebruikt in voedselverpakking en andere gerelateerde gebieden.<\/p>\n

 <\/p>\n

6. Lichtuithardingssnelheid<\/p>\n

In het algemeen is de UV-vrije radicale systeem uithardingssnelheid dan de kationische systeem, be\u00efnvloed door zuurstof-blokkerende producten kationische oppervlak drogen sneller zal zijn, maar de werkelijke droogsnelheid is niet zo snel als de vrije radicale, kunt u de reactie te bevorderen door verwarming, en uiteindelijk kan een zeer goede mate van voltooiing te bereiken.<\/p>\n

 <\/p>\n

Opmerkingen over de formulering<\/p>\n

 <\/p>\n

UV kation systeem kan worden gemengd met UV vrije radicale systeem in elke verhouding, genaamd UV hybride systeem, kan de relatieve uithardingssnelheid van UV kation en UV vrije radicale krimp te verbeteren, be\u00efnvloed door zuurstofbarri\u00e8re en andere tekortkomingen, dezelfde filmdikte van het systeem uithardingsenergie verschil is niet groot.<\/p>\n

 <\/p>\n

UV-kation systeem is om te vertrouwen op de initiator gegenereerd door Lewis sterk zuur om het actieve punt van de ring-opening reactie te doen, zal de formule meestal invloed op de initiator activiteit van het materiaal is voornamelijk azo-organische pigmenten (kan worden gewijzigd om bescherming te doen), en vrije radicalen vermengd met TPO\/819\/907 en andere structuren die P, S en andere elementen van de initiator, en vergelijkbaar met 115 multi-level amine.<\/p>\n

 <\/p>\n

Vochtigheid heeft een grotere invloed op de uitharding van het UV-kationen systeem, controleer de luchtvochtigheid binnen 50% is geschikt, terwijl verwarming de reactiesnelheid zal versnellen.<\/p>\n

 <\/p>\n

UV-fotoinitiator<\/span><\/a> Producten uit dezelfde serie<\/strong><\/h2>\n

 <\/p>\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n
Fotoinitiator TPO<\/span><\/a><\/td>\nCAS 75980-60-8<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator TMO<\/span><\/a><\/td>\nCAS 270586-78-2<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator PD-01<\/span><\/a><\/td>\nCAS 579-07-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator PBZ<\/span><\/a><\/td>\nCAS 2128-93-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator OXE-02<\/span><\/a><\/td>\nCAS 478556-66-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator OMBB<\/span><\/a><\/td>\nCAS 606-28-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator MPBZ (6012)<\/span><\/a><\/td>\nCAS 86428-83-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator MBP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 134-84-9<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator MBF<\/span><\/a><\/td>\nCAS 15206-55-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator LAP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 85073-19-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator ITX<\/span><\/a><\/td>\nCAS 5495-84-1<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator EMK<\/span><\/a><\/td>\nCAS 90-93-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator EHA<\/span><\/a><\/td>\nCAS 21245-02-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator EDB<\/span><\/a><\/td>\nCAS 10287-53-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator DETX<\/span><\/a><\/td>\nCAS 82799-44-8<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator CQ \/ Kamferchinon<\/span><\/a><\/td>\nCAS 10373-78-1<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator CBP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 134-85-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator BP \/ Benzofenon<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119-61-9<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator BMS<\/span><\/a><\/td>\nCAS 83846-85-9<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 938<\/span><\/a><\/td>\nCAS 61358-25-6<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 937<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71786-70-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 819 DW<\/span><\/a><\/td>\nCAS 162881-26-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 819<\/span><\/a><\/td>\nCAS 162881-26-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 784<\/span><\/a><\/td>\nCAS 125051-32-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 754<\/span><\/a><\/td>\nCAS 211510-16-6 442536-99-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 6993<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71449-78-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 6976<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71449-78-0 89452-37-9 108-32-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 379<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119344-86-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 369<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119313-12-1<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 160<\/a><\/span><\/td>\nCAS 71868-15-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 1206<\/span><\/a><\/td>\n<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 1173<\/span><\/a><\/td>\nCAS 7473-98-5<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n

 <\/p>\n

<\/p>\n

A practical selection route for photoinitiator-related projects<\/h2>\n

When technical buyers or formulators screen photoinitiators, the most useful decision frame is usually cure quality plus application fit: which package cures reliably, keeps appearance acceptable, and still works under the lamp, film thickness, and substrate conditions of the actual process.<\/p>\n