{"id":5839,"date":"2023-01-07T13:24:52","date_gmt":"2023-01-07T13:24:52","guid":{"rendered":"https:\/\/longchangchemical.com\/?p=5839"},"modified":"2026-04-28T10:42:13","modified_gmt":"2026-04-28T10:42:13","slug":"six-additives-commonly-used-in-uv-coatings","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/longchangchemical.com\/id\/six-additives-commonly-used-in-uv-coatings\/","title":{"rendered":"Apa saja enam aditif yang biasa digunakan dalam pelapis UV?"},"content":{"rendered":"

Apa saja enam aditif yang biasa digunakan dalam pelapis UV?<\/strong><\/h1>\n

<\/p>\n

Jawaban singkat:<\/strong> For UV monomer and resin selection, the key commercial question is not \u201cwhich material is best in general\u201d but \u201cwhich package delivers the right balance of flow, cure, adhesion, and durability in the real application.\u201d<\/p>\n

<\/p>\n

Bahan dasar kationik UV dan bahan dasar bebas UV sangat berbeda, tetapi komposisi keseluruhannya serupa. Sistem kationik terutama bahan epoksi, tetapi kecepatan reaksi epoksi bisphenol A biasa lambat, dengan lebih banyak aplikasi bahan epoksi \/ oksetan alisiklik; komersialisasi sistem radikal bebas sekarang sudah sangat matang, dengan bahan akrilat yang dimodifikasi epoksi \/ poliester \/ poliuretan dapat memberikan lebih banyak pilihan solusi.<\/p>\n

Sistem kationik UV memiliki lebih sedikit pilihan bahan baku daripada sistem radikal bebas, dan resin epoksi alisiklik dengan viskositas rendah adalah polimer utama. Ambil contoh resin epoksi alisiklik.<\/p>\n

TTA21 dengan berbagai spesifikasi kemurnian merupakan produk yang paling dominan dalam industri pelapisan UV. Karena aplikasi pelapis\/aplikasi UV kationik terus tumbuh secara signifikan, diperkirakan jumlah resin epoksi alisiklik yang diwakili oleh TTA21 akan meningkat.<\/p>\n

 <\/p>\n

Dalam aplikasi produk spesifik tinta\/pelapis, selain keduanya memerlukan sinar UV untuk memberikan energi curing, kedua sistem ini mencerminkan perbedaan besar dalam performa kinerja dan karakteristik reaksi.<\/p>\n

 <\/p>\n

1. Efek pemblokiran oksigen<\/p>\n

Sistem kationik UV tidak memiliki efek pemblokiran oksigen, tetapi lebih takut pada air, kelembaban akan mempengaruhi efisiensi pengawetan sistem kationik; Radikal bebas UV sebaliknya, oleh pengaruh pemblokiran oksigen.<\/p>\n

 <\/p>\n

2. Daya rekat substrat<\/p>\n

Biasanya pada substrat yang lebih sulit untuk melekat pada permukaan substrat, seperti kaca \/ logam \/ plastik dengan kepadatan tinggi, kation UV dibandingkan dengan basis bebas UV memiliki kinerja perekatan yang lebih baik.<\/p>\n

 <\/p>\n

3. Tingkat penyusutan volume<\/p>\n

Tingkat penyusutan pengawetan formulasi sistem radikal bebas UV umumnya di atas 10%, sedangkan sistem kation UV dapat mengontrol laju penyusutan 1-3%, merupakan solusi yang baik untuk mengatasi penyusutan volume.<\/p>\n

 <\/p>\n

4. Karakteristik pengawetan gelap<\/p>\n

Sistem kation UV dapat terus bereaksi ke lapisan dalam setelah menghentikan iradiasi sumber cahaya, untuk menyelesaikan bahan setelah pengawetan, ini adalah karakteristik pengawetan gelap, sangat cocok untuk aplikasi pelapisan tebal, memanaskan kation setelah kecepatan pengawetan sangat membantu; Radikal bebas UV adalah sistem reaksi berhenti dan pergi.<\/p>\n

 <\/p>\n

5. Keamanan kontak<\/p>\n

Tingkat reaksi sistem kation UV mendekati 100%, keamanan dapat berupa sertifikasi pengujian REACH \/ FDA, dapat digunakan dalam kemasan makanan dan bidang terkait lainnya.<\/p>\n

 <\/p>\n

6. Kecepatan pengawetan ringan<\/p>\n

Secara umum kecepatan pengeringan sistem radikal bebas UV lebih cepat daripada sistem kationik, dipengaruhi oleh produk pemblokiran oksigen, pengeringan permukaan kationik akan lebih cepat, tetapi kecepatan pengeringan yang sebenarnya tidak secepat radikal bebas, Anda dapat meningkatkan reaksi dengan pemanasan, dan akhirnya dapat mencapai tingkat penyelesaian yang sangat baik.<\/p>\n

 <\/p>\n

Catatan formulasi<\/p>\n

 <\/p>\n

Sistem kation UV dapat dicampur dengan sistem radikal bebas UV dalam proporsi berapa pun, yang disebut sistem hibrida UV, dapat meningkatkan kecepatan pengawetan relatif kation UV dan penyusutan radikal bebas UV, dipengaruhi oleh penghalang oksigen dan kekurangan lainnya, ketebalan film yang sama dari sistem pengawetan perbedaan energi tidak besar.<\/p>\n

 <\/p>\n

Sistem kation UV mengandalkan inisiator yang dihasilkan oleh asam kuat Lewis untuk melakukan titik aktif dari reaksi pembukaan cincin, formula yang umumnya akan mempengaruhi aktivitas inisiator dari bahan tersebut terutama pigmen organik azo (dapat dimodifikasi untuk melakukan proteksi), dan radikal bebas yang bercampur dengan TPO \/ 819 \/ 907 dan struktur lain yang mengandung P, S dan elemen inisiator lainnya, dan mirip dengan 115 amina bertingkat.<\/p>\n

 <\/p>\n

Kelembaban pada pengaruh pengawetan sistem kationik UV, mengontrol kelembaban sekitar dalam 50% adalah tepat; sementara pemanasan akan mempercepat kecepatan reaksi.<\/p>\n

 <\/p>\n

 <\/p>\n

Inisiator Foto UV<\/span><\/a> Produk seri yang sama<\/strong><\/h2>\n

 <\/p>\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n
TPO pemrakarsa foto<\/span><\/a><\/td>\nCAS 75980-60-8<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto TMO<\/span><\/a><\/td>\nCAS 270586-78-2<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto PD-01<\/span><\/a><\/td>\nCAS 579-07-7<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto PBZ<\/span><\/a><\/td>\nCAS 2128-93-0<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto OXE-02<\/span><\/a><\/td>\nCAS 478556-66-0<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto OMBB<\/span><\/a><\/td>\nCAS 606-28-0<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto MPBZ (6012)<\/span><\/a><\/td>\nCAS 86428-83-3<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto MBP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 134-84-9<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto MBF<\/span><\/a><\/td>\nCAS 15206-55-0<\/td>\n<\/tr>\n
PAPAN inisiator foto<\/span><\/a><\/td>\nCAS 85073-19-4<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto ITX<\/span><\/a><\/td>\nCAS 5495-84-1<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto EMK<\/span><\/a><\/td>\nCAS 90-93-7<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto EHA<\/span><\/a><\/td>\nCAS 21245-02-3<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto EDB<\/span><\/a><\/td>\nCAS 10287-53-3<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto DETX<\/span><\/a><\/td>\nCAS 82799-44-8<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto CQ \/ Kamperquinon<\/span><\/a><\/td>\nCAS 10373-78-1<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto CBP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 134-85-0<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto BP \/ Benzofenon<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119-61-9<\/td>\n<\/tr>\n
BMS inisiator foto<\/span><\/a><\/td>\nCAS 83846-85-9<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto 938<\/span><\/a><\/td>\nCAS 61358-25-6<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto 937<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71786-70-4<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto 819 DW<\/span><\/a><\/td>\nCAS 162881-26-7<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa Foto 819<\/span><\/a><\/td>\nCAS 162881-26-7<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto 784<\/span><\/a><\/td>\nCAS 125051-32-3<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto 754<\/span><\/a><\/td>\nCAS 211510-16-6 442536-99-4<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto 6993<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71449-78-0<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto 6976<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71449-78-0 89452-37-9 108-32-7<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto 379<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119344-86-4<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto 369<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119313-12-1<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa Foto 160<\/a><\/span><\/td>\nCAS 71868-15-0<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa Foto 1206<\/span><\/a><\/td>\n<\/td>\n<\/tr>\n
Pemrakarsa foto 1173<\/span><\/a><\/td>\nCAS 7473-98-5<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n

 <\/p>\n

<\/p>\n

Pandangan praktis pengadaan dan formulasi monomer dan oligomer UV<\/h2>\n

Sebagian besar formulasi UV yang paling sukses dibangun dengan memilih dasar terlebih dahulu, kemudian menyempurnakan paket monomer reaktif di sekitar substrat, metode pengeringan, dan tekanan penggunaan akhir. Hal itu biasanya menghasilkan hasil yang lebih stabil daripada memilih bahan hanya berdasarkan viskositas atau harga.<\/p>\n