{"id":5834,"date":"2023-01-06T13:31:19","date_gmt":"2023-01-06T13:31:19","guid":{"rendered":"https:\/\/longchangchemical.com\/?p=5834"},"modified":"2026-04-28T10:42:13","modified_gmt":"2026-04-28T10:42:13","slug":"alicyclic-epoxy-resin-in-uv-light-curing-coating","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/longchangchemical.com\/fr\/alicyclic-epoxy-resin-in-uv-light-curing-coating\/","title":{"rendered":"Comment appliquer une r\u00e9sine \u00e9poxyde alicyclique dans un rev\u00eatement durcissant \u00e0 la lumi\u00e8re UV ?"},"content":{"rendered":"

Comment appliquer une r\u00e9sine \u00e9poxyde alicyclique dans un rev\u00eatement durcissant \u00e0 la lumi\u00e8re UV ?<\/strong><\/h1>\n

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R\u00e9ponse rapide :<\/strong> Dans la plupart des syst\u00e8mes UV, les photoinitiateurs sont s\u00e9lectionn\u00e9s en \u00e9quilibrant la longueur d'onde, la polym\u00e9risation en profondeur, le contr\u00f4le de la couleur et la vitesse de ligne. Les acheteurs comparent g\u00e9n\u00e9ralement un m\u00e9lange plut\u00f4t qu'un produit isol\u00e9.<\/p>\n

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La technologie de s\u00e9chage UV se divise en deux grandes cat\u00e9gories : les syst\u00e8mes UV radicaux libres et les syst\u00e8mes UV cationiques. Les vernis UV cationiques pr\u00e9sentent d'excellentes propri\u00e9t\u00e9s de traitement dans l'industrie des bo\u00eetes m\u00e9talliques, de l'acier lamin\u00e9 et de l'emballage flexible, et sont largement utilis\u00e9s.<\/p>\n

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Les mat\u00e9riaux UV cationiques et UV radicaux libres sont tr\u00e8s diff\u00e9rents, mais leur composition globale est similaire. Les syst\u00e8mes cationiques sont domin\u00e9s par les mat\u00e9riaux \u00e9poxy, mais les \u00e9poxy ordinaires de type bisph\u00e9nol A r\u00e9agissent lentement, et les mat\u00e9riaux alicycliques de type \u00e9poxy\/ox\u00e9tane trouvent davantage d'applications ; les syst\u00e8mes \u00e0 radicaux libres sont d\u00e9sormais tr\u00e8s m\u00fbrs sur le plan commercial, et les mat\u00e9riaux acrylates modifi\u00e9s \u00e9poxy\/polyester\/polyur\u00e9thane offrent un plus grand choix de solutions.<\/p>\n

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Le syst\u00e8me cationique UV permet de choisir moins de mati\u00e8res premi\u00e8res que le syst\u00e8me radicalaire, et le polym\u00e8re est principalement une r\u00e9sine \u00e9poxyde alicyclique \u00e0 faible viscosit\u00e9. Prenons l'exemple des r\u00e9sines \u00e9poxydes alicycliques.<\/p>\n

Le TTA21, dont les sp\u00e9cifications de puret\u00e9 sont vari\u00e9es, est le produit le plus dominant dans l'industrie du vernis UV. L'application des vernis UV cationiques continuant \u00e0 se d\u00e9velopper de mani\u00e8re significative, on s'attend \u00e0 ce que la quantit\u00e9 de r\u00e9sines \u00e9poxydes alicycliques repr\u00e9sent\u00e9e par le TTA21 augmente.<\/p>\n

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Dans l'application sp\u00e9cifique des encres et des rev\u00eatements, outre le fait que les deux syst\u00e8mes ont besoin de la lumi\u00e8re UV pour fournir l'\u00e9nergie de durcissement, ils pr\u00e9sentent des diff\u00e9rences majeures en termes de performances et de caract\u00e9ristiques de r\u00e9action.<\/p>\n

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1. Effet de blocage de l'oxyg\u00e8ne<\/p>\n

Le syst\u00e8me cationique UV n'a pas d'effet de blocage de l'oxyg\u00e8ne, mais craint davantage l'eau, l'humidit\u00e9 affectant l'efficacit\u00e9 du durcissement du syst\u00e8me cationique ; les radicaux libres UV sont \u00e0 l'oppos\u00e9 et sont davantage affect\u00e9s par le blocage de l'oxyg\u00e8ne.<\/p>\n

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2. Adh\u00e9sion au substrat<\/p>\n

En g\u00e9n\u00e9ral, dans les cas o\u00f9 il est plus difficile d'adh\u00e9rer \u00e0 la surface du substrat, comme le verre, le m\u00e9tal ou le plastique haute densit\u00e9, le cation UV est plus efficace que la base libre d'UV.<\/p>\n

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3. Taux de r\u00e9tr\u00e9cissement du volume<\/p>\n

Le taux de r\u00e9tr\u00e9cissement de la formulation du syst\u00e8me de radical libre UV est g\u00e9n\u00e9ralement sup\u00e9rieur \u00e0 10%, tandis que le syst\u00e8me de cation UV peut contr\u00f4ler le taux de r\u00e9tr\u00e9cissement de 1-3%, ce qui constitue une bonne solution pour r\u00e9soudre le probl\u00e8me du r\u00e9tr\u00e9cissement du volume.<\/p>\n

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4. Caract\u00e9ristiques de durcissement \u00e0 l'obscurit\u00e9<\/p>\n

Le syst\u00e8me de cation UV peut continuer \u00e0 r\u00e9agir \u00e0 la couche interne apr\u00e8s l'arr\u00eat de l'irradiation de la source lumineuse, pour compl\u00e9ter le mat\u00e9riau apr\u00e8s le durcissement, c'est la caract\u00e9ristique de durcissement sombre, tr\u00e8s appropri\u00e9e pour les applications de rev\u00eatement \u00e9pais, le chauffage du cation apr\u00e8s la vitesse de durcissement est consid\u00e9rablement utile ; le radical libre UV est un syst\u00e8me de r\u00e9action de type stop-and-go.<\/p>\n

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5. S\u00e9curit\u00e9 des contacts<\/p>\n

Le degr\u00e9 de r\u00e9action du syst\u00e8me de cation UV est proche de 100%, la s\u00e9curit\u00e9 peut \u00eatre certifi\u00e9e par les tests REACH \/ FDA, et peut \u00eatre utilis\u00e9e dans l'emballage alimentaire et d'autres domaines connexes.<\/p>\n

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6. Vitesse de durcissement de la lumi\u00e8re<\/p>\n

En g\u00e9n\u00e9ral, la vitesse de durcissement du syst\u00e8me radicalaire UV est sup\u00e9rieure \u00e0 celle du syst\u00e8me cationique, affect\u00e9 par des produits bloquant l'oxyg\u00e8ne, le s\u00e9chage de la surface cationique sera plus rapide, mais la vitesse de s\u00e9chage r\u00e9elle n'est pas aussi rapide que celle du radical libre, vous pouvez promouvoir la r\u00e9action en chauffant, et finalement atteindre un tr\u00e8s bon degr\u00e9 d'ach\u00e8vement.<\/p>\n

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Notes de formulation<\/p>\n

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Le syst\u00e8me de cation UV peut \u00eatre m\u00e9lang\u00e9 au syst\u00e8me de radical libre UV dans n'importe quelle proportion, appel\u00e9 syst\u00e8me hybride UV, ce qui peut am\u00e9liorer la vitesse de durcissement relative du cation UV et le retrait du radical libre UV, affect\u00e9 par la barri\u00e8re \u00e0 l'oxyg\u00e8ne et d'autres d\u00e9fauts, la m\u00eame \u00e9paisseur de film de la diff\u00e9rence d'\u00e9nergie de durcissement du syst\u00e8me n'est pas grande.<\/p>\n

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Le syst\u00e8me de cation UV repose sur l'initiateur g\u00e9n\u00e9r\u00e9 par l'acide fort de Lewis pour r\u00e9aliser le point actif de la r\u00e9action d'ouverture de cycle, la formule affectera g\u00e9n\u00e9ralement l'activit\u00e9 de l'initiateur du mat\u00e9riau, qui est principalement constitu\u00e9 de pigments organiques azo\u00efques (pouvant \u00eatre modifi\u00e9s pour assurer la protection), et de radicaux libres m\u00e9lang\u00e9s \u00e0 TPO\/819\/907 et \u00e0 d'autres structures contenant des \u00e9l\u00e9ments P, S et autres de l'initiateur, et similaire \u00e0 115 amine \u00e0 plusieurs niveaux.<\/p>\n

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L'humidit\u00e9 a un impact plus important sur le durcissement du syst\u00e8me de cation UV, le contr\u00f4le de l'humidit\u00e9 ambiante dans la zone 50% est appropri\u00e9 ; tandis que le chauffage acc\u00e9l\u00e8re la vitesse de r\u00e9action.<\/p>\n

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Photoinitiateur UV<\/span><\/a> Produits de la m\u00eame s\u00e9rie<\/strong><\/h2>\n

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Photoinitiateur TPO<\/span><\/a><\/td>\nCAS 75980-60-8<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur TMO<\/span><\/a><\/td>\nCAS 270586-78-2<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur PD-01<\/span><\/a><\/td>\nCAS 579-07-7<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur PBZ<\/span><\/a><\/td>\nCAS 2128-93-0<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur OXE-02<\/span><\/a><\/td>\nCAS 478556-66-0<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur OMBB<\/span><\/a><\/td>\nCAS 606-28-0<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur MPBZ (6012)<\/span><\/a><\/td>\nCAS 86428-83-3<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur MBP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 134-84-9<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur MBF<\/span><\/a><\/td>\nCAS 15206-55-0<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur LAP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 85073-19-4<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur ITX<\/span><\/a><\/td>\nCAS 5495-84-1<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur EMK<\/span><\/a><\/td>\nCAS 90-93-7<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur EHA<\/span><\/a><\/td>\nCAS 21245-02-3<\/td>\n<\/tr>\n
Photo-initiateur EDB<\/span><\/a><\/td>\nCAS 10287-53-3<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur DETX<\/span><\/a><\/td>\nCAS 82799-44-8<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur CQ \/ Camphorquinone<\/span><\/a><\/td>\nCAS 10373-78-1<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur CBP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 134-85-0<\/td>\n<\/tr>\n
Photo-initiateur BP \/ Benzoph\u00e9none<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119-61-9<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur BMS<\/span><\/a><\/td>\nCAS 83846-85-9<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 938<\/span><\/a><\/td>\nCAS 61358-25-6<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 937<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71786-70-4<\/td>\n<\/tr>\n
Photo-initiateur 819 DW<\/span><\/a><\/td>\nCAS 162881-26-7<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 819<\/span><\/a><\/td>\nCAS 162881-26-7<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 784<\/span><\/a><\/td>\nCAS 125051-32-3<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 754<\/span><\/a><\/td>\nCAS 211510-16-6 442536-99-4<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 6993<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71449-78-0<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 6976<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71449-78-0 89452-37-9 108-32-7<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 379<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119344-86-4<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 369<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119313-12-1<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 160<\/a><\/span><\/td>\nCAS 71868-15-0<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 1206<\/span><\/a><\/td>\n<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiateur 1173<\/span><\/a><\/td>\nCAS 7473-98-5<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n

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Un itin\u00e9raire de s\u00e9lection pratique pour les projets li\u00e9s aux photoinitiateurs<\/h2>\n

Lorsque les acheteurs techniques ou les formulateurs \u00e9valuent des photoinitiateurs, le cadre de d\u00e9cision le plus utile concerne g\u00e9n\u00e9ralement la qualit\u00e9 de la polym\u00e9risation associ\u00e9e \u00e0 l'ad\u00e9quation \u00e0 l'application : quel paquet polym\u00e9rise de mani\u00e8re fiable, maintient une apparence acceptable et fonctionne toujours sous la lampe, l'\u00e9paisseur du film et les conditions du substrat du processus r\u00e9el.<\/p>\n