{"id":5255,"date":"2022-05-23T13:21:37","date_gmt":"2022-05-23T13:21:37","guid":{"rendered":"https:\/\/longchangchemical.com\/?p=5255"},"modified":"2026-04-28T10:42:00","modified_gmt":"2026-04-28T10:42:00","slug":"the-complete-guide-to-photoresist","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/longchangchemical.com\/de\/the-complete-guide-to-photoresist\/","title":{"rendered":"2023 Der vollst\u00e4ndige Leitfaden f\u00fcr Photoresist"},"content":{"rendered":"

2023 Der vollst\u00e4ndige Leitfaden f\u00fcr Photoresist<\/strong><\/h1>\n

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Schnelle Antwort:<\/strong> Die Wahl des Fotoinitiators h\u00e4ngt \u00fcblicherweise von der Lampenanpassung, der Aush\u00e4rtungstiefe, der Vergilbung und der Frage ab, ob der fertige Film auf dem realen Substrat noch funktioniert. Die beste L\u00f6sung ist selten die g\u00fcnstigste Einzelproduktvariante.<\/p>\n

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For negative photoresist development, Fotoinitiator OXE-02<\/a> is a useful product reference when evaluating cure speed and imaging performance under UV exposure.<\/p>\n

Fotolack, auch Photoresist genannt, ist ein lichtempfindliches Fl\u00fcssigkeitsgemisch. Es besteht aus Photoinitiator, Photoresistharz, Monomer, L\u00f6sungsmittel und anderen Zus\u00e4tzen. Photoresist ist eine Art grafisches \u00dcbertragungsmedium, mit dem Grafiken in Maskenform nach der Lichtreaktion auf ein Substrat mit unterschiedlicher L\u00f6slichkeit \u00fcbertragen werden k\u00f6nnen. Gegenw\u00e4rtig wird Fotolack in gro\u00dfem Umfang f\u00fcr die Herstellung feiner grafischer Linien in der optoelektronischen Informationsindustrie verwendet. Er ist eines der wichtigsten Materialien im Bereich der Elektronikfertigung.
\nJe nach Wellenl\u00e4nge des Lichts kann Photoresist in Ultraviolett-Photoresist (300-450nm), Tief-Ultraviolett-Photoresist (160-280nm), Extrem-Ultraviolett-Photoresist (EUV, 13,5nm), Elektronenstrahl-Photoresist, Ionenstrahl-Photoresist, R\u00f6ntgenstrahl-Photoresist usw. unterteilt werden. Generell gilt: Je k\u00fcrzer die Wellenl\u00e4nge, desto besser ist die Verarbeitungsaufl\u00f6sung bei gleicher Prozessmethode.
\nEntsprechend den verschiedenen Anwendungen k\u00f6nnen Fotolacke in Fotolacke f\u00fcr gedruckte Schaltungen (PCBs), Fl\u00fcssigkristallanzeigen (LCDs), Halbleiter und andere Anwendungen unterteilt werden. Die technischen H\u00fcrden f\u00fcr PCB-Fotoresists sind im Vergleich zu den beiden anderen Kategorien relativ niedrig, w\u00e4hrend Halbleiter-Fotoresists das fortschrittlichste Technologieniveau von Photoresists darstellen.
\nNach ihrer chemischen Struktur lassen sich Photoresists in photopolymere, photolytische, photovernetzte und chemisch \u00fcberh\u00f6hte Photoresists unterteilen. Photopolymere Photoresists verwenden Alkenmonomere, um unter Lichteinwirkung freie Radikale zu erzeugen, die wiederum die Polymerisation von Monomeren ausl\u00f6sen und schlie\u00dflich Polymere erzeugen. Photolytische Photoresiste verwenden Diazochinone (DQN) als Photorezeptoren, die durch photolytische Reaktion nach der Beleuchtung zu positiven Photoresisten gemacht werden k\u00f6nnen; photovernetzte Photoresiste verwenden Polyvinyllaurat als lichtempfindliches Material, das zu negativen Photoresisten gemacht werden kann, indem es unter Lichteinwirkung eine unl\u00f6sliche Netzstruktur bildet und korrosionsbest\u00e4ndig ist. Nach dem Einsatz tief ultravioletter (DUV) Lichtquellen in der Lithografie integrierter Halbleiterschaltungen hat sich die Technologie der chemischen Verst\u00e4rkung (CAR) allm\u00e4hlich zum Hauptbestandteil der industriellen Anwendungen entwickelt. Bei der CAR-Technologie ist das Harz ein Polyethylen, das durch chemische Gruppen gesch\u00fctzt ist und sich daher nur schwer aufl\u00f6st. Chemisch verst\u00e4rkte Fotolacke verwenden Fotos\u00e4uren (PAGs) als Fotoinitiatoren. Bei der Belichtung des Fotolacks wird durch die PAG im belichteten Bereich eine S\u00e4ure gebildet. Diese S\u00e4ure wirkt w\u00e4hrend des Einbrennvorgangs nach dem Erhitzen als Katalysator und entfernt die Schutzgruppen des Harzes, wodurch das Harz leicht l\u00f6slich wird. Chemisch verst\u00e4rkte Fotolacke sind 10-mal schneller als DQN-Fotolacke und haben eine gute optische Empfindlichkeit gegen\u00fcber tiefen UV-Lichtquellen, einen hohen Kontrast und eine hohe Aufl\u00f6sung.
\nFotolack ist ein wichtiges Material f\u00fcr die IC-Herstellung: die Qualit\u00e4t und Leistung von Fotolack ist ein Schl\u00fcsselfaktor f\u00fcr die IC-Leistung, Ausbeute und Zuverl\u00e4ssigkeit, die Kosten der Fotolithographie-Prozess ist etwa 35% der gesamten Chip-Herstellungsprozess, und dauert etwa 40-50% der Zeit des gesamten Chip-Prozess, die Kosten f\u00fcr Fotolack entfallen etwa 4% der Gesamtkosten der IC-Herstellung Materialien, der Markt ist riesig. Nach Angaben des unabh\u00e4ngigen Instituts Wisdom Research Consulting wird sich der weltweite Markt f\u00fcr Fotolacke im Jahr 2019 voraussichtlich auf fast $9 Mrd. belaufen, mit einer CAGR von etwa 5,4% seit 2010 bis heute. Es wird erwartet, dass der Markt in den n\u00e4chsten drei Jahren weiterhin mit einer durchschnittlichen j\u00e4hrlichen Rate von 5% wachsen wird, und die Gr\u00f6\u00dfe des globalen Photoresist-Marktes wird bis 2022 mehr als 10 Milliarden USD betragen. Die Photoresist-Industrie hat sehr hohe Branchenbarrieren, so dass die Branche weltweit eine Oligopolsituation darstellt. Die Fotolackindustrie wird seit vielen Jahren von japanischen und amerikanischen Fachunternehmen monopolisiert. Gegenw\u00e4rtig halten die f\u00fcnf gr\u00f6\u00dften Hersteller 87% des weltweiten Photoresist-Marktes, und die Branche ist stark konzentriert. Unter ihnen erreicht der Marktanteil von Japan JSR, Tokyo E&C, Japan Shin-Etsu und Fuji Electronic Materials zusammen 72%. Die Kerntechnologie der hochaufl\u00f6senden KrF- und ArF-Halbleiterphotoresiste wird im Wesentlichen von japanischen und amerikanischen Unternehmen monopolisiert, und die meisten Produkte stammen von japanischen und amerikanischen Unternehmen wie DuPont, JSR Corporation, Shin-Etsu Chemical, Tokyo Chemical Industry, Fujifilm und Korea Dongjin. Der gesamte Fotolackmarkt ist in Japan angesiedelt, dem gr\u00f6\u00dften Zentrum der Fotolackindustrie. Gegenw\u00e4rtig ist das chinesische Festland bei elektronischen Materialien, insbesondere bei Fotolacken, stark vom Ausland abh\u00e4ngig. Daher ist es ein unvermeidlicher Trend, die inl\u00e4ndische Produktion von Halbleitermaterialien zu ersetzen.<\/p>\n

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Eine praktische Auswahlroute f\u00fcr fotochemisch initiierte Projekte<\/h2>\n

Wenn technische Eink\u00e4ufer oder Formulierer Photoinitiatoren pr\u00fcfen, ist der n\u00fctzlichste Entscheidungsrahmen normalerweise die Aush\u00e4rtungsqualit\u00e4t plus die Anwendungsanpassung: welches Paket zuverl\u00e4ssig aush\u00e4rtet, ein akzeptables Erscheinungsbild beh\u00e4lt und unter den Bedingungen von Lampe, Schichtdicke und Substrat des tats\u00e4chlichen Prozesses noch funktioniert.<\/p>\n