{"id":5839,"date":"2023-01-07T13:24:52","date_gmt":"2023-01-07T13:24:52","guid":{"rendered":"https:\/\/longchangchemical.com\/?p=5839"},"modified":"2026-04-28T10:42:13","modified_gmt":"2026-04-28T10:42:13","slug":"six-additives-commonly-used-in-uv-coatings","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/longchangchemical.com\/hu\/six-additives-commonly-used-in-uv-coatings\/","title":{"rendered":"Mi az a hat adal\u00e9kanyag, amelyet \u00e1ltal\u00e1ban UV-bevonatokban haszn\u00e1lnak?"},"content":{"rendered":"

Mi az a hat adal\u00e9kanyag, amelyet \u00e1ltal\u00e1ban UV-bevonatokban haszn\u00e1lnak?<\/strong><\/h1>\n

<\/p>\n

Quick answer:<\/strong> For UV monomer and resin selection, the key commercial question is not \u201cwhich material is best in general\u201d but \u201cwhich package delivers the right balance of flow, cure, adhesion, and durability in the real application.\u201d<\/p>\n

<\/p>\n

Az UV-kationos \u00e9s az UV-mentes alapanyagok nagyon k\u00fcl\u00f6nb\u00f6z\u0151ek, de az \u00e1ltal\u00e1nos \u00f6sszet\u00e9tel\u00fck hasonl\u00f3. A kationos rendszer els\u0151sorban epoxi anyagok, de a k\u00f6z\u00f6ns\u00e9ges biszfenol-A epoxi reakci\u00f3sebess\u00e9g lass\u00fa, t\u00f6bb alkalmaz\u00e1ssal az aliciklikus epoxi \/ oxet\u00e1n anyagok; szabad gy\u00f6k\u00f6s rendszer kereskedelmi forgalomba hozatala most nagyon \u00e9rett, epoxi \/ poli\u00e9szter \/ poliuret\u00e1n m\u00f3dos\u00edtott akril\u00e1t anyagok t\u00f6bb v\u00e1laszt\u00e1si megold\u00e1sok.<\/p>\n

Az UV-kationos rendszerek kevesebb nyersanyagv\u00e1laszt\u00e9kkal rendelkeznek, mint a szabadgy\u00f6k\u00f6s rendszerek, \u00e9s az alacsony viszkozit\u00e1s\u00fa alliciklusos epoxigyant\u00e1k a f\u0151 polimerek. Vegy\u00fck p\u00e9ldak\u00e9nt az aliciklikus epoxigyant\u00e1kat.<\/p>\n

A k\u00fcl\u00f6nb\u00f6z\u0151 tisztas\u00e1g\u00fa TTA21 a legdomin\u00e1nsabb term\u00e9k az UV-bevon\u00f3iparban. Mivel a kationos UV-bevonatok\/alkalmaz\u00e1sok alkalmaz\u00e1sa tov\u00e1bbra is jelent\u0151sen n\u00f6vekszik, v\u00e1rhat\u00f3an a TTA21 \u00e1ltal k\u00e9pviselt aliciklusos epoxigyant\u00e1k mennyis\u00e9ge n\u00f6vekedni fog.<\/p>\n

 <\/p>\n

A tint\u00e1k\/bevonatok konkr\u00e9t term\u00e9kalkalmaz\u00e1saiban, amellett, hogy mindkett\u0151nek UV-f\u00e9nyre van sz\u00fcks\u00e9ge a kem\u00e9ny\u00edt\u0151energia biztos\u00edt\u00e1s\u00e1hoz, a k\u00e9t rendszer jelent\u0151s k\u00fcl\u00f6nbs\u00e9geket t\u00fckr\u00f6z a teljes\u00edtm\u00e9ny \u00e9s a reakci\u00f3jellemz\u0151k tekintet\u00e9ben.<\/p>\n

 <\/p>\n

1. Oxig\u00e9n-blokkol\u00f3 hat\u00e1s<\/p>\n

UV kationos rendszer nem rendelkezik oxig\u00e9n-blokkol\u00f3 hat\u00e1ssal, de jobban f\u00e9l a v\u00edzt\u0151l, a nedvess\u00e9g befoly\u00e1solja a kationos rendszer gy\u00f3gy\u00edt\u00e1si hat\u00e9konys\u00e1g\u00e1t; UV szabad gy\u00f6k\u00f6k \u00e9ppen ellenkez\u0151leg, az oxig\u00e9n-blokkol\u00f3 hat\u00e1s \u00e1ltal.<\/p>\n

 <\/p>\n

2. Al\u00e1t\u00e9t tapad\u00e1s<\/p>\n

\u00c1ltal\u00e1ban a nehezebben tapad a hordoz\u00f3 fel\u00fclet\u00e9n, mint p\u00e9ld\u00e1ul az \u00fcveg \/ f\u00e9m \/ nagy s\u0171r\u0171s\u00e9g\u0171 m\u0171anyag, UV kation, mint UV-mentes b\u00e1zis jobb tapad\u00e1si teljes\u00edtm\u00e9nyt ny\u00fajt.<\/p>\n

 <\/p>\n

3. T\u00e9rfogat zsugorod\u00e1si ar\u00e1ny<\/p>\n

Az UV szabad gy\u00f6k\u00f6s rendszer\u0171 k\u00e9sz\u00edtm\u00e9ny gy\u00f3gy\u00edt\u00f3 zsugorod\u00e1si sebess\u00e9ge \u00e1ltal\u00e1ban 10% felett van, m\u00edg az UV kationrendszer szab\u00e1lyozhatja az 1-3% zsugorod\u00e1si sebess\u00e9g\u00e9t, j\u00f3 megold\u00e1s a t\u00e9rfogat zsugorod\u00e1s\u00e1nak megold\u00e1s\u00e1ra.<\/p>\n

 <\/p>\n

4. S\u00f6t\u00e9t gy\u00f3gyul\u00e1si jellemz\u0151k<\/p>\n

UV kation rendszer tov\u00e1bbra is reag\u00e1lhat a bels\u0151 r\u00e9tegre a f\u00e9nyforr\u00e1s besug\u00e1rz\u00e1s\u00e1nak le\u00e1ll\u00edt\u00e1sa ut\u00e1n, hogy befejezze az anyagot a gy\u00f3gy\u00edt\u00e1s ut\u00e1n, ez a s\u00f6t\u00e9t gy\u00f3gy\u00edt\u00f3 jellemz\u0151k, nagyon alkalmas vastag bevonat alkalmaz\u00e1sokhoz, a kation f\u0171t\u00e9se a gy\u00f3gy\u00edt\u00e1s ut\u00e1n a gy\u00f3gy\u00edt\u00e1si sebess\u00e9g jelent\u0151sen hasznos; UV szabad gy\u00f6k egy stop-and-go reakci\u00f3rendszer.<\/p>\n

 <\/p>\n

5. \u00c9rint\u00e9sbiztons\u00e1g<\/p>\n

UV kation rendszer reakci\u00f3 m\u00e9rt\u00e9ke k\u00f6zel 100%, a biztons\u00e1g lehet REACH \/ FDA vizsg\u00e1lati tan\u00fas\u00edt\u00e1s, haszn\u00e1lhat\u00f3 az \u00e9lelmiszer-csomagol\u00e1s \u00e9s m\u00e1s kapcsol\u00f3d\u00f3 ter\u00fcleteken.<\/p>\n

 <\/p>\n

6. F\u00e9nykem\u00e9nyed\u00e9s sebess\u00e9ge<\/p>\n

\u00c1ltal\u00e1ban az UV szabad gy\u00f6k\u00f6s rendszer gy\u00f3gy\u00edt\u00e1si sebess\u00e9g, mint a kationos rendszer, befoly\u00e1solja az oxig\u00e9n-blokkol\u00f3 term\u00e9kek kationos fel\u00fclet sz\u00e1r\u00edt\u00e1sa gyorsabb lesz, de a t\u00e9nyleges sz\u00e1r\u00edt\u00e1si sebess\u00e9g nem olyan gyors, mint a szabad gy\u00f6k\u00f6s, akkor el\u0151seg\u00edtheti a reakci\u00f3t f\u0171t\u00e9ssel, \u00e9s v\u00e9g\u00fcl el\u00e9rheti a nagyon j\u00f3 befejez\u00e9si fokot.<\/p>\n

 <\/p>\n

Formul\u00e1z\u00e1si megjegyz\u00e9sek<\/p>\n

 <\/p>\n

UV kation rendszer lehet keverni UV szabad gy\u00f6k\u00f6s rendszer b\u00e1rmilyen ar\u00e1nyban, az \u00fagynevezett UV hibrid rendszer, jav\u00edthatja a relat\u00edv gy\u00f3gy\u00edt\u00f3 sebess\u00e9g UV kation \u00e9s UV szabad gy\u00f6k\u00f6s zsugorod\u00e1s, befoly\u00e1solja az oxig\u00e9n g\u00e1t \u00e9s egy\u00e9b hi\u00e1nyoss\u00e1gok, az azonos film vastags\u00e1ga a rendszer gy\u00f3gy\u00edt\u00f3 energia k\u00fcl\u00f6nbs\u00e9g nem nagy.<\/p>\n

 <\/p>\n

UV kation rendszer t\u00e1maszkodik a Lewis \u00e1ltal gener\u00e1lt inici\u00e1tor er\u0151s sav, hogy nem az akt\u00edv pont a gy\u0171r\u0171-nyit\u00f3 reakci\u00f3, a k\u00e9plet \u00e1ltal\u00e1ban befoly\u00e1solja az inici\u00e1tor aktivit\u00e1s\u00e1t az anyag els\u0151sorban azo szerves pigmentek (lehet m\u00f3dos\u00edtani, hogy nem v\u00e9delem), \u00e9s a szabad gy\u00f6k\u00f6k keverve TPO\/819\/907 \u00e9s m\u00e1s szerkezetek tartalmaz\u00f3 P, S \u00e9s egy\u00e9b elemek a kezdem\u00e9nyez\u0151, \u00e9s hasonl\u00f3 115 t\u00f6bbszint\u0171 amin.<\/p>\n

 <\/p>\n

A p\u00e1ratartalom az UV-kationos rendszerre gyakorolt hat\u00e1sa, a k\u00f6rnyezeti p\u00e1ratartalom szab\u00e1lyoz\u00e1sa az 50%-n bel\u00fcl megfelel\u0151; m\u00edg a f\u0171t\u00e9s felgyors\u00edtja a reakci\u00f3 sebess\u00e9g\u00e9t.<\/p>\n

 <\/p>\n

 <\/p>\n

UV fotoinici\u00e1tor<\/span><\/a> Ugyanazon sorozat term\u00e9kei<\/strong><\/h2>\n

 <\/p>\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n
Fotoinici\u00e1tor TPO<\/span><\/a><\/td>\nCAS 75980-60-8<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinici\u00e1tor TMO<\/span><\/a><\/td>\nCAS 270586-78-2<\/td>\n<\/tr>\n
PD-01 fotoinici\u00e1tor<\/span><\/a><\/td>\nCAS 579-07-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinici\u00e1tor PBZ<\/span><\/a><\/td>\nCAS 2128-93-0<\/td>\n<\/tr>\n
OXE-02 fotoinici\u00e1tor<\/span><\/a><\/td>\nCAS 478556-66-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinici\u00e1tor OMBB<\/span><\/a><\/td>\nCAS 606-28-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinici\u00e1tor MPBZ (6012)<\/span><\/a><\/td>\nCAS 86428-83-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinici\u00e1tor MBP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 134-84-9<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinici\u00e1tor MBF<\/span><\/a><\/td>\nCAS 15206-55-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinici\u00e1tor LAP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 85073-19-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinici\u00e1tor ITX<\/span><\/a><\/td>\nCAS 5495-84-1<\/td>\n<\/tr>\n
EMK fotoinici\u00e1tor<\/span><\/a><\/td>\nCAS 90-93-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinici\u00e1tor EHA<\/span><\/a><\/td>\nCAS 21245-02-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinici\u00e1tor EDB<\/span><\/a><\/td>\nCAS 10287-53-3<\/td>\n<\/tr>\n
DETX fotoinici\u00e1tor<\/span><\/a><\/td>\nCAS 82799-44-8<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinici\u00e1tor CQ \/ k\u00e1mforkinon<\/span><\/a><\/td>\nCAS 10373-78-1<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinici\u00e1tor CBP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 134-85-0<\/td>\n<\/tr>\n
BP \/ benzofenon fotoinici\u00e1tor<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119-61-9<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinici\u00e1tor BMS<\/span><\/a><\/td>\nCAS 83846-85-9<\/td>\n<\/tr>\n
F\u00e9nykezdem\u00e9nyez\u0151 938<\/span><\/a><\/td>\nCAS 61358-25-6<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinici\u00e1tor 937<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71786-70-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinici\u00e1tor 819 DW<\/span><\/a><\/td>\nCAS 162881-26-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinici\u00e1tor 819<\/span><\/a><\/td>\nCAS 162881-26-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinici\u00e1tor 784<\/span><\/a><\/td>\nCAS 125051-32-3<\/td>\n<\/tr>\n
754 fotoinici\u00e1tor<\/span><\/a><\/td>\nCAS 211510-16-6 442536-99-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinici\u00e1tor 6993<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71449-78-0<\/td>\n<\/tr>\n
6976 fotoinici\u00e1tor<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71449-78-0 89452-37-9 108-32-7<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinici\u00e1tor 379<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119344-86-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinici\u00e1tor 369<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119313-12-1<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinici\u00e1tor 160<\/a><\/span><\/td>\nCAS 71868-15-0<\/td>\n<\/tr>\n
F\u00e9nyind\u00edt\u00f3 1206<\/span><\/a><\/td>\n<\/td>\n<\/tr>\n
1173 fotoinici\u00e1tor<\/span><\/a><\/td>\nCAS 7473-98-5<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n

 <\/p>\n

<\/p>\n

A practical sourcing and formulation view of UV monomers and oligomers<\/h2>\n

Most successful UV formulations are built by choosing the backbone first and then tuning the reactive monomer package around the substrate, cure method, and end-use stress. That usually produces a more stable result than choosing materials by viscosity or price alone.<\/p>\n