Az UV bevonatokat sz\u00e1mos fel\u00fcletbevon\u00e1si ter\u00fcleten haszn\u00e1lj\u00e1k kiv\u00e1l\u00f3 fel\u00fcleti tulajdons\u00e1gaik miatt: nagy szil\u00e1rds\u00e1g, nagy kem\u00e9nys\u00e9g, nagy kop\u00e1s\u00e1ll\u00f3s\u00e1g, nagy f\u00e9nyess\u00e9g, nagy old\u00f3szer\u00e1ll\u00f3s\u00e1g; az UV-h\u0151kezel\u00e9si technol\u00f3gia gyors h\u0151kezel\u00e9si sebess\u00e9g\u00e9vel, alacsony szennyez\u00e9s\u00e9vel \u00e9s energiatakar\u00e9koss\u00e1g\u00e1val k\u00f6rnyezetbar\u00e1t z\u00f6ld technol\u00f3gi\u00e1v\u00e1 v\u00e1lt. Az UV-bevonatok a sug\u00e1rz\u00e1ssal kikem\u00e9ny\u00edtett bevonatok mintegy 98% r\u00e9sz\u00e9t teszik ki. A belt\u00e9ri bevonatokt\u00f3l, mint p\u00e9ld\u00e1ul a padl\u00f3bevonatok \u00e9s a fa b\u00fatorbevonatok, az ipari bevonatokig, mint p\u00e9ld\u00e1ul a m\u0171anyag bevonatok, korr\u00f3zi\u00f3v\u00e9d\u0151 bevonatok, motorker\u00e9kp\u00e1r bevonatok \u00e9s aut\u00f3ipari bevonatok, egyre t\u00f6bb alkalmaz\u00e1s igazolja a Harbourne \"minden\u00fctt jelenl\u00e9v\u0151 sug\u00e1rz\u00e1ssal t\u00f6rt\u00e9n\u0151 kem\u00e9ny\u00edt\u00e9si technol\u00f3gia\" elk\u00e9pzel\u00e9s\u00e9t. Mivel az UV-bevonatokat k\u00fclt\u00e9ren haszn\u00e1lj\u00e1k, az id\u0151j\u00e1r\u00e1s\u00e1ll\u00f3s\u00e1g aggodalomra ad okot. Ez az \u00edr\u00e1s az UV fed\u0151lakkok id\u0151j\u00e1r\u00e1s\u00e1ll\u00f3s\u00e1g\u00e1nak el\u0151zetes t\u00e1rgyal\u00e1sa.<\/p>\n
1. Az id\u0151j\u00e1r\u00e1s\u00e1ll\u00f3s\u00e1g alapfogalma
\nA fest\u00e9k id\u0151j\u00e1r\u00e1s\u00e1ll\u00f3s\u00e1ga els\u0151sorban a mechanikai tulajdons\u00e1gokra, mint p\u00e9ld\u00e1ul a modulus, a szil\u00e1rds\u00e1g, a tapad\u00e1s \u00e9s az optikai tulajdons\u00e1gok (mint p\u00e9ld\u00e1ul a sz\u00edn- \u00e9s f\u00e9nyvisszatart\u00e1s), valamint a k\u00e9miai tulajdons\u00e1gok v\u00e1ltoz\u00e1saira (mint p\u00e9ld\u00e1ul a ridegs\u00e9g, a kr\u00e9ta \u00e9s a korr\u00f3zi\u00f3) vonatkozik, amikor a fest\u00e9k k\u00fclt\u00e9ri k\u00f6rnyezeti hat\u00e1soknak van kit\u00e9ve.
\nA f\u00e9ny, a leveg\u0151 \u00e9s a v\u00edz (savas es\u0151) hat\u00e1s\u00e1ra a bevonatok k\u00fclt\u00e9ri leboml\u00e1si folyamata f\u0151k\u00e9nt a f\u00e9ny \u00e1ltal kiv\u00e1ltott oxidat\u00edv leboml\u00e1st, a v\u00edz \u00e1ltali leboml\u00e1st, a termikus leboml\u00e1st \u00e9s a nagy energi\u00e1j\u00fa sug\u00e1rz\u00e1s okozta leboml\u00e1st foglalja mag\u00e1ban. 2.<\/p>\n
2. Az UV-kem\u00e9ny\u00edtett bevonatok k\u00fcl\u00f6nleges jellemz\u0151i
\nAz elm\u00e9letb\u0151l tudjuk, hogy a f\u00e9nyinduk\u00e1lt oxidat\u00edv degrad\u00e1ci\u00f3, a hidrol\u00edzis, a termikus degrad\u00e1ci\u00f3 \u00e9s a nagy energi\u00e1j\u00fa sug\u00e1rz\u00e1s okozta degrad\u00e1ci\u00f3 azok a t\u00e9nyez\u0151k, amelyek a bevonatfel\u00fclet id\u0151j\u00e1r\u00e1s\u00e1ll\u00f3s\u00e1g\u00e1nak roml\u00e1s\u00e1t okozz\u00e1k. Az id\u0151j\u00e1r\u00e1s\u00e1ll\u00f3s\u00e1g jav\u00edt\u00e1sa \u00e9rdek\u00e9ben a bevonat \u00f6sszet\u00e9tel\u00e9b\u0151l a lehet\u0151 legnagyobb m\u00e9rt\u00e9kben ki kell z\u00e1rni a k\u00f6vetkez\u0151 h\u00e1rom t\u00e9nyez\u0151t: (1) a 290 nm feletti hull\u00e1mhossz\u00fas\u00e1gok abszorpci\u00f3ja, (2) a hidrog\u00e9natom befog\u00e1s\u00e1ra hajlamos gyant\u00e1k \u00e9s (3) a hidrol\u00edzisre hajlamos funkci\u00f3s csoportok.
\nAz UV-bevonatok \u00f6sszet\u00e9tele azonban a fenti pontok k\u00f6z\u00fcl legal\u00e1bb kett\u0151vel rendelkezik: a fotoinici\u00e1tor elnyeli a 200~400 nm-es hull\u00e1mhosszakat; a fotoinici\u00e1tor akt\u00edv hidrog\u00e9natomokkal (gyant\u00e1b\u00f3l vagy adal\u00e9kanyagokb\u00f3l) szabad gy\u00f6k\u00f6ket hoz l\u00e9tre. Ez\u00e9rt az UV-kem\u00e9ny\u00edtett bevonatoknak m\u00e1r a kezdetekt\u0151l fogva probl\u00e9m\u00e1t jelent az id\u0151j\u00e1r\u00e1s\u00e1ll\u00f3s\u00e1g.
\nAz UV-bevonatok id\u0151j\u00e1r\u00e1si probl\u00e9m\u00e1ja els\u0151sorban a f\u00e9ny \u00e1ltali \u00f6reged\u00e9s. K\u00fcl\u00f6nleges jellemz\u0151i a k\u00f6vetkez\u0151k: UV-f\u00e9nyre van sz\u00fcks\u00e9ge a kikem\u00e9nyed\u00e9shez, \u00e9s az UV-f\u00e9nynek val\u00f3 hossz\u00fa ideig tart\u00f3 expoz\u00edci\u00f3 a film min\u0151s\u00e9g\u00e9nek roml\u00e1s\u00e1hoz vezet. A napf\u00e9ny UVA \u00e9s UVB hossz\u00fa t\u00e1v\u00fa besug\u00e1rz\u00e1ssal gy\u00f3gy\u00edt\u00f3 bevonat k\u00f6nnyen teszi a karbonil, aril \u00e9s m\u00e1s f\u00e9nyelnyel\u0151 csoportok keresztk\u00f6t\u00e9s\u0171 h\u00e1l\u00f3zat\u00e1t, valamint a marad\u00e9k fotoinici\u00e1tor, fotoinici\u00e1tor prom\u00f3ter (f\u00e9ny\u00e9rz\u00e9keny\u00edt\u0151) \u00e9s m\u00e1s f\u00e9nyelnyel\u0151 szennyez\u0151d\u00e9sek UVB vagy ak\u00e1r UVA abszorpci\u00f3t \u00e9s k\u00e9miai k\u00f6t\u00e9s \u00e1trendez\u0151d\u00e9s\u00e9t \u00e9s az \u00f6reged\u00e9s roml\u00e1s\u00e1t. K\u00fcls\u0151 oxig\u00e9nes k\u00f6r\u00fclm\u00e9nyek k\u00f6z\u00f6tt a molekul\u00e1ris oxig\u00e9n f\u00e9ny\u00e9rz\u00e9keny\u00edt\u00e9ssel nagy reakci\u00f3k\u00e9pess\u00e9g\u0171 egyvonalas oxig\u00e9nt hozhat l\u00e9tre, amely oxid\u00e1ci\u00f3s term\u00e9keket \u00e9s a makromolekul\u00e1ris polimerek fotodegrad\u00e1ci\u00f3j\u00e1t eredm\u00e9nyezi, valamint peroxilgy\u00f6k\u00f6ket \u00e9s hidrog\u00e9nbefog\u00e1st, hasad\u00e1st, keresztk\u00f6t\u00e9st, \u00e1trendez\u0151d\u00e9st \u00e9s egy\u00e9b reakci\u00f3kat is k\u00e9pezhet. Ennek eredm\u00e9nyek\u00e9ppen a modulus kisebb lesz, a s\u00e1rgul\u00e1s megn\u0151, a bevon\u00f3film t\u00f6r\u00e9kenny\u00e9 v\u00e1lik, \u00e9s az id\u0151j\u00e1r\u00e1s\u00e1ll\u00f3s\u00e1g romlik. Ez\u00e9rt rendk\u00edv\u00fcl fontos, hogy meg\u00e9rts\u00fck az UV-kem\u00e9ny\u00edtett bevonatok id\u0151j\u00e1r\u00e1si tulajdons\u00e1gait az \u00f6sszet\u00e9tel\u00fckb\u0151l kiindulva.<\/p>\n
3 A W fed\u0151r\u00e9teg id\u0151j\u00e1r\u00e1s\u00e1ll\u00f3s\u00e1g\u00e1t befoly\u00e1sol\u00f3 t\u00e9nyez\u0151k<\/p>\n
3.1 A gyanta \u00f6sszet\u00e9tele
\nUV kikem\u00e9ny\u00edtett bevonatok a fejleszt\u00e9s a gyanta rendszer tel\u00edtetlen poli\u00e9szter rendszer \u00e1tmenet akril\u00e1t rendszer, az akril szerkezet elemezhet\u0151, ha ez egy tiszta akril\u00e1t bevonat, az id\u0151j\u00e1r\u00e1s\u00e1ll\u00f3s\u00e1g kell kiv\u00e1l\u00f3, de a k\u00f6lts\u00e9gek miatt, \u00e9s a m\u00f3dos\u00edt\u00e1s sz\u00fcks\u00e9gess\u00e9ge \u00e9s a bevezet\u00e9se m\u00e1s funkci\u00f3s csoportok, amely megv\u00e1ltoztatja a szerkezeti tulajdons\u00e1gokat. Jelenleg a vil\u00e1gon legink\u00e1bb haszn\u00e1ltak m\u00e9g mindig az epoxiakril\u00e1t \u00e9s az uret\u00e1n akril\u00e1t gyant\u00e1k. A k\u00f6vetkez\u0151 k\u00eds\u00e9rletek lehet\u0151v\u00e9 teszik sz\u00e1munkra, hogy meg\u00e9rts\u00fck a gyant\u00e1k n\u00e9h\u00e1ny kateg\u00f3ri\u00e1j\u00e1nak id\u0151j\u00e1r\u00e1si tulajdons\u00e1gait.<\/p>\n
3.1.1 Nyersanyagok \u00e9s k\u00e9sz\u00edtm\u00e9nyek
\nEATM (standard biszfenol-A epoxiakril\u00e1t gyanta), UVU6609 (alif\u00e1s uret\u00e1n akril\u00e1t gyanta), UVP9200 (poli\u00e9szter akril\u00e1t gyanta), UVA1000 (tiszta akril\u00e1t gyanta), amelyek mind a Longchang vegyipari v\u00e1llalat term\u00e9kei; UVU6200 (arom\u00e1s poli\u00e9ter uret\u00e1n UVU6200 (arom\u00e1s poli\u00e9ter poliuret\u00e1n akril\u00e1t gyanta), Longchang vegyipari v\u00e1llalat; 1173 (2-hidroxi-2-metil-1-fenilaceton), Longchang vegyipari v\u00e1llalat TPGDA (tripropil\u00e9nglikol-diacril\u00e1t), Longchang vegyipari v\u00e1llalat.<\/p>\n
3.1.3 Az eredm\u00e9nyek megvitat\u00e1sa
\n(1) A biszfenol-A epoxi akrilgyanta a legelterjedtebb az UV alkalmaz\u00e1sokban, \u00e9s el\u0151nyei a gyors kikem\u00e9nyed\u00e9si sebess\u00e9gben, a magas f\u00e9nyess\u00e9gben \u00e9s a j\u00f3 kem\u00e9nys\u00e9gben t\u00fckr\u00f6z\u0151dnek. Mivel a gyant\u00e1ban l\u00e9v\u0151 Ar-O-R 290 nm feletti UV-f\u00e9nyt k\u00e9pes elnyelni, \u00e9s fotokrakkol\u00e1son megy kereszt\u00fcl, hogy szabad gy\u00f6k\u00f6ket termeljen \u00e9s r\u00e9szt vegyen az oxidat\u00edv leboml\u00e1sban, a s\u00e1rgul\u00e1s kezdetben er\u0151sebb UV-f\u00e9nyben s\u00falyosabb, de term\u00e9szetes k\u00f6r\u00fclm\u00e9nyek k\u00f6z\u00f6tt nem jelent\u0151s.
\n(2) A poliuret\u00e1n akrilgyant\u00e1k a reakci\u00f3ban r\u00e9szt vev\u0151 - NCO-csoport szerkezete alapj\u00e1n arom\u00e1s \u00e9s alif\u00e1s csoportba sorolhat\u00f3k. Az arom\u00e1s karbam\u00e1tok (Ar-NH-COOR) 290 nm-es UV-f\u00e9nyt is k\u00e9pesek elnyelni \u00e9s k\u00f6zvetlen\u00fcl kinonszerkezetekre hasadni.
\nEzenk\u00edv\u00fcl az \u00e9terk\u00f6t\u00e9sekkel rendelkez\u0151 poli\u00e9ter-poliuret\u00e1nok \u00e9terk\u00f6t\u00e9sei is nagyon \u00e9rz\u00e9kenyek a fotodegrad\u00e1ci\u00f3ra.
\nAz alif\u00e1s poliuret\u00e1nok els\u0151 kikem\u00e9nyed\u00e9s\u00fckkor enyh\u00e9n elsz\u00ednez\u0151dnek, de term\u00e9szetes k\u00f6r\u00fclm\u00e9nyek k\u00f6z\u00f6tt kiv\u00e1l\u00f3 id\u0151j\u00e1r\u00e1s\u00e1ll\u00f3s\u00e1got mutatnak, \u00e9s az egyenes l\u00e1ncszerkezet miatt a t\u00e9rh\u00e1l\u00f3s\u00edtott filmek valamivel kev\u00e9sb\u00e9 l\u00fag\u00e1ll\u00f3ak.
\n(3) A tiszta akril\u00e1tgyant\u00e1k kiv\u00e1l\u00f3 szerkezeti id\u0151j\u00e1r\u00e1s\u00e1ll\u00f3s\u00e1ggal rendelkeznek. B\u00e1r az akril\u00e1t polimerek kiv\u00e1l\u00f3 \u00f6reged\u00e9s\u00e1ll\u00f3s\u00e1ggal rendelkeznek, sz\u00e1mos h\u00e1tr\u00e1nya van, ha a bevonatok f\u0151 gyant\u00e1jak\u00e9nt haszn\u00e1lj\u00e1k: f\u0151k\u00e9nt a kikem\u00e9ny\u00edtett film gyenge sav- \u00e9s l\u00fag\u00e1ll\u00f3s\u00e1ggal, old\u00f3szer\u00e1ll\u00f3s\u00e1ggal rendelkezik, \u00e9s a filmk\u00e9pz\u00e9s ut\u00e1n 15 percig 10% KOH oldatban forralva a film a polimer hidrol\u00edzise miatt h\u00f3lyagosodik \u00e9s lev\u00e1lik.
\n(4) Poli\u00e9szter-akril\u00e1t gyanta, az el\u00e1gaz\u00f3 l\u00e1ncszerkezet miatt a keresztk\u00f6t\u00e9s er\u0151s\u00edt\u00e9se, szoros szerkezet, jobb szil\u00e1rds\u00e1g, old\u00f3szer\u00e1ll\u00f3s\u00e1g is er\u0151s. De a poli\u00e9szter szint\u00e9zis r\u00e9sze befoly\u00e1solja a s\u00e1rgul\u00e1s\u00e1t a benzolgy\u0171r\u0171 \u00e9s a heteroatomok sz\u00e1ma \u00e9s helyzete miatt.
\n3.2 Fotoinici\u00e1tor
\nAz UV-kem\u00e9ny\u00edtett bevonatokban a fotoinici\u00e1torok szabadgy\u00f6k\u00f6s inici\u00e1torok. Szerkezeti jellemz\u0151ik alapj\u00e1n a k\u00f6vetkez\u0151kre oszthat\u00f3k: karbonilvegy\u00fcletek, sz\u00ednez\u00e9kek, f\u00e9morganikus, halog\u00e9ntartalm\u00fa vegy\u00fcletek, azovegy\u00fcletek \u00e9s peroxivegy\u00fcletek. A szabadgy\u00f6k-k\u00e9pz\u0151d\u00e9s mechanizmusa szerint a szabadgy\u00f6k-k\u00e9pz\u0151d\u00e9s t\u00edpus\u00e1t has\u00edt\u00f3 \u00e9s hidrog\u00e9n-elvon\u00f3 t\u00edpusra lehet osztani.
\nJelenleg a glob\u00e1lis ipari alkalmaz\u00e1s m\u00e9g mindig f\u0151k\u00e9nt a szabad gy\u00f6k t\u00edpus\u00fa inici\u00e1tor, m\u00e1s oszt\u00e1lyok csak nagyon kis mennyis\u00e9gben haszn\u00e1latosak, \u00e9s m\u00e9g az egyes oszt\u00e1lyokat is csak laborat\u00f3riumban haszn\u00e1lj\u00e1k. K\u00edn\u00e1ban els\u0151sorban 1173, 184 (1-hidroxi-ciklohexil-fenil-keton, Longchang vegyi anyag), TPO (2,4,6-trimetil-benzoil-difenil-foszfin-oxid, Longchang vegyi anyag) \u00e9s m\u00e1s has\u00edt\u00f3 t\u00edpus\u00fa \u00e9s BP (benzofenon, Longchang vegyi anyag), ITX (izopropil-tioantron, Longchang vegyi anyag), CTX (2,4-dikl\u00f3r-tioxantron, Longchang vegyi anyag) \u00e9s m\u00e1s hidrog\u00e9n extrakci\u00f3s t\u00edpusok.
\n3.2.1 Hasad\u00e1si t\u00edpus
\nA has\u00edt\u00f3 t\u00edpus\u00fa fotoinici\u00e1tort akril\u00e1t rendszerben alkalmazz\u00e1k, amely nem k\u00f6nnyen s\u00e1rgul vagy kis s\u00e1rgul\u00e1si egy\u00fctthat\u00f3val rendelkezik. Ennek f\u0151 oka az, hogy a szubsztitu\u00e1lt benzil v\u00f6r\u00f6seltol\u00f3d\u00e1si hull\u00e1mhossza kicsi, \u00e9s nem k\u00f6nny\u0171 rezonanciaelsz\u00ednez\u0151d\u00e9st el\u0151id\u00e9zni. Kellemetlen szaga azonban alkalmaz\u00e1si akad\u00e1lyt jelent.
\n3.2.2 Hidrog\u00e9n extrakci\u00f3 t\u00edpusa
\nAz ilyen t\u00edpus\u00fa fotoinici\u00e1tornak akt\u00edv hidrog\u00e9nt tartalmaz\u00f3 vegy\u00fcletekkel kell egy\u00fctt lennie, hogy bimolekul\u00e1ris reakci\u00f3kat hozzon l\u00e9tre, \u00e9s szabad gy\u00f6k\u00f6ket hozzon l\u00e9tre a reakci\u00f3 el\u0151seg\u00edt\u00e9s\u00e9re. Az akt\u00edv hidrog\u00e9nt biztos\u00edt\u00f3 vegy\u00fcletek (m\u00e1s n\u00e9ven fotoszenzibiliz\u00e1torok) f\u0151k\u00e9nt tercier aminok, trietanolamin, akt\u00edv aminok, \u00e9s a k\u00fcl\u00f6nb\u00f6z\u0151 fotoszenzibiliz\u00e1torokkal v\u00e9gzett k\u00eds\u00e9rletek megmutathatj\u00e1k a bevon\u00f3film s\u00e1rgul\u00e1s\u00e1val val\u00f3 kapcsolatukat.
\nA f\u00e9ny\u00e9rz\u00e9keny\u00edt\u0151k jelenl\u00e9te val\u00f3sz\u00edn\u0171leg a sz\u00ednkibocs\u00e1t\u00f3 csoportok jelenl\u00e9t\u00e9nek is k\u00f6sz\u00f6nhet\u0151: amino- vagy arom\u00e1s gy\u0171r\u0171kh\u00f6z konjug\u00e1lt karbonilcsoportok, amelyek fokozz\u00e1k a s\u00e1rgul\u00e1si \u00e9s leboml\u00e1si reakci\u00f3t. Egy m\u00e1sik ok az, hogy a fotoinici\u00e1tor UV bevonatokban marad 1~2% a rendszerben reag\u00e1lni, ez a r\u00e9sze a fotoinici\u00e1tor term\u00e9szetes f\u00e9ny abszorpci\u00f3ja ultraibolya f\u00e9ny okozta marad\u00e9k kett\u0151s k\u00f6t\u00e9s m\u00e9ly keresztk\u00f6t\u00e9s, ami elsz\u00ednez\u0151d\u00e9s, reped\u00e9s vagy r\u00e1ncosod\u00e1s a bevonat film.
\n3.3 Monomer
\nA k\u00fcl\u00f6nb\u00f6z\u0151 monomerek k\u00fcl\u00f6nb\u00f6z\u0151 reakci\u00f3sebess\u00e9ggel reag\u00e1lnak a kem\u00e9nyed\u00e9si folyamat sor\u00e1n, min\u00e9l gyorsabb a reakci\u00f3, ann\u00e1l t\u00f6bb kett\u0151s k\u00f6t\u00e9s marad vissza a monomerben. Az \u00e9terk\u00f6t\u00e9sekkel rendelkez\u0151 funkci\u00f3s csoportok jelenl\u00e9te hajlamos a fotodegrad\u00e1ci\u00f3ra, \u00edgy a TPGDA, DPGDA (dipropil\u00e9nglikol-diacril\u00e1t), (EO)TMPTA (etoxitrimetilolprop\u00e1ntrikril\u00e1t), (PO)TMPTA (propoxitrimetilolprop\u00e1ntrikril\u00e1t) \u00e9s m\u00e1s, alkohol-kondenz\u00e1lt \u00e9terszerkezetet tartalmaz\u00f3 monomerek hajlamosabbak a fotodegrad\u00e1ci\u00f3s reakci\u00f3ra, azt jelentett\u00e9k, hogy az etoxi, mint a propil\u00e9n-oxid szerkezet kev\u00e9sb\u00e9 stabil, mint a f\u00e9ny. Az etoxiszerkezet f\u00e9nystabilit\u00e1sa rosszabb, mint a propoxiszerkezet\u00e9, \u00e9s a f\u00e9nystabilit\u00e1s sorrendje t\u00f6bb hagyom\u00e1nyos monomer k\u00f6z\u00f6tt a k\u00f6vetkez\u0151.
\nTMPTA > NPGDA (neopentilglikol-diacril\u00e1t) > HDDA > TPGDA > (EO)TMPTA \u2248 (P0)TMPTA<\/p>\n
4 Int\u00e9zked\u00e9sek az UV-fed\u0151r\u00e9teg id\u0151j\u00e1r\u00e1s\u00e1ll\u00f3s\u00e1g\u00e1nak jav\u00edt\u00e1s\u00e1ra<\/p>\n
4.1 A gyanta kiv\u00e1laszt\u00e1sa
\nA k\u00fclt\u00e9ri UV-fest\u00e9kek id\u0151j\u00e1r\u00e1s\u00e1ll\u00f3s\u00e1g\u00e1nak jav\u00edt\u00e1sa \u00e9rdek\u00e9ben olyan gyant\u00e1kat kell kiv\u00e1lasztani, amelyek ellen\u00e1llnak a s\u00e1rgul\u00e1snak, a bevonatfilm modulus\u00e1nak a k\u00f6rnyezeti v\u00e1ltoz\u00e1sokhoz val\u00f3 alkalmazkod\u00e1shoz sz\u00fcks\u00e9ges v\u00e1ltoz\u00e1s\u00e1nak, nagy kem\u00e9nys\u00e9g\u00e9nek, j\u00f3 rugalmass\u00e1g\u00e1nak \u00e9s karc\u00e1ll\u00f3s\u00e1g\u00e1nak. A legmegfelel\u0151bb gyanta ezekre a k\u00f6vetelm\u00e9nyekre a t\u00f6bb funkci\u00f3s csoportot tartalmaz\u00f3 alif\u00e1s akril\u00e1t poliuret\u00e1ngyanta. A k\u00f6lts\u00e9gek cs\u00f6kkent\u00e9se \u00e9rdek\u00e9ben v\u00e1laszthatjuk a m\u00f3dos\u00edtott epoxi-akril\u00e1t gyanta \u00e9s az alif\u00e1s uret\u00e1n-akril\u00e1t vagy a tiszta akrilgyanta kombin\u00e1ci\u00f3j\u00e1nak egy r\u00e9sz\u00e9t is.<\/p>\n
4.2 A monomer kiv\u00e1laszt\u00e1sa
\nA monomerek haszn\u00e1lat\u00e1ban ellentmond\u00e1s van: a b\u0151rirrit\u00e1ci\u00f3 szempontj\u00e1b\u00f3l az alkoxi\u00e1lt akril\u00e1t monomerekb\u0151l kell v\u00e1lasztani, az id\u0151j\u00e1r\u00e1s\u00e1ll\u00f3s\u00e1g szempontj\u00e1b\u00f3l nem szabad az alkoxi\u00e1lt akril\u00e1t monomerekb\u0151l v\u00e1lasztani. A szerz\u0151 azt javasolja, hogy a monomerek legjobb v\u00e1laszt\u00e1sa az id\u0151j\u00e1r\u00e1s\u00e1ll\u00f3 fed\u0151r\u00e9tegekhez a k\u00f6vetkez\u0151: TMPTA, HDDA, TPGDA, amelyek cs\u00f6kkenthetik a fotodegrad\u00e1ci\u00f3t.<\/p>\n
4.3 A fotoinici\u00e1torok kiv\u00e1laszt\u00e1sa
\nA hidrog\u00e9n-emel\u0151 fotoinici\u00e1tor s\u00e1rgul\u00e1si egy\u00fctthat\u00f3ja nagyobb, \u00e1ltal\u00e1ban a reped\u00e9s t\u00edpus\u00e1t kell v\u00e1lasztani a s\u00e1rgul\u00e1s cs\u00f6kkent\u00e9se \u00e9rdek\u00e9ben, \u00e1ltal\u00e1ban az 1173, 184, TPO \u00e9s m\u00e1s t\u00edpusokat v\u00e1lasztj\u00e1k a tiszta bevonat vagy a sz\u00ednes rendszer alkalmaz\u00e1sokban.<\/p>\n
<\/p>\n
<\/p>\n
| Fotoinici\u00e1tor TPO<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 75980-60-8<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| Fotoinici\u00e1tor TMO<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 270586-78-2<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| PD-01 fotoinici\u00e1tor<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 579-07-7<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| Fotoinici\u00e1tor PBZ<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 2128-93-0<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| OXE-02 fotoinici\u00e1tor<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 478556-66-0<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| Fotoinici\u00e1tor OMBB<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 606-28-0<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| Fotoinici\u00e1tor MPBZ (6012)<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 86428-83-3<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| Fotoinici\u00e1tor MBP<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 134-84-9<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| Fotoinici\u00e1tor MBF<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 15206-55-0<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| Fotoinici\u00e1tor LAP<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 85073-19-4<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| Fotoinici\u00e1tor ITX<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 5495-84-1<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| EMK fotoinici\u00e1tor<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 90-93-7<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| Fotoinici\u00e1tor EHA<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 21245-02-3<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| Fotoinici\u00e1tor EDB<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 10287-53-3<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| DETX fotoinici\u00e1tor<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 82799-44-8<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| Fotoinici\u00e1tor CQ \/ k\u00e1mforkinon<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 10373-78-1<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| Fotoinici\u00e1tor CBP<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 134-85-0<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| BP \/ benzofenon fotoinici\u00e1tor<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 119-61-9<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| Fotoinici\u00e1tor BMS<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 83846-85-9<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| F\u00e9nykezdem\u00e9nyez\u0151 938<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 61358-25-6<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| Fotoinici\u00e1tor 937<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 71786-70-4<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| Fotoinici\u00e1tor 819 DW<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 162881-26-7<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| Fotoinici\u00e1tor 819<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 162881-26-7<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| Fotoinici\u00e1tor 784<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 125051-32-3<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| 754 fotoinici\u00e1tor<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 211510-16-6 442536-99-4<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| Fotoinici\u00e1tor 6993<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 71449-78-0<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| 6976 fotoinici\u00e1tor<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 71449-78-0 89452-37-9 108-32-7<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| Fotoinici\u00e1tor 379<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 119344-86-4<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| Fotoinici\u00e1tor 369<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 119313-12-1<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| Fotoinici\u00e1tor 160<\/a><\/span><\/td>\n | CAS 71868-15-0<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| F\u00e9nyind\u00edt\u00f3 1206<\/span><\/a><\/td>\n | <\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||
| 1173 fotoinici\u00e1tor<\/span><\/a><\/td>\n | CAS 7473-98-5<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n <\/p>\n 4.4 Egy\u00e9b adal\u00e9kanyagok kiv\u00e1laszt\u00e1sa (2) Akad\u00e1lyozott amin f\u00e9nystabiliz\u00e1torok (HALS) \u00e9s antioxid\u00e1nsok F\u00e9nystabiliz\u00e1torok Ugyanaz a sorozat term\u00e9kei<\/strong><\/h2>\n<\/p>\n
|