{"id":5342,"date":"2022-07-01T12:12:25","date_gmt":"2022-07-01T12:12:25","guid":{"rendered":"https:\/\/longchangchemical.com\/?p=5342"},"modified":"2026-04-28T10:42:02","modified_gmt":"2026-04-28T10:42:02","slug":"how-to-reduce-the-shrinkage-of-uv-glue","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/longchangchemical.com\/fr\/how-to-reduce-the-shrinkage-of-uv-glue\/","title":{"rendered":"Comment r\u00e9duire le retrait de la colle UV ? Quelles sont les m\u00e9thodes ?"},"content":{"rendered":"

Comment r\u00e9duire le retrait de la colle UV ? Quelles sont les m\u00e9thodes ?<\/strong><\/h1>\n

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Quick answer:<\/strong> In most UV systems, photoinitiators are selected by balancing wavelength fit, through-cure, color control, and line speed. Buyers usually compare a blended package instead of one isolated product.<\/p>\n

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Le processus de durcissement de l'adh\u00e9sif UV comporte un processus de g\u00e9lification. Avant la g\u00e9lification, le syst\u00e8me reste fluide malgr\u00e9 le retrait, tandis qu'apr\u00e8s la g\u00e9lification, le mouvement mol\u00e9culaire est entrav\u00e9 et les r\u00e9actions de durcissement ult\u00e9rieures sont la principale cause de la contrainte de retrait. Par cons\u00e9quent, la contrainte de retrait n'est pas proportionnelle au retrait volum\u00e9trique de l'ensemble du processus de durcissement. Elle d\u00e9pend plut\u00f4t du retrait volum\u00e9trique apr\u00e8s la g\u00e9lification. Plus les fonctionnalit\u00e9s des r\u00e9actifs sont \u00e9lev\u00e9es, plus le degr\u00e9 de r\u00e9action des groupes fonctionnels est faible lors de la g\u00e9lification. Par cons\u00e9quent, un syst\u00e8me r\u00e9actionnel \u00e0 haut degr\u00e9 de fonctionnalit\u00e9 produira une contrainte de r\u00e9tr\u00e9cissement plus \u00e9lev\u00e9e apr\u00e8s le durcissement.<\/p>\n

Moyens de r\u00e9duire le r\u00e9tr\u00e9cissement de l'adh\u00e9sif UV<\/p>\n

1. Formulation de colles UV en utilisant des monom\u00e8res et des oligom\u00e8res \u00e0 faible retrait<\/p>\n

In the UV glue formula, the use of low viscosity acrylate oligomer and less dilution monomer is also an effective way to reduce the shrinkage rate. Formulators often compare Monom\u00e8re IBOA<\/a> for lower stress with Monom\u00e8re TMPTA<\/a> for higher reactivity and crosslink density.<\/p>\n

2. Polym\u00e8re ou charge inorganique ajout\u00e9e \u00e0 la colle UV<\/p>\n

Dans la m\u00e9thode d'ajout de polym\u00e8res, le syst\u00e8me nouvellement g\u00e9n\u00e9r\u00e9 et les polym\u00e8res pr\u00e9ajout\u00e9s entre la s\u00e9paration de phase qui se produit parfois pendant le processus de durcissement, peuvent \u00e9galement compenser une partie du r\u00e9tr\u00e9cissement du volume. Toutefois, l'inconv\u00e9nient de cette s\u00e9paration de phase est qu'elle r\u00e9duit la transparence du produit durci. Il a \u00e9t\u00e9 rapport\u00e9 que l'ajout d'ac\u00e9tate de polyvinyle, d'ac\u00e9tal de polyvinyle, de polyester et d'autres polym\u00e8res thermoplastiques au syst\u00e8me de polym\u00e9risation radicalaire peut entra\u00eener une r\u00e9duction significative du retrait volum\u00e9trique.<\/p>\n

3. L'utilisation d'une m\u00e9thode de durcissement cationique ou hybride<\/p>\n

La colle UV cationique utilise des monom\u00e8res de r\u00e9sine \u00e9poxy et d'\u00e9ther vinylique, avec des sels d'ium comme photo-initiateurs. Le taux de r\u00e9tr\u00e9cissement de la r\u00e9action de durcissement cationique de la r\u00e9sine \u00e9poxyde est beaucoup plus faible que celui de la r\u00e9action radicalaire, de sorte que le taux de r\u00e9tr\u00e9cissement du durcissement peut \u00eatre r\u00e9duit en utilisant la formule cationique.<\/p>\n

La colle UV hybride est un syst\u00e8me mixte de type radicalaire et cationique, g\u00e9n\u00e9ralement sous la forme d'un m\u00e9lange de compos\u00e9s acryliques et \u00e9poxydiques. Ce syst\u00e8me hybride de durcissement par UV peut am\u00e9liorer l'efficacit\u00e9 de l'amor\u00e7age lorsqu'il est photo-initi\u00e9, exploiter pleinement les avantages des deux, r\u00e9duire le retrait volumique et avoir de bons effets synergiques sur d'autres propri\u00e9t\u00e9s.<\/p>\n

En outre, en fonction des exigences du processus, les UV et d'autres m\u00e9thodes de durcissement peuvent \u00e9galement \u00eatre utilis\u00e9s pour le m\u00e9lange, comme le durcissement aux UV et \u00e0 la chaleur ou la m\u00e9thode de durcissement ana\u00e9robie du m\u00e9lange, ce qui peut \u00e9galement r\u00e9duire le retrait de durcissement.<\/p>\n

4. Ajout du monom\u00e8re de gonflement<\/p>\n

D'apr\u00e8s la r\u00e9action de polym\u00e9risation cationique de la r\u00e9sine \u00e9poxy, la r\u00e9action de polym\u00e9risation \u00e0 anneau ouvert est plus rapide que l'addition de la r\u00e9action de polym\u00e9risation, et le taux de r\u00e9tr\u00e9cissement du volume est plus faible. Pour les monom\u00e8res monocycliques, pour chaque distance de van der Waals convertie en distance de liaison covalente, il y a une distance covalente convertie en distance de van der Waals. Le retrait et le gonflement qui en r\u00e9sultent peuvent \u00eatre partiellement compens\u00e9s. D'autres \u00e9tudes ont r\u00e9v\u00e9l\u00e9 que l'ampleur de la contraction du volume de la r\u00e9action de polym\u00e9risation par ouverture de cycle est li\u00e9e \u00e0 la taille de l'anneau. Lorsque la taille de l'anneau augmente, la distance entre les atomes de carbone et d'oxyg\u00e8ne qui \u00e9tablissent des liaisons covalentes se rapproche de la distance de van der Waals, et la contraction du volume diminue donc. \u00c0 l'heure actuelle, le co\u00fbt du monom\u00e8re de type spiro-anneau est tr\u00e8s \u00e9lev\u00e9, de sorte que son application pratique est encore tr\u00e8s limit\u00e9e, mais il s'agit d'une m\u00e9thode prometteuse pour \u00e9liminer le r\u00e9tr\u00e9cissement de la colle UV.<\/p>\n

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How formulators usually evaluate this photoinitiator topic<\/h2>\n

When technical buyers or formulators screen photoinitiators, the most useful decision frame is usually cure quality plus application fit: which package cures reliably, keeps appearance acceptable, and still works under the lamp, film thickness, and substrate conditions of the actual process.<\/p>\n