{"id":5839,"date":"2023-01-07T13:24:52","date_gmt":"2023-01-07T13:24:52","guid":{"rendered":"https:\/\/longchangchemical.com\/?p=5839"},"modified":"2026-04-28T10:42:13","modified_gmt":"2026-04-28T10:42:13","slug":"six-additives-commonly-used-in-uv-coatings","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/longchangchemical.com\/it\/six-additives-commonly-used-in-uv-coatings\/","title":{"rendered":"Quali sono i sei additivi comunemente utilizzati nelle vernici UV?"},"content":{"rendered":"

Quali sono i sei additivi comunemente utilizzati nelle vernici UV?<\/strong><\/h1>\n

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Risposta rapida:<\/strong> Nella selezione di monomeri e resine UV, la questione commerciale fondamentale non \u00e8 "quale materiale sia il migliore in generale", ma "quale soluzione offra il giusto equilibrio tra fluidit\u00e0, polimerizzazione, adesione e durata nell'applicazione reale".<\/p>\n

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I materiali di base UV cationici e UV liberi sono molto diversi, ma la composizione complessiva \u00e8 simile. Il sistema cationico \u00e8 costituito principalmente da materiali epossidici, ma la velocit\u00e0 di reazione dell'epossidico bisfenolo A ordinario \u00e8 lenta, con maggiori applicazioni di materiali epossidici\/ossitanici aliciclici; la commercializzazione del sistema a radicali liberi \u00e8 ormai molto matura, con materiali epossidici\/poliesteri\/poliuretanici modificati che possono fornire una maggiore scelta di soluzioni.<\/p>\n

I sistemi cationici UV hanno meno opzioni di materie prime rispetto ai sistemi a radicali liberi e le resine epossidiche alicicliche a bassa viscosit\u00e0 sono i polimeri principali. Prendiamo ad esempio le resine epossidiche alicicliche.<\/p>\n

Il TTA21, con diverse specifiche di purezza, \u00e8 il prodotto pi\u00f9 diffuso nel settore dei rivestimenti UV. Poich\u00e9 l'applicazione di rivestimenti\/applicazioni UV cationici continua a crescere in modo significativo, si prevede che la quantit\u00e0 di resine epossidiche alicicliche rappresentata dal TTA21 aumenter\u00e0.<\/p>\n

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Nelle applicazioni specifiche di inchiostri\/rivestimenti, oltre a necessitare entrambi di luce UV per fornire energia di polimerizzazione, i due sistemi riflettono importanti differenze nelle prestazioni e nelle caratteristiche di reazione.<\/p>\n

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1. Effetto di blocco dell'ossigeno<\/p>\n

Il sistema cationico UV non ha l'effetto di bloccare l'ossigeno, ma teme maggiormente l'acqua, l'umidit\u00e0 influisce sull'efficienza di polimerizzazione del sistema cationico; i radicali liberi UV, al contrario, hanno l'influenza di bloccare l'ossigeno.<\/p>\n

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2. Adesione al substrato<\/p>\n

Di solito nei casi pi\u00f9 difficili da far aderire alla superficie del substrato, come vetro\/metallo\/plastica ad alta densit\u00e0, il catione UV rispetto alla base UV free ha migliori prestazioni di adesione.<\/p>\n

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3. Tasso di contrazione del volume<\/p>\n

Il tasso di ritiro della formulazione del sistema a radicali liberi UV \u00e8 generalmente superiore a 10%, mentre il sistema a cationi UV pu\u00f2 controllare il tasso di ritiro di 1-3%, \u00e8 una buona soluzione per risolvere il ritiro di volume.<\/p>\n

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4. Caratteristiche della polimerizzazione scura<\/p>\n

Il sistema cationico UV pu\u00f2 continuare a reagire allo strato interno dopo aver interrotto l'irradiazione della sorgente luminosa, per completare il materiale dopo la polimerizzazione; questa \u00e8 la caratteristica di polimerizzazione scura, molto adatta per applicazioni di rivestimento spesse, il riscaldamento del catione dopo la velocit\u00e0 di polimerizzazione \u00e8 significativamente utile; il radicale libero UV \u00e8 un sistema di reazione stop-and-go.<\/p>\n

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5. Sicurezza dei contatti<\/p>\n

Il grado di reazione del sistema cationico UV \u00e8 vicino a 100%, la sicurezza pu\u00f2 essere certificata da test REACH \/ FDA, pu\u00f2 essere utilizzata nell'imballaggio alimentare e in altri campi correlati.<\/p>\n

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6. Velocit\u00e0 di polimerizzazione della luce<\/p>\n

In generale, la velocit\u00e0 di polimerizzazione del sistema UV a radicali liberi rispetto al sistema cationico, influenzato da prodotti che bloccano l'ossigeno, l'essiccazione della superficie cationica sar\u00e0 pi\u00f9 veloce, ma la velocit\u00e0 di essiccazione effettiva non \u00e8 cos\u00ec veloce come quella dei radicali liberi, \u00e8 possibile promuovere la reazione riscaldando, e alla fine pu\u00f2 raggiungere un ottimo grado di completamento.<\/p>\n

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Note sulla formulazione<\/p>\n

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Il sistema di cationi UV pu\u00f2 essere miscelato con il sistema di radicali liberi UV in qualsiasi proporzione, chiamato sistema ibrido UV, pu\u00f2 migliorare la velocit\u00e0 di polimerizzazione relativa dei cationi UV e del restringimento dei radicali liberi UV, influenzato dalla barriera di ossigeno e da altre carenze, lo stesso spessore del film della differenza di energia di polimerizzazione del sistema non \u00e8 grande.<\/p>\n

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Il sistema di cationi UV si basa sull'iniziatore generato da un acido forte di Lewis per fare il punto attivo della reazione di apertura dell'anello, la formula comunemente influenzer\u00e0 l'attivit\u00e0 dell'iniziatore del materiale \u00e8 principalmente pigmenti organici azoici (possono essere modificati per fare la protezione), e radicali liberi mescolati con TPO\/819\/907 e altre strutture contenenti P, S e altri elementi dell'iniziatore, e simili a 115 ammine multilivello.<\/p>\n

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L'umidit\u00e0 influisce sull'indurimento del sistema cationico UV; \u00e8 opportuno controllare l'umidit\u00e0 ambientale entro 50%; il riscaldamento accelera la velocit\u00e0 di reazione.<\/p>\n

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Fotoiniziatore UV<\/span><\/a> Prodotti della stessa serie<\/strong><\/h2>\n

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Fotoiniziatore TPO<\/span><\/a><\/td>\nCAS 75980-60-8<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore TMO<\/span><\/a><\/td>\nCAS 270586-78-2<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore PD-01<\/span><\/a><\/td>\nCAS 579-07-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore PBZ<\/span><\/a><\/td>\nCAS 2128-93-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore OXE-02<\/span><\/a><\/td>\nCAS 478556-66-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore OMBB<\/span><\/a><\/td>\nCAS 606-28-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore MPBZ (6012)<\/span><\/a><\/td>\nCAS 86428-83-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore MBP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 134-84-9<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore MBF<\/span><\/a><\/td>\nCAS 15206-55-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore LAP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 85073-19-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore ITX<\/span><\/a><\/td>\nCAS 5495-84-1<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore EMK<\/span><\/a><\/td>\nCAS 90-93-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore EHA<\/span><\/a><\/td>\nCAS 21245-02-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore EDB<\/span><\/a><\/td>\nCAS 10287-53-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore DETX<\/span><\/a><\/td>\nCAS 82799-44-8<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore CQ \/ Canforchinone<\/span><\/a><\/td>\nCAS 10373-78-1<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore CBP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 134-85-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore BP \/ Benzofenone<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119-61-9<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore BMS<\/span><\/a><\/td>\nCAS 83846-85-9<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore 938<\/span><\/a><\/td>\nCAS 61358-25-6<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore 937<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71786-70-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore 819 DW<\/span><\/a><\/td>\nCAS 162881-26-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore 819<\/span><\/a><\/td>\nCAS 162881-26-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore 784<\/span><\/a><\/td>\nCAS 125051-32-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore 754<\/span><\/a><\/td>\nCAS 211510-16-6 442536-99-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore 6993<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71449-78-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore 6976<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71449-78-0 89452-37-9 108-32-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore 379<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119344-86-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore 369<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119313-12-1<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore 160<\/a><\/span><\/td>\nCAS 71868-15-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore 1206<\/span><\/a><\/td>\n<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoiniziatore 1173<\/span><\/a><\/td>\nCAS 7473-98-5<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n

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Una prospettiva pratica sull'approvvigionamento e la formulazione di monomeri e oligomeri UV.<\/h2>\n

Le formulazioni UV di maggior successo sono costruite scegliendo prima la struttura di base e poi mettendo a punto il pacchetto di monomeri reattivi in base al substrato, al metodo di polimerizzazione e allo stress di fine utilizzo. Ci\u00f2 solitamente produce un risultato pi\u00f9 stabile rispetto alla scelta dei materiali basandosi solo sulla viscosit\u00e0 o sul prezzo.<\/p>\n