{"id":5647,"date":"2022-10-03T12:58:35","date_gmt":"2022-10-03T12:58:35","guid":{"rendered":"https:\/\/longchangchemical.com\/?p=5647"},"modified":"2026-04-28T10:42:09","modified_gmt":"2026-04-28T10:42:09","slug":"why-is-it-necessary-to-add-a-polymerization-inhibitor-to-light-curing-coatings","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/longchangchemical.com\/id\/why-is-it-necessary-to-add-a-polymerization-inhibitor-to-light-curing-coatings\/","title":{"rendered":"Mengapa perlu menambahkan penghambat polimerisasi pada pelapis curing ringan?"},"content":{"rendered":"

Mengapa perlu menambahkan penghambat polimerisasi pada pelapis curing ringan?<\/strong><\/h1>\n

<\/p>\n

Jawaban singkat:<\/strong> Pemilihan fotoinisiator biasanya dipengaruhi oleh kesesuaian lampu, kedalaman pengerasan, penguningan, dan apakah lapisan akhir masih berfungsi dengan baik pada substrat sebenarnya. Paket terbaik jarang sekali merupakan produk dengan kualitas tunggal termurah.<\/p>\n

<\/p>\n

Dalam proses produksi pelapis, beberapa jenis pelapis mengandung aktivitas polimerisasi zat yang tinggi, mudah dipengaruhi oleh faktor eksternal dan polimerisasi, untuk pelapis pengawet ringan, misalnya, komposisi utama pelapis pengawet ringan oligomer dan pengencer aktif adalah aktivitas polimerisasi tinggi dari akrilat, komposisi penting lainnya dari photoinisiator dan sangat mudah menghasilkan radikal bebas atau kation zat. Dalam sistem campuran seperti itu, sangat mudah untuk berpolimerisasi karena pengaruh cahaya dan panas eksternal, sehingga perlu menambahkan jumlah inhibitor polimerisasi yang tepat. Artikel ini memperkenalkan karakteristik dan aplikasi penghambat polimerisasi untuk pembaca.<\/p>\n

Penghambat polimerisasi adalah untuk mencegah terjadinya polimerisasi aditif. Inhibitor polimerisasi dapat menghentikan semua radikal bebas, sehingga reaksi polimerisasi benar-benar terhenti. Inhibitor polimerisasi yang umum digunakan adalah fenol, amina aromatik, senyawa nitro aromatik, dll. Oksigen di udara merupakan penghambat polimerisasi yang baik, karena oksigen itu sendiri merupakan radikal ganda, sangat mudah bergabung dengan radikal bebas, menghasilkan radikal peroksida, aktivitas inisiasi sangat berkurang, dan akhirnya menghasilkan oligomer ikatan monomer dan peroksida yang bergantian. Penghambat polimerisasi lapisan pengawet ringan terutama digunakan fenol, seperti p-hidroksianisol, hidrokuinon, dan 2,6-di-tert-butil-p-kresol. Karena penambahan hidrokuinon, terkadang menyebabkan warna sistem menjadi gelap, sering kali tidak digunakan. Tetapi penghambat polimerisasi fenolik harus berada di hadapan oksigen untuk menunjukkan efek pemblokiran polimerisasi.<\/p>\n

Dengan adanya penghambat polimerisasi fenolik, sehingga radikal peroksida dengan cepat dihentikan untuk memastikan bahwa ada konsentrasi oksigen yang cukup dalam sistem, memperpanjang waktu pemblokiran. Oleh karena itu, selain penambahan penghambat polimerisasi fenolik untuk meningkatkan stabilitas penyimpanan, kita juga harus memperhatikan penyimpanan cat di dalam wadah tidak boleh terlalu penuh, untuk memastikan ketersediaan oksigen yang cukup.<\/p>\n

<\/p>\n

Rute seleksi praktis untuk proyek-proyek terkait fotoinisiator.<\/h2>\n

Ketika pembeli teknis atau formulator menyaring fotoinisiator, kerangka keputusan yang paling berguna biasanya adalah kualitas pengawetan ditambah kesesuaian aplikasi: paket mana yang mengawetkan secara andal, menjaga penampilan tetap dapat diterima, dan masih berfungsi di bawah kondisi lampu, ketebalan film, dan substrat dari proses sebenarnya.<\/p>\n