{"id":5871,"date":"2023-01-27T14:45:46","date_gmt":"2023-01-27T14:45:46","guid":{"rendered":"https:\/\/longchangchemical.com\/?p=5871"},"modified":"2026-04-28T10:42:14","modified_gmt":"2026-04-28T10:42:14","slug":"solve-the-pcb-circuit-board-photoresist-white-oil-yellowing","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/longchangchemical.com\/de\/solve-the-pcb-circuit-board-photoresist-white-oil-yellowing\/","title":{"rendered":"Wie kann man die Vergilbung des Fotolacks auf der Leiterplatte beheben?"},"content":{"rendered":"

Wie kann man die Vergilbung des Fotolacks auf der Leiterplatte beheben?<\/strong><\/h1>\n

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Quick answer:<\/strong> Photoinitiator choice is usually driven by lamp match, cure depth, yellowing, and whether the final film still performs on the real substrate. The best package is rarely the cheapest single grade.<\/p>\n

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Leiterplatte Photoresist Wei\u00df\u00f6l geh\u00f6rt zu den Leiterplatten Photoresist Tinte, und Photoresist Tinte hat viele gemeinsame Punkte, sind von Harz, Monomer, Initiator, Verd\u00fcnner, F\u00fcllstoff, Farbpulver, Zusatzstoffe, der Hauptunterschied ist in der Verwendung von verschiedenen Rohstoffen reflektiert, ist dieser Artikel aus dem Harz, Initiator, Farbpulver und Zusatzstoffe, um die Ursachen der Photoresist Wei\u00df\u00f6l Vergilbung zu analysieren und die Methode zu verbessern.<\/p>\n

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I. Harz<\/strong><\/h2>\n

Die erste Diskussion ist das Harz, es ist bekannt, dass das Harz das Skelett der Tinte ist wesentlich f\u00fcr die Photoresist Wei\u00df\u00f6l Harz ist besonders wichtig, Photoresist Tinte (wie gr\u00fcnes \u00d6l, schwarzes \u00d6l, blaues \u00d6l) in das Harz mehr als o-Kresol Novolac Epoxidharz oder Bisphenol A Epoxidharz aus der ersten Pfropf Acryls\u00e4ure modifiziert, um eine fotografische Gruppe Doppelbindung einzuf\u00fchren, und dann Pfropf Anhydrid, um Alkali-Entwickler-Gruppe Carboxylgruppe einzuf\u00fchren. Das Harz dieser Struktur hat eine Benzolringstruktur, und die Benzolringstruktur ist leicht freie Radikale in UV-Strahlung zu produzieren und erzeugen ein konjugiertes System mit Farbe-emittierenden Gruppen, und schlie\u00dflich ist es leicht zu vergilben.<\/p>\n

Diese Struktur des Harzes aus Photoresist Wei\u00df\u00f6l Vergilbung ist schwerwiegender, im Grunde kann nicht den Bed\u00fcrfnissen der Kunden, so dass die aktuelle Photoresist Wei\u00df\u00f6l mit dem Harz ist meist Acrylharz, in der Regel mit einer Epoxy-Gruppe von Acrylat-Copolymer, dann Pfropfen Acryls\u00e4ure, um eine fotografische Gruppe Doppelbindung, und schlie\u00dflich Pfropfen Anhydrid, um Alkali-Entwickler-Gruppe Carboxyl-Gruppe.<\/p>\n

Diese Acryl-Struktur der Alkali-Entwickler-Harz ist aufgrund der aliphatischen Acryl-Epoxidharz, ultraviolettes Licht oder hohe Temperatur ist nicht leicht zu produzieren f\u00e4rbende Gruppen, feste Anti-Vergilbung Wirkung mehr ausgezeichnet werden.<\/p>\n

2. der Initiator<\/strong><\/h2>\n

Da dieses Papier diskutiert die Photoresist Wei\u00df\u00f6l, ist das System nat\u00fcrlich weniger Fotoinitiatoren. Fotolack Tinte System Initiator ist meist Isopropylthioanthron (ITX), 2-Methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholin-1-propanon (907), 2-Benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl) butanone (369), dieser Initiator System photoinitiating Aktivit\u00e4t ist sehr hoch, im Grunde kann die Verwendung der meisten Fotolack Tinte erf\u00fcllen, aber solche Initiatoren Das gemeinsame Merkmal ist, dass diese Initiatoren enthalten Schwefel, Stickstoff und andere Heteroatome, nach ultravioletter Strahlung ist auch leicht zu produzieren Chromophore und Vergilbung, so dass diese Initiator-System ist nicht geeignet f\u00fcr die Verwendung von Photoresist Wei\u00df\u00f6l.<\/p>\n

Photoresist Wei\u00df\u00f6l wird derzeit mehr Initiator-System ist nicht leicht zu produzieren Vergilbung Produkte, wie 1-Hydroxycyclohexylphenylketon (HCPK), 2,4,6-Trimethylbenzoyl-Diphenyl-Phosphin-Oxid (TPO), Phenyl bis (2,4,6-Trimethylbenzoyl) Phosphinoxid (819), vor allem TPO, ist es ein freies Radikal Fotoinitiator, geeignet f\u00fcr niedrige Vergilbung und wei\u00dfes System, mit photobleaching Wirkung.<\/p>\n

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Fotoinitiator TPO<\/span><\/a><\/td>\nCAS 75980-60-8<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator TMO<\/span><\/a><\/td>\nCAS 270586-78-2<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator PD-01<\/span><\/a><\/td>\nCAS 579-07-7<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiator PBZ<\/span><\/a><\/td>\nCAS 2128-93-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator OXE-02<\/span><\/a><\/td>\nCAS 478556-66-0<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiator OMBB<\/span><\/a><\/td>\nCAS 606-28-0<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiator MPBZ (6012)<\/span><\/a><\/td>\nCAS 86428-83-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator MBP<\/span><\/a><\/td>\nCAS-NR. 134-84-9<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator MBF<\/span><\/a><\/td>\nCAS 15206-55-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator LAP<\/span><\/a><\/td>\nCAS 85073-19-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator ITX<\/span><\/a><\/td>\nCAS 5495-84-1<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiator EMK<\/span><\/a><\/td>\nCAS 90-93-7<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiator EHA<\/span><\/a><\/td>\nCAS 21245-02-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator EDB<\/span><\/a><\/td>\nCAS 10287-53-3<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator DETX<\/span><\/a><\/td>\nCAS 82799-44-8<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiator CQ \/ Campherchinon<\/span><\/a><\/td>\nCAS 10373-78-1<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator CBP<\/span><\/a><\/td>\nCAS-NR. 134-85-0<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiator BP \/ Benzophenon<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119-61-9<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator BMS<\/span><\/a><\/td>\nCAS 83846-85-9<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiator 938<\/span><\/a><\/td>\nCAS 61358-25-6<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiator 937<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71786-70-4<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 819 DW<\/span><\/a><\/td>\nCAS 162881-26-7<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiator 819<\/span><\/a><\/td>\nCAS 162881-26-7<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiator 784<\/span><\/a><\/td>\nCAS 125051-32-3<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiator 754<\/span><\/a><\/td>\nCAS 211510-16-6 442536-99-4<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiator 6993<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71449-78-0<\/td>\n<\/tr>\n
Fotoinitiator 6976<\/span><\/a><\/td>\nCAS 71449-78-0 89452-37-9 108-32-7<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiator 379<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119344-86-4<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiator 369<\/span><\/a><\/td>\nCAS 119313-12-1<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiator 160<\/a><\/span><\/td>\nCAS 71868-15-0<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiator 1206<\/span><\/a><\/td>\n<\/td>\n<\/tr>\n
Photoinitiator 1173<\/span><\/a><\/td>\nCAS-NR. 7473-98-5<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n

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Drei, Farbpulver<\/strong><\/h2>\n

Photoresist Tinte mit sehr wenig Farbpulver, in der Regel Phthalocyanin blau, Phthalocyanin gr\u00fcn und andere organische Farbpulver, die H\u00f6he der Zusatzstoff sind in der Regel in ein paar Teile pro Million bis ein paar Tausendstel, und Photoresist Wei\u00df\u00f6l mit Farbpulver ist haupts\u00e4chlich Titandioxid, der Inhalt ist in der Regel in 20-40%, der aktuelle Markt Mainstream-Titandioxid Anatas und Rutil, Anatas-Titandioxid in Lichtstreuung, Wei\u00dfgrad und Abdeckung sind besser, aber die Wetterbest\u00e4ndigkeit zu Poorer, w\u00e4hrend die Anatas-Titandioxid selbst auf das Polymer und die Nebenwirkungen der selbstkatalytischen Rissbildung Alterung; Rutil-Titandioxid wegen der Oberfl\u00e4chenbehandlung, so dass die Witterungsbest\u00e4ndigkeit ist besser, Photoresist Wei\u00df\u00f6l ist in eine Menge von Beleuchtungstafeln (z. B. Automobil-Licht-Panels, LED-Licht-Panels), langfristige Lichtexposition, die Witterungsbest\u00e4ndigkeit Anforderungen sind relativ hoch, so dass die bevorzugte Rutil-Titandioxid. Derzeit ist der Markt routinem\u00e4\u00dfig verwenden Titandioxid wie DuPont R706, R960, R103, Ishihara R680, etc.<\/p>\n

Dar\u00fcber hinaus Photoresist wei\u00dfes \u00d6l, um die Menschen f\u00fchlen sich mehr wei\u00dfe Wirkung, in der Regel f\u00fcgen Sie einige blau-Phase Farbpulver in das System, das traditionelle blau-Phase Phthalocyanin blau diese organischen blauen Pulver anf\u00e4llig f\u00fcr UV-Licht oder hohe Temperatur Alterung, in der Regel nicht verwendet werden; h\u00e4ufig verwendet wird Ultramarin, weil Ultramarin ist eine anorganische Substanz, nicht leicht zu l\u00f6sen bei hohen Temperaturen und nicht leicht zu knacken selbst Vergilbung, zus\u00e4tzlich zu Ultramarin kann Photoresist wei\u00dfes \u00d6l in das gelbe Licht zu beseitigen, um die Wirkung von wei\u00df. Die Wirkung von Wei\u00df.<\/p>\n

4. Zusatzstoffe<\/strong><\/h2>\n

Photoresist Wei\u00df\u00f6l-System mit dem Harz in hoher Temperatur oder langfristige UV-Strahlung wird Alterungsprozess, diese Alterung ist das Polymer Spaltung zu produzieren aktive Radikale fortgesetzt Reaktionsprozess, und dann Spaltung Alterung Vergilbung, so Photoresist Wei\u00df\u00f6l zus\u00e4tzlich zum Hinzuf\u00fcgen von Nivellierungsmittel, Dispergiermittel, Entsch\u00e4umer und andere allgemeine Zusatzstoffe, m\u00fcssen Sie die spezifischen Anti-Vergilbung Zusatzstoffe, die aktuelle Verwendung von Antioxidantien sind vor allem die folgenden drei .<\/p>\n

4.1 Amin-Antioxidationsmittel<\/p>\n

Amin Antioxidans Prinzip der Aktion ist zu verhindern oder zu hemmen, die Kette Initiierung Reaktion und Kette Wachstum Reaktion durch die Erfassung von Peroxy-Radikale, wodurch die freie Radikale Kettenreaktion zu verhindern, dass Oxidation, kurz gesagt, um die Anti-Aging-Effekt, wie p-Phenylendiamin, Phenothiazin, aber es ist leicht zu oxidieren und verf\u00e4rbt, in der Photoresist Wei\u00df\u00f6l ist nicht einfach hinzuzuf\u00fcgen.<\/p>\n

4.2 Phenolische Antioxidantien<\/p>\n

Bit-blockierende phenolische Antioxidantien sind phenolische Verbindungen mit r\u00e4umlich gehinderter Struktur, wie BASF Irganox 1010, Irganox 1076, Japan Sumitomo GA-80.<\/p>\n

Das Wirkprinzip der ortsgebundenen phenolischen Antioxidantien besteht haupts\u00e4chlich darin, die reaktiven freien Radikale abzufangen, um inaktive freie Radikale zu erzeugen, so dass die Kettenreaktion beendet wird; der Wirkmechanismus ist wie folgt.<\/p>\n

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Diese Art von Antioxidationsmittel ist ein allgemeines Antioxidationsmittel f\u00fcr Fotolack-Wei\u00df\u00f6l, das im Allgemeinen nicht allein verwendet wird, und Hilfsantioxidationsmittel mit der besten Wirkung.<\/p>\n

4.3 Zus\u00e4tzliches Antioxidans<\/p>\n

Hilfs-Antioxidantien sind vor allem synergistisch mit Bit-blocking phenolischen Antioxidantien, diese Kategorie ist vor allem Phosphit-Ester und Thioester, ihre Rolle ist vor allem zu zerst\u00f6ren, die Polymer-Alterung durch Hydroperoxide erzeugt, und rechtzeitig zu stoppen, die Polymer-Selbst-Oxidation Prozess. Derzeit ist der Markt f\u00fcr diese Produkte sind vor allem Phosphit-Ester-Klasse drei [2,4-di-tert-Butylphenyl] Phosphit (allgemein bekannt als Antioxidans 168).<\/p>\n

Photoresist Wei\u00df\u00f6l ist in der Regel mit Bit resist Phenol Antioxidans und Hilfsmittel Antioxidans, der Markt hat mit dem Produkt, vor allem in Kunststoff-Hochtemperatur-Spritzguss, und die Anwendung von Photoresist Wei\u00df\u00f6l m\u00fcssen auch Gegenstand von experimentellen Ergebnissen.<\/p>\n

Bei der Entwicklung von Photoresist-Wei\u00df\u00f6l sollten Sie sich auf die oben genannten Punkte konzentrieren, auf die Auswahl und Abstimmung der Rohstoffe achten und schlie\u00dflich durch die Optimierung der Rezeptur schnell ein Photoresist-Wei\u00df\u00f6l mit ausgezeichneter Vergilbungsbest\u00e4ndigkeit entwickeln.<\/p>\n

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A practical selection route for photoinitiator-related projects<\/h2>\n

When technical buyers or formulators screen photoinitiators, the most useful decision frame is usually cure quality plus application fit: which package cures reliably, keeps appearance acceptable, and still works under the lamp, film thickness, and substrate conditions of the actual process.<\/p>\n