{"id":5839,"date":"2023-01-07T13:24:52","date_gmt":"2023-01-07T13:24:52","guid":{"rendered":"https:\/\/longchangchemical.com\/?p=5839"},"modified":"2026-04-28T10:42:13","modified_gmt":"2026-04-28T10:42:13","slug":"six-additives-commonly-used-in-uv-coatings","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/longchangchemical.com\/fr\/six-additives-commonly-used-in-uv-coatings\/","title":{"rendered":"Quels sont les six additifs couramment utilis\u00e9s dans les vernis UV ?"},"content":{"rendered":"

Quels sont les six additifs couramment utilis\u00e9s dans les vernis UV ?<\/strong><\/h1>\n

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R\u00e9ponse rapide :<\/strong> For UV monomer and resin selection, the key commercial question is not \u201cwhich material is best in general\u201d but \u201cwhich package delivers the right balance of flow, cure, adhesion, and durability in the real application.\u201d<\/p>\n

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Les mat\u00e9riaux de base UV cationiques et UV libres sont tr\u00e8s diff\u00e9rents, mais leur composition globale est similaire. Le syst\u00e8me cationique est principalement constitu\u00e9 de mat\u00e9riaux \u00e9poxy, mais la vitesse de r\u00e9action de l'\u00e9poxy bisph\u00e9nol A ordinaire est lente, avec davantage d'applications de mat\u00e9riaux \u00e9poxy \/ ox\u00e9tane alicycliques ; la commercialisation du syst\u00e8me radicalaire est maintenant tr\u00e8s mature, avec des mat\u00e9riaux acrylates modifi\u00e9s \u00e9poxy \/ polyester \/ polyur\u00e9thane qui peuvent fournir un plus grand choix de solutions.<\/p>\n

Les syst\u00e8mes cationiques UV ont moins d'options de mati\u00e8res premi\u00e8res que les syst\u00e8mes \u00e0 radicaux libres, et les r\u00e9sines \u00e9poxydes alicycliques \u00e0 faible viscosit\u00e9 sont les principaux polym\u00e8res. Prenons l'exemple des r\u00e9sines \u00e9poxydes alicycliques.<\/p>\n

Le TTA21, dont les sp\u00e9cifications de puret\u00e9 varient, est le produit le plus courant dans l'industrie du vernis UV. Comme l'application des vernis UV cationiques continue \u00e0 se d\u00e9velopper de mani\u00e8re significative, il est pr\u00e9vu que la quantit\u00e9 de r\u00e9sines \u00e9poxydes alicycliques repr\u00e9sent\u00e9e par le TTA21 augmente.<\/p>\n

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Dans les applications sp\u00e9cifiques des encres et des rev\u00eatements, outre le fait qu'ils ont tous deux besoin de la lumi\u00e8re UV pour fournir l'\u00e9nergie de durcissement, les deux syst\u00e8mes pr\u00e9sentent des diff\u00e9rences majeures en termes de performances et de caract\u00e9ristiques de r\u00e9action.<\/p>\n

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1. Effet de blocage de l'oxyg\u00e8ne<\/p>\n

Le syst\u00e8me cationique UV n'a pas d'effet de blocage de l'oxyg\u00e8ne, mais craint davantage l'eau, l'humidit\u00e9 affectera l'efficacit\u00e9 du durcissement du syst\u00e8me cationique ; les radicaux libres UV au contraire, par l'influence du blocage de l'oxyg\u00e8ne.<\/p>\n

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2. Adh\u00e9sion au substrat<\/p>\n

En g\u00e9n\u00e9ral, dans les cas o\u00f9 il est plus difficile d'adh\u00e9rer \u00e0 la surface du substrat, comme le verre, le m\u00e9tal ou le plastique haute densit\u00e9, le cation UV est plus efficace que la base libre d'UV.<\/p>\n

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3. Taux de r\u00e9tr\u00e9cissement du volume<\/p>\n

Le taux de r\u00e9tr\u00e9cissement de la formulation du syst\u00e8me de radical libre UV est g\u00e9n\u00e9ralement sup\u00e9rieur \u00e0 10%, tandis que le syst\u00e8me de cation UV peut contr\u00f4ler le taux de r\u00e9tr\u00e9cissement de 1-3%, ce qui constitue une bonne solution pour r\u00e9soudre le probl\u00e8me du r\u00e9tr\u00e9cissement du volume.<\/p>\n

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4. Caract\u00e9ristiques de durcissement \u00e0 l'obscurit\u00e9<\/p>\n

Le syst\u00e8me de cation UV peut continuer \u00e0 r\u00e9agir \u00e0 la couche interne apr\u00e8s l'arr\u00eat de l'irradiation de la source lumineuse, pour compl\u00e9ter le mat\u00e9riau apr\u00e8s le durcissement, c'est la caract\u00e9ristique de durcissement sombre, tr\u00e8s appropri\u00e9e pour les applications de rev\u00eatement \u00e9pais, le chauffage du cation apr\u00e8s la vitesse de durcissement est consid\u00e9rablement utile ; le radical libre UV est un syst\u00e8me de r\u00e9action de type stop-and-go.<\/p>\n

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5. S\u00e9curit\u00e9 des contacts<\/p>\n

Le degr\u00e9 de r\u00e9action du syst\u00e8me de cation UV est proche de 100%, la s\u00e9curit\u00e9 peut \u00eatre certifi\u00e9e par les tests REACH \/ FDA, et peut \u00eatre utilis\u00e9e dans l'emballage alimentaire et d'autres domaines connexes.<\/p>\n

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6. Vitesse de durcissement de la lumi\u00e8re<\/p>\n

En g\u00e9n\u00e9ral, la vitesse de durcissement du syst\u00e8me radicalaire UV est sup\u00e9rieure \u00e0 celle du syst\u00e8me cationique, affect\u00e9 par des produits bloquant l'oxyg\u00e8ne, le s\u00e9chage de la surface cationique sera plus rapide, mais la vitesse de s\u00e9chage r\u00e9elle n'est pas aussi rapide que celle du radical libre, vous pouvez promouvoir la r\u00e9action en chauffant, et finalement atteindre un tr\u00e8s bon degr\u00e9 d'ach\u00e8vement.<\/p>\n

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Notes de formulation<\/p>\n

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Le syst\u00e8me de cation UV peut \u00eatre m\u00e9lang\u00e9 au syst\u00e8me de radical libre UV dans n'importe quelle proportion, appel\u00e9 syst\u00e8me hybride UV, ce qui peut am\u00e9liorer la vitesse de durcissement relative du cation UV et le retrait du radical libre UV, affect\u00e9 par la barri\u00e8re \u00e0 l'oxyg\u00e8ne et d'autres d\u00e9fauts, la m\u00eame \u00e9paisseur de film de la diff\u00e9rence d'\u00e9nergie de durcissement du syst\u00e8me n'est pas grande.<\/p>\n

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Le syst\u00e8me de cation UV repose sur l'initiateur g\u00e9n\u00e9r\u00e9 par l'acide fort de Lewis pour r\u00e9aliser le point actif de la r\u00e9action d'ouverture de cycle, la formule affectera g\u00e9n\u00e9ralement l'activit\u00e9 de l'initiateur du mat\u00e9riau, qui est principalement constitu\u00e9 de pigments organiques azo\u00efques (pouvant \u00eatre modifi\u00e9s pour assurer la protection), et de radicaux libres m\u00e9lang\u00e9s \u00e0 TPO\/819\/907 et \u00e0 d'autres structures contenant des \u00e9l\u00e9ments P, S et autres de l'initiateur, et similaire \u00e0 115 amine \u00e0 plusieurs niveaux.<\/p>\n

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L'humidit\u00e9 a une influence sur le durcissement du syst\u00e8me cationique UV ; il convient de contr\u00f4ler l'humidit\u00e9 ambiante dans les limites de 50%, tandis que le chauffage acc\u00e9l\u00e8re la vitesse de r\u00e9action.<\/p>\n

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Photoinitiateur UV<\/span><\/a> Produits de la m\u00eame s\u00e9rie<\/strong><\/h2>\n

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Photoinitiateur TPO<\/span><\/a><\/td>\nCAS 75980-60-8<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur TMO<\/span><\/a><\/td>\nCAS 270586-78-2<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur PD-01<\/span><\/a><\/td>\nCAS 579-07-7<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur PBZ<\/span><\/a><\/td>\nCAS 2128-93-0<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur OXE-02<\/span><\/a><\/td>\nCAS 478556-66-0<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur OMBB<\/span><\/a><\/td>\nCAS 606-28-0<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur MPBZ (6012)<\/span><\/a><\/td>\nCAS 86428-83-3<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur MBP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 134-84-9<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur MBF<\/span><\/a><\/td>\nCAS 15206-55-0<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur LAP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 85073-19-4<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur ITX<\/span><\/a><\/td>\nCAS 5495-84-1<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur EMK<\/span><\/a><\/td>\nCAS 90-93-7<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur EHA<\/span><\/a><\/td>\nCAS 21245-02-3<\/td>\n<\/tr>\n
Photo-initiateur EDB<\/span><\/a><\/td>\nCAS 10287-53-3<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur DETX<\/span><\/a><\/td>\nCAS 82799-44-8<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur CQ \/ Camphorquinone<\/span><\/a><\/td>\nCAS 10373-78-1<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur CBP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 134-85-0<\/td>\n<\/tr>\n
Photo-initiateur BP \/ Benzoph\u00e9none<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119-61-9<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur BMS<\/span><\/a><\/td>\nCAS 83846-85-9<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 938<\/span><\/a><\/td>\nCAS 61358-25-6<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 937<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71786-70-4<\/td>\n<\/tr>\n
Photo-initiateur 819 DW<\/span><\/a><\/td>\nCAS 162881-26-7<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 819<\/span><\/a><\/td>\nCAS 162881-26-7<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 784<\/span><\/a><\/td>\nCAS 125051-32-3<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 754<\/span><\/a><\/td>\nCAS 211510-16-6 442536-99-4<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 6993<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71449-78-0<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 6976<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71449-78-0 89452-37-9 108-32-7<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 379<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119344-86-4<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 369<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119313-12-1<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 160<\/a><\/span><\/td>\nCAS 71868-15-0<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 1206<\/span><\/a><\/td>\n<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 1173<\/span><\/a><\/td>\nCAS 7473-98-5<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n

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A practical sourcing and formulation view of UV monomers and oligomers<\/h2>\n

La plupart des formulations UV les plus performantes sont construites en choisissant d'abord la r\u00e9sine de base, puis en ajustant le package de monom\u00e8res r\u00e9actifs en fonction du substrat, de la m\u00e9thode de durcissement et des contraintes d'utilisation finale. Cela produit g\u00e9n\u00e9ralement un r\u00e9sultat plus stable que de choisir les mat\u00e9riaux uniquement en fonction de la viscosit\u00e9 ou du prix.<\/p>\n